光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 '/="bSF  
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培训大纲 :; z]:d  

)J^5?A   01 OpticStudio 软件功能介绍; > }T}^F   02 材料库、镜头库介绍； e5AZU7%.   03 如何定义新材料； Mmmg3%G1   04 如何使用镜头库；	e"#QUc(   23 柯勒照明综合设计实例； P2Jo^WS   24 投影系统设计 MO^Q 8v   25 集光系统设计； bG)EZ   =jEVHIYt   26 暗盒系统介绍；
p40;@gUug   05 像差理论介绍； 'VpzB s#   06 Zemax 里像差分析图谱； g^l~AR   07 优化; FEH+ PKSc   08 局部优化	NufRd/q   27 分析工具应用； HPMj+xH   28 寻找最佳非球面 ?B+]Ex(\B,   29 曲率套样板； ^HhV?Iqg   Sw.k ,p*r   30 镜头匹配工具；
mzf~qV^T   09 全局优化； &w!(.uDO   10 锤形优化； _Z>ny&   11 优化函数架构技巧； +~K) ~   12 单透镜优化实例	 ,ZI#p6   31 Zemax 公差分析功能介绍; 'yo-`nNFD   32 加工误差、装配误差； /IQ$[WR cx   33 灵敏度分析; 0fGt7 "Q   34 反灵敏度分析;
|.KB   13 双胶合优化实例； =;"eZ   14 热分析及衍射光学元件的使用; 2= Y8$-   15 实例设计及分析； |2E:]wT}qg   16 MTF	U?%T~!   35 蒙特卡罗分析; _z=ytt9D   J#IVu?B    36 公差评价标准； XuoyB{U   37 公差操作数； b_&:tE--]   38 补偿变量的使用；
?[]jJ   17 双高斯镜头设计及优化； )[ QT?;   18 像质评价与图像模拟； .sjv"D"   19 坐标变换； tdHeZv   20 坐标断点面的使用技巧	u4tv=+jh   39 单透镜公差分析； 1Ep7CV-n}   \kZ@2.pN   40 库克镜头公差分析； j#~ S"t   41 分析报告查看说明； IyEfisOK?   42 公差脚本的使用；
Y[N@ )E_G   21 序列模式棱镜建模； T[evh]koB   o@m7@$7   22 扫描反射镜设计实例；	\JC_"gqt   43 镜头出图、CAD 出图； U2)?[C1q{   44 小结及答疑

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培训信息 Q@"}v_r4  

• cA+T-A]  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
• rB-R(2 CCN  
  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。