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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark   B[:-SWd  译:讯技科技股份有限公司 )BR6?C3  校:讯技科技股份有限公司 >'4Bq*5>    书籍概况: VU7x w    +@),Fk_  Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 IP'gN-#i  《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 +Z0@z^6\  薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。  "V!y"yQ    rWKc,A[  书籍目录 zG|}| //} qkpnXQ;W6P$@'zs  1 引言 'ojI_%9<  2  光学薄膜基础 4R5+"h:  2.1  一般规则 1?\ #hemL  2.2  正入射规则 "f|\":\  2.3  斜入射规则 \(Uw.ri  2.4  精确计算 	~W'>L++  2.5  相干性 MsMNP[-l  3  Essential Macleod的快速预览 5bZf$$b  4  Essential Macleod的特点 _
F&BSu  4.1  容量和局限性 b_xn80O 
  4.2  程序在哪? bV_@!KL$  4.3  数据文件 m\~{l=jIS  4.4  设计规则 ^sxcBG  4.5  材料数据库和目录库 au'Zjj/Ai5  4.5.1  材料数据库及导入材料 y=) Cid  4.5.2  材料目录库 VmM?KlC  4.5.3  导出材料数据 !\.%^LK1  4.6  常用单位 |)	{)w`  4.7  插值 5	3=zHYQ  4.8  材料数据的平滑 zCxr]md  4.9 一般文档编辑规则 @Y":DHF5q  4.10 设计文档 zmk# gk2H  4.10.1  公式 fI@4 v\  4.10.2  更多关于膜层厚度 =ja(;uC  4.10.3  沉积密度 Id3i qAL  4.10.4  性能计算 I%]L  4.10.5  保存设计和性能 D_fgxl  4.10.6  默认设计 EAYx+zI  4.11  图表 B.nq3;Y  4.11.1  合并曲线图 Tl9KL%9  4.11.2  自适应绘制 <
&[=,R0	@          4.11.3  动态参数图           ]F[ V6`H  4.11.4  3D绘图 dx{ZG'@aH  4.12导入和导出 :=u Ku'~  4.12.1  剪贴板 Y@'ug N|[C  4.12.2  不通过剪贴板导入 KTX;x2r  4.12.3  不通过剪贴板导出 ]i\C4*  4.13  背景(Context) >q0c!,Ay  4.14  扩展公式 - 生成设计 dZ'hTzw~  4.15  生成Rugate D^1H(y2zp  4.16  参考文献 tkrRdCq  5  在Essential Macleod中建立一个Job vCE1R]^A.]  5.1  Jobs XKqUbi  5.2  创建一个新的Job 5nL,sFd  5.3  输入材料 	w.kb/  5.4  设计数据文件夹 H6Q1r[(B  5.5  默认设计 o)<c1\q  6   细化和合成 dQ+{Dv3A  6.1  最优化导论 vr#_pu)f4  6.2  细化 N-
E)b  6.3  合成 KCG-&p$v@s  6.4  目标和评价函数 sG{hUsPa  6.4.1  目标输入 Y'6GY*dL  6.4.2  目标关联 8':^tMd  6.4.3  特殊的评价函数 HS!O;7s'  6.5  膜层锁定和关联 /lBx}o'  6.6  优化技术 595P04   6.6.1  单纯形 Q)oO*CnM!-  6.6.1.1单纯形参数 FbRq h|  6.6.2  Optimac ;<qv-$P
  6.6.2.1  Optimac参数 T@c{5a  6.6.3  模拟退火算法 Z6G>j  6.6.3.1退火参数  p]z
 *  6.6.4  共轭梯度 afEhC0j  6.6.4.1共轭梯度参数 @	%LrpD  6.6.5  拟牛顿法 u
Ey>7I  6.6.5.1  拟牛顿法参数: z&!n'N<C  6.6.6  针形合成 B16,c9[  6.7  我应该使用哪种技术? ]<\FtH  6.7.1  细化 D,Ft*(|T	  6.7.2  合成 __Ei;%cV  6.8  参考文献 G[7Z5)2B  7 导纳图和其他工具 	/DPD,bA  7.1  介绍 .H,v7L,~88  7.2  导纳变换 Qp9)Rc5  7.2.1  四分之一波长规则 RGrra<  7.2.2  导纳轨迹图 l_
/q/8-l  7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 t)Q6A@$:  7.4  全介质抗反射膜的应用 *T(z4RVg  7.5  对称周期结构 
[0v`E5  7.6  参考文献 	P9j[
NEV  8.典型的镀膜实例 0'ha!4h3Z  8.1  单层抗反射膜 gc|?$aE   8.2  1/4-1/4抗反射膜 +m Plid\  8.3  1/4-1/2-1/4抗反射膜 u*#j;Xc  8.4  W-膜层 P[NAO>&t
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