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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark y>=Y MD 译:讯技科技股份有限公司 A{s-g>s 校:讯技科技股份有限公司 ,;t:x|{% 3g4=as4w 书籍概况: lPZ># ;\w3IAa|V Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 \H .Cmm^I 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 `"65 _?B i 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 T!]rdN! UWO3sZpU 书籍目录 =
zmxki KNmU2-%l 1 引言 _6fy'%J=U 2 光学薄膜基础 Q`*U U82! 2.1 一般规则 PR"x&JG@ 2.2 正入射规则 sAc1t` 2.3 斜入射规则 UdrgUqq) 2.4 精确计算 kS_#8I 2.5 相干性 )tBz=hy# 3 Essential Macleod的快速预览 9.(|ri 4 Essential Macleod的特点 b4L7]& 4.1 容量和局限性 zd%f5L(' 4.2 程序在哪? [ifw}( 4.3 数据文件 CtMqE+j^ 4.4 设计规则 BlpyE[h
T 4.5 材料数据库和目录库 ZY,$oFdsi 4.5.1 材料数据库及导入材料 :PBFFLe 4.5.2 材料目录库 bK6^<,~ 4.5.3 导出材料数据 8a*&,W 4.6 常用单位 SWw!s&lP& 4.7 插值 5 <k)tF% 4.8 材料数据的平滑 zV}:~;w 4.9 一般文档编辑规则 HsTY* ^V 4.10 设计文档 rSv,;v 4.10.1 公式 \2;!} 4.10.2 更多关于膜层厚度 1Z
~C3)T= 4.10.3 沉积密度 ez32k[eV! 4.10.4 性能计算 Q>4NUq 4.10.5 保存设计和性能 _yAY5TIv 4.10.6 默认设计 B](R(x>L 4.11 图表 9]+zZP_# 4.11.1 合并曲线图 <O=0 ^V 4.11.2 自适应绘制 OB9E30 4.11.3 动态参数图 F)~>4>hPr 4.11.4 3D绘图 ;-"!p 4.12导入和导出 ,ASNa^7/> 4.12.1 剪贴板 eV!(a8 4.12.2 不通过剪贴板导入 564L.^$@| 4.12.3 不通过剪贴板导出 [5'HlHK 4.13 背景(Context) xGyl7$J 4.14 扩展公式 - 生成设计 b;D 4.15 生成Rugate B`)sc ~u 4.16 参考文献 Y7+c/co 5 在Essential Macleod中建立一个Job <xSh13< 5.1 Jobs GXm#\) 5.2 创建一个新的Job /[lEZ['^ 5.3 输入材料 A-L1vu; 5.4 设计数据文件夹 0p[k7W u 5.5 默认设计 7*{l\^ism; 6 细化和合成 mfg>69,w 6.1 最优化导论 5|0/$ SWd* 6.2 细化 ?,7!kTRH 6.3 合成 '^m'r+B" 6.4 目标和评价函数 syLdm3d| 6.4.1 目标输入 HqsqUS3[ 6.4.2 目标关联 |pZ7k#% 6.4.3 特殊的评价函数 hzk!H]>E 6.5 膜层锁定和关联 xO:h[ 6.6 优化技术 9h+Hd&= 6.6.1 单纯形 ?J+jv 6.6.1.1单纯形参数 l[_antokn 6.6.2 Optimac 0xDn! 6.6.2.1 Optimac参数 OcMB)1uh\ 6.6.3 模拟退火算法 | eCVq(R 6.6.3.1退火参数 i 1w]j 6.6.4 共轭梯度 (KN",u6F 6.6.4.1共轭梯度参数 XM5)|D 6.6.5 拟牛顿法 @ NDcO,] 6.6.5.1 拟牛顿法参数: :0(^^6Q\ 6.6.6 针形合成 _)<5c! 6.7 我应该使用哪种技术? DjaXJ?' 6.7.1 细化 @TW:6v` 6.7.2 合成 DM v;\E~D 6.8 参考文献 +}at#%1@ 7 导纳图和其他工具 Zs t)S( 7.1 介绍 +JG05h%' 7.2 导纳变换 vh&~Y].W Y 7.2.1 四分之一波长规则 H0tu3Pqk 7.2.2 导纳轨迹图 !21G$[H 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 72RTEGy 7.4 全介质抗反射膜的应用 =Bc{0p* 7.5 对称周期结构 G6{PrV# 7.6 参考文献 rD$5]%Y 8.典型的镀膜实例 cXt&k 8.1 单层抗反射膜 QZ(O2!Mg 8.2 1/4-1/4抗反射膜 &k| EG![ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 v
-)<nox 8.4 W-膜层 Uu+ibVM$ 8.5 V-膜层 ;
Yc\O:Qq 8.6 高折射基底V-膜层 indbg
d 8.7 高折射率基底b V-膜层 %4rlB$x 8.8 1/4-1/4高折射率基底 +%[,
m& 8.9 四层抗反射膜 WwoT~O8R 8.10 Reichert抗反射膜 Yur}<>`( 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 D1deh= 8.12 宽波段6层抗反射膜 |UlR+'rl 8.13 宽波段8层抗反射膜 C$q-WoTM( 8.14 宽波段25层抗反射膜 ik?IC$*n3i 8.15 四层2-1 增透膜 0=7Ud< 8.16 1/4波长堆栈 (&)uWjq
` 8.17 陷波滤光器 a'-xCV|^ 8.18 Rugate lMW6D0^ 8.19 消偏振分光片1 >cjxu9Vr1K 8.20 消偏振分光片2
h8p{ 8.21 消偏振立体分光片 COWlsca 8.22 消偏振截止滤光片 ~7j-OWz9 8.23 偏振立体分光片1 S.iUiS" 8.24 偏振立体分光片2 \Qv:7;? 8.25 缓冲层 hx%UZ <a 8.26 红外截止滤光片 @>'Wiq! 8.27 21层长波通过光片 _}\KC+n8 8.28 49层长波通滤光片
tculG|/ 8.29 55层长波通滤光片 #,lbM%a 8.30 宽带通滤光片 y#Nrq9r: 8.31 诱导透射滤光片 vm*9xs 8.32 诱导透射滤光片2 K4Nz I9@ 8.33 简易密集型光波复用(DWDM)滤光片 *S<I!7Q 8.34 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤光片 =$~x] 8.35 增益平坦滤光片 n|=yw6aV' 8.36 啁啾反射镜1 4;Hm%20g 8.37 啁啾反射镜2 ?JRfhJ:j 8.38 啁啾反射镜3 GQ.akA_( 8.39 铝保护膜 KVoi>?a 8.40 铝反射增强膜 FDFVhcr 8.41 参考文献 u0+<[Ia'q 9 多层膜 <;b 9.1 多层膜基本原理—堆栈 wN0?~ 9.2 内透过率 WV|9d}5 9.3 简单例子 yYk?K<ou 9.4 简单例子2 $1 Z3yb^
9.5 圆锥和带宽计算 )086u8w )y 9.6 在Design中加入堆栈进行计算 [daR)C 10 光学镀膜色彩 D 5Z7?Y 10.1 介绍 v"sU87+ 10.2 色彩 Ax!@vL&@ 10.3 主色调和纯度 2j>C4Ck 10.4 色度和浓度 odcrP\S 10.5 薄膜的颜色和最优化颜色刺激 =`(\]t"I 10.6 Essential Macleod中的色彩计算 VJgf,
5 (N 10.7 参考文献 nM$-L.dG 11 薄膜中的短脉冲现象 W89J]#v)k 11.1 短脉冲 +x:VIi 11.2 群速度 3@;24X 11.3 群速度色散 qP%[nY 11.4 啁啾 a 6fH *2E 11.5 光学薄膜—相变 <&M5#:u 11.6 群延时和群延迟色散 QmPHf*w[ 11.7 色散 *i7-_pT 11.8 色散补偿 Zr\G=0` 11.9 空间光线移位 c$hoqi |tD 11.10 参考文献 {\!@k\__ 12 公差与误差 x4_FG{AIu 12.1 蒙特卡罗模型 exm*p/ 12.2 Essential Macleod中的误差分析工具 \HJ t } 12.2.1 误差分析工具 i6h0_q8
> 12.2.2 灵敏度工具 rlDJHR6 12.2.2.1 Independent Sensitivity TU8K\;l] 12.2.2.2 灵敏度分布 +qF,XJ2 12.2.3 Simulator—一个更高级模型 xaSiG 12.3 参考文献 K)8 m?sf/ 13 Runsheet 与Simulator O~#OVFJ9= 13.1 基本原理 <_Po/a!c3 13.2 边带滤光片设计 fAR0GOI 14 光学常数提取 bzMs\rj\ 14.1 介绍 }5;3c % 14.2 介电薄膜 ;%i.@@:IQ 14.3 n和k提取工具 kmL~H1qd 14.4 基底 0.t1p(x; 14.5 金属的光学常数 }JWk? 14.6 不正确的模型 b{JxTT}03 14.7 参考文献 fm%-wUgj 15 反演工程 3D7phq>.q 15.1 随机和系统误差 G Q+g.{c 15.2 系统常见的问题 &4l>_ 15.3 单层膜 {?'c|\n Li 15.4 多层模 D8_-Dvp7H 15.5 建议 8[z& g%u 15.6 反演工程 .hXdXY 16 应力、张力、温度和均匀性工具 Y{#m=-h 16.1 温度引起光学性能的改变 bPdbKi{j@ 16.2 应力工具 qg@Wzs7c~ 16.3 平均误差 cvf#^Cu
16.3.1 Taper工具 #
OQ(oyT 16.3.2 波像差问题 HPR*:t 16.4 参考文献 r*l:F{ 17 如何在Function中编写操作数 ddD $ 4+ 17.1 引言 ;yH1vX 17.2 操作数 {utIaMb]&v 18 如何在Function中编写脚本 Z66@@?` 18.1 简介 .@ElfPP(L 18.2 什么是脚本? y/@.T\p 18.3 Function中脚本和操作数的对比 ~\m|pxcj 18.4 基本概念 FVcooV 18.4.1 Classes ^^Tu/YC9x 18.4.2 Objects
MoP0qNk 18.4.3 Messages pYs"Y;% 18.4.4 Properties D ~Y3\KP 18.4.5 Methods l;g8_uyjv7 18.4.6 显式声明 zZ=.riK 18.5创建对象 >m{)shBX 18.5.1 创建对象函数 V+l>wMeo 18.5.2 使用ThisSession和其他对象 `cr.C|RT: 18.5.3 概要 ;2;Kq)j_= 18.6 脚本中的表格 &H{KXX"X 18.6.1 方法1 obE_`u l# 18.6.2 方法2 8V(#S:G35 18.7 注释 }0Q6iHX@ 18.8 Scripts脚本管理器 n300kpv 18.9 更高级的脚本命令 %h%^i
18.10 <Esc>键 8W"~>7/>D 18.11 优化用脚本 ~l@SGHx 18.12 脚本对话框 =ITMAC\ 18.12.1 介绍 d(L u|/~ 18.12.2 消息框-MsgBox F+S;u=CKx 18.12.3 输入框函数 |f~p3KCfV 18.12.4 自定义对话框 bgm$< |