光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 ~IY%  
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培训大纲 7!$Q;A  

>1.X*gi?-   01 OpticStudio 软件功能介绍; g!FuY/%+   02 材料库、镜头库介绍； 5-FQMXgThc   03 如何定义新材料； )\1QJ$-M&   04 如何使用镜头库；	1gE  [v   23 柯勒照明综合设计实例； s,"]aew   24 投影系统设计 y;4OY   25 集光系统设计； 6,^>mNm   Wjo[ENHM   26 暗盒系统介绍；
%2}-2}[>   05 像差理论介绍； 5us:adm[pD   06 Zemax 里像差分析图谱； %@<8<6&q   07 优化; VRVO-Sk   08 局部优化	^\hG"5#   27 分析工具应用； wVvF^VHV^   28 寻找最佳非球面 I )~GZ   29 曲率套样板； lz/8   ,dv+p&Tz2   30 镜头匹配工具；
h!M   09 全局优化； T"(&b~m2b4   10 锤形优化； +xRK5+}9   11 优化函数架构技巧； C0sX gM   12 单透镜优化实例	jkQ*D(;p   31 Zemax 公差分析功能介绍; v>6"j1Z   32 加工误差、装配误差； p99]   33 灵敏度分析; kPKB|kP\   34 反灵敏度分析;
 `A,-@`p   13 双胶合优化实例； aR[JD2G   14 热分析及衍射光学元件的使用; S:u:z=:r   15 实例设计及分析； Z@yW bjE7Z   16 MTF	$1SPy|y   35 蒙特卡罗分析; |sa]F5   .zr-:L5{   36 公差评价标准； kc2PoJ   37 公差操作数； _H9 MwJ   38 补偿变量的使用；
UI0(=>L   17 双高斯镜头设计及优化； xn?a. 3b'   18 像质评价与图像模拟； &U{#Kt5q   19 坐标变换； Z EQ@IS:Y   20 坐标断点面的使用技巧	2d >z1%'   39 单透镜公差分析； fPU`/6   S\^Pha q   40 库克镜头公差分析； >|J`s~?   41 分析报告查看说明； hMa]B*o/-   42 公差脚本的使用；
o m!!Sl3   21 序列模式棱镜建模； 4aug{}h("   G5{T5#   22 扫描反射镜设计实例；	J;S (>c   43 镜头出图、CAD 出图； Z3%}ajPu[   44 小结及答疑

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培训信息 ke!?BZx  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• SbcS]H5Sk  
  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。