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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark fasWb&~z 译:讯技科技股份有限公司 )C8^'*! 校:讯技科技股份有限公司 AuXUD9- *XhlIQ 书籍概况: FFcCoPX_ '2r Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 UGO;5! 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 d,(y$V+ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 -`k>(\Q<d bu _ @>`S 书籍目录 2 L4[~> _
l`F}v 1 引言 larv6ncV 2 光学薄膜基础 N3L$"g5^ 2.1 一般规则 ZxnPSA@% 2.2 正入射规则 _ Lh0 2.3 斜入射规则 Df4O~j$U"s 2.4 精确计算 _'!?fA 2.5 相干性 ['}|#3*w 3 Essential Macleod的快速预览 /(BS<A 4 Essential Macleod的特点 kT@ITA22 4.1 容量和局限性 o&1mX 4.2 程序在哪? 1YV1Xnn, 4.3 数据文件 F6q=W#~ 4.4 设计规则 J=3{<Xl 4.5 材料数据库和目录库 @n)?=[p 4.5.1 材料数据库及导入材料 L}*o8l` 4.5.2 材料目录库 x *I'Ar 4.5.3 导出材料数据 F+H]{ss> 4.6 常用单位 gGVt( ^ 4.7 插值 "mJo<i} 4.8 材料数据的平滑 *B|hRZka1A 4.9 一般文档编辑规则 ;O hQBAC 4.10 设计文档 L>14=Pr^( 4.10.1 公式 %" H:z 4.10.2 更多关于膜层厚度 aH6j,R% 4.10.3 沉积密度 daKZ*B| 4.10.4 性能计算 #'&-S@/nQs 4.10.5 保存设计和性能 {A0F/#M] 4.10.6 默认设计 #g6 _)B=S 4.11 图表 bPFGQlmIO 4.11.1 合并曲线图 NRx 7S9W 4.11.2 自适应绘制 yf:0u_&] 4.11.3 动态参数图 XE2Un1i}j1 4.11.4 3D绘图 |Gz<I 4.12导入和导出 F `:Q 4.12.1 剪贴板 UmVn: a 4.12.2 不通过剪贴板导入 j_rO_m <8 4.12.3 不通过剪贴板导出 0OHXg= 4.13 背景(Context) K` N$nOw 4.14 扩展公式 - 生成设计 P}Ig6^[m\ 4.15 生成Rugate U^7hw(}me 4.16 参考文献 ~},H+A!? 5 在Essential Macleod中建立一个Job EcHZmf 5.1 Jobs rd->@s|4mT 5.2 创建一个新的Job mHMsK}=~ 5.3 输入材料 uY~mi9E 5.4 设计数据文件夹 K7&]|^M9 5.5 默认设计 fh =R 6 细化和合成 961&rR}d 6.1 最优化导论 la{?&75] 6.2 细化 [1(eSH 6.3 合成 w~B1TfqNo 6.4 目标和评价函数 _W(xO
|,M 6.4.1 目标输入 'QE8 6.4.2 目标关联 p_Xfj2E4c 6.4.3 特殊的评价函数 LkJq Bg 6.5 膜层锁定和关联 ZiR}S 6.6 优化技术 _(f@b1O~ 6.6.1 单纯形 z\tY A 6.6.1.1单纯形参数 h's[)
t 6.6.2 Optimac &pI\VIx ? 6.6.2.1 Optimac参数 |5;,]lbt 6.6.3 模拟退火算法 v>K|hH 6.6.3.1退火参数 L?u{v X 6.6.4 共轭梯度 |h $Gs2 6.6.4.1共轭梯度参数 Ia](CN*;6 6.6.5 拟牛顿法 DH\Ox>b= 6.6.5.1 拟牛顿法参数: ]rGd!"q 6.6.6 针形合成 i-0
:Fs 6.7 我应该使用哪种技术? Q%aF~ 6.7.1 细化 D?E
VzG 6.7.2 合成 EO+Ix7w 6.8 参考文献 FiQ&g*=| 7 导纳图和其他工具 %GjG.11V,_ 7.1 介绍 fAStM: 7.2 导纳变换 iOa<= 7.2.1 四分之一波长规则 9*iVv)jd 7.2.2 导纳轨迹图 VT>-* 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 n2*Ua/J-8 7.4 全介质抗反射膜的应用 rIPg,4y*S! 7.5 对称周期结构 h(q4
B~ 7.6 参考文献 >%6j -:S 8.典型的镀膜实例 ("A45\5 8.1 单层抗反射膜 ;t7F%cDA 8.2 1/4-1/4抗反射膜 <*iFVjSI( 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 =KR^0<2r 8.4 W-膜层 X ([^i;mr 8.5 V-膜层 TH4f"h+B3" 8.6 高折射基底V-膜层 %zc.b 8.7 高折射率基底b V-膜层 uu4!e{K 8.8 1/4-1/4高折射率基底 7y& |