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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark U;';"9C2> 译:讯技科技股份有限公司 51o@b 校:讯技科技股份有限公司 X+`ddX #joF{M{ 书籍概况: V.K70)] (oLpnjJ(, Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 W$z#ssr 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ,pDp>-vI% 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 H/^~<U#p u{g]gA8s 书籍目录 *TJBPM, 5"1!p3`\D{ 1 引言 DgDSVFk
~ 2 光学薄膜基础 /\TQc-k?2 2.1 一般规则 v\fzO#vj 2.2 正入射规则 pGY [f@_x- 2.3 斜入射规则 r@|R-Binz 2.4 精确计算 r> Fec 2.5 相干性 6b%`^B\ 3 Essential Macleod的快速预览 :6 Uk) 4 Essential Macleod的特点 h^%GE;N 4.1 容量和局限性 lP}o[Rd 4.2 程序在哪? Q8 -3RgAw 4.3 数据文件 D8k*0ei& 4.4 设计规则 (3AYy0J% 4.5 材料数据库和目录库 jZa25Z00 4.5.1 材料数据库及导入材料 @ L\-ZWq 4.5.2 材料目录库 ])N|[ |$ 4.5.3 导出材料数据 M]J[6EW 4.6 常用单位 d-hbvLn 4.7 插值 |)^clkuGX 4.8 材料数据的平滑 HMF8;,<_w? 4.9 一般文档编辑规则 f8^"E $" 4.10 设计文档 53bM+ 4.10.1 公式 JR/W9i 4.10.2 更多关于膜层厚度 j?=V tVP 4.10.3 沉积密度 $=\d1%_R| 4.10.4 性能计算 d0'7efC+ 4.10.5 保存设计和性能 :[L{KFQU 4.10.6 默认设计 F\;2i:( 4.11 图表 %'$f ?y 4.11.1 合并曲线图 d
"2wO[ 4.11.2 自适应绘制 +:}kZDl@ X 4.11.3 动态参数图 Dp^"J85}
4.11.4 3D绘图 @o`sf-8x 4.12导入和导出 6@&fvf 4.12.1 剪贴板 1d`cTaQ- 4.12.2 不通过剪贴板导入 a/#+92C 4.12.3 不通过剪贴板导出 F@g17 aa 4.13 背景(Context) KCE=|*6::| 4.14 扩展公式 - 生成设计 P2O\!'aEh 4.15 生成Rugate TS1pR"6l 4.16 参考文献 miwf&b 5 在Essential Macleod中建立一个Job w_\nB}_ 5.1 Jobs gRHtgR)T3 5.2 创建一个新的Job VXiui'/( 5.3 输入材料 hMv2"V-X 5.4 设计数据文件夹 {JXf*IJ 5.5 默认设计 `4_c0q)N4 6 细化和合成 qbH%Hx 6.1 最优化导论 V)=Z6 ti 6.2 细化 Qy/uB$q{A 6.3 合成 )GK+ 6.4 目标和评价函数 z23#G>I& 6.4.1 目标输入 ;"D~W#0-v 6.4.2 目标关联 tp@*=*^I 6.4.3 特殊的评价函数 / HL_$g< 6.5 膜层锁定和关联 ?gU }[] 6.6 优化技术 f#1/}Hq/I 6.6.1 单纯形 To pHE 6.6.1.1单纯形参数 V- /YNRV 6.6.2 Optimac d<!IGt4Ky 6.6.2.1 Optimac参数 {aoMJJq 6.6.3 模拟退火算法 2R\+} 6.6.3.1退火参数 p:Oz<P 6.6.4 共轭梯度 u
>4ArtF 6.6.4.1共轭梯度参数 D '<$ g 6.6.5 拟牛顿法
"3wv:BL 6.6.5.1 拟牛顿法参数: w;~>k%}j 6.6.6 针形合成 vf[&7n 6.7 我应该使用哪种技术? \Yd4gaY\o 6.7.1 细化 Nfg{,/O 6.7.2 合成 7N|
AA^I 6.8 参考文献 pzi q0 7 导纳图和其他工具 )y`i@S}J 7.1 介绍 ^,`M0g\$ 7.2 导纳变换 1&|
7.2.1 四分之一波长规则 g>_OuQ|c 7.2.2 导纳轨迹图 5?w.rcN[j 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 VNO'="U 7.4 全介质抗反射膜的应用 f}2;N 7.5 对称周期结构 <*_o0;h| 7.6 参考文献 :G#KB' 8.典型的镀膜实例 /9Z!p 8.1 单层抗反射膜 NZ+7p{&AN 8.2 1/4-1/4抗反射膜 NCn`}QP 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 >nK%^T 8.4 W-膜层 Y[@0qc3UO 8.5 V-膜层 #jm@N7OZ 8.6 高折射基底V-膜层 _$5@uL{n"^ 8.7 高折射率基底b V-膜层 []gRfM]$& 8.8 1/4-1/4高折射率基底 V9Hl1\j^ 8.9 四层抗反射膜 Lc%xc`n8B 8.10 Reichert抗反射膜 y6FKg) 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 Gc'M[9Mh 8.12 宽波段6层抗反射膜 o<rsAe 8.13 宽波段8层抗反射膜 j;+["mi
8.14 宽波段25层抗反射膜 l|q%%W0 8.15 四层2-1 增透膜 BPewc9RxV 8.16 1/4波长堆栈 IJ_ m 8.17 陷波滤光器 F,& |