[培训]光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 [复制链接]

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 9r8D*PvS  
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培训大纲 Qu}N:P9l?X  

#NJ<[Gew   01 OpticStudio 软件功能介绍; ?waebuj>   02 材料库、镜头库介绍； 6h@+?{F.   03 如何定义新材料； $NCm;0\B|   04 如何使用镜头库；	 QT_^M1%   23 柯勒照明综合设计实例； S>EDL   24 投影系统设计 8bbVbP   25 集光系统设计； ^N{X"   "3ug}k   26 暗盒系统介绍；
YE _6OLW   05 像差理论介绍； \4@a   06 Zemax 里像差分析图谱； EP0a1.C   07 优化; [)iN)$Mv   08 局部优化	+U=KXv   27 分析工具应用； \d5}5J]a&n   28 寻找最佳非球面 5*XH6g F   29 曲率套样板； 9@etg4#]   R25-/6_V>   30 镜头匹配工具；
/1N)d?Pcl   09 全局优化； +WdL   10 锤形优化； xZg7Jg   11 优化函数架构技巧； 0/*X=5   12 单透镜优化实例	wK LN:aRF2   31 Zemax 公差分析功能介绍; /=-h:0{M   32 加工误差、装配误差； :P"9;$FY   33 灵敏度分析; &&*wmnWCS{   34 反灵敏度分析;
,L~snR'w   13 双胶合优化实例； _;VYFs   14 热分析及衍射光学元件的使用; i2U/RXu   15 实例设计及分析； |} 9GHjG   16 MTF	@QX4 \   35 蒙特卡罗分析; N&,"kRFFo   Ss+F9J   36 公差评价标准； 4NI'(#l   37 公差操作数； (Y>U6   38 补偿变量的使用；
0*{@E%9   17 双高斯镜头设计及优化； X)y*#U   18 像质评价与图像模拟； J:[3;Z   19 坐标变换； 3} l;   20 坐标断点面的使用技巧	W -3w7^   39 单透镜公差分析； wV?[3bEhM   . *Z#cq0   40 库克镜头公差分析； TiTYs   41 分析报告查看说明； " _mmR M   42 公差脚本的使用；
8db6(Q~P   21 序列模式棱镜建模； i'9eKO   o`25   22 扫描反射镜设计实例；	R,XD6'Q   43 镜头出图、CAD 出图； oX2r?.j#M   44 小结及答疑

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培训信息 _5
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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。