光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 TJz} 8-#t  
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培训大纲 Mb(hdS90  

UOkVU*{   01 OpticStudio 软件功能介绍; K<?[^\   02 材料库、镜头库介绍； &-p!Lg&D   03 如何定义新材料； QHw{@*   04 如何使用镜头库；	Gu#wH   23 柯勒照明综合设计实例； 17yg ~   24 投影系统设计 QA# 7T3|   25 集光系统设计； Dj x[3['   x)-n[Fu   26 暗盒系统介绍；
*DPKV$   05 像差理论介绍； DXx),?s>   06 Zemax 里像差分析图谱； Q6=>*}Cm6m   07 优化; *2r(!fJP=^   08 局部优化	# &Z1d(!   27 分析工具应用； oZ!+._9   28 寻找最佳非球面 .MW/XnCYs4   29 曲率套样板； JeU1r-i   'Ad|* ~   30 镜头匹配工具；
i z dJ,8   09 全局优化； R6qC0@*   10 锤形优化； 9DaoMOPEI   11 优化函数架构技巧； -ei+r#   12 单透镜优化实例	ANXN.V   31 Zemax 公差分析功能介绍; okLheF   32 加工误差、装配误差； d2tJ=.DI   33 灵敏度分析; I0(nRu<   34 反灵敏度分析;
rlXMrn   13 双胶合优化实例； tz_WxOQ0   14 热分析及衍射光学元件的使用; iK9#{1BpML   15 实例设计及分析； <*5`TE0J   16 MTF	tnFhL&   35 蒙特卡罗分析; -k}&{v   I8LoXY   36 公差评价标准； f}{Oj-:"CC   37 公差操作数； -ZBSkyMGy   38 补偿变量的使用；
?CZ*MMV   17 双高斯镜头设计及优化； Pc=:j(   18 像质评价与图像模拟； l#;o^H i   19 坐标变换； A?Gk8   20 坐标断点面的使用技巧	YveNsn   39 单透镜公差分析； X.JPM{]    .$s=E8fW   40 库克镜头公差分析； =pn(5 6   41 分析报告查看说明； U$T (R2@   42 公差脚本的使用；
J_>nn   21 序列模式棱镜建模； eLyaTOZadu   o Np4> 7Lk   22 扫描反射镜设计实例；	^li(q]g1!   43 镜头出图、CAD 出图； znu[i&\=   44 小结及答疑

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培训信息 D8wZC'7  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 * AjJf)o  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。