光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 $d2kHT  
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培训大纲 B%eDBu ")  

z{`6#   01 OpticStudio 软件功能介绍; A{4G@k+#d   02 材料库、镜头库介绍； j(Fa=pi   03 如何定义新材料； (zS2Ndp   04 如何使用镜头库；	4/HY[FT   23 柯勒照明综合设计实例； ~tg1N^] kV   24 投影系统设计 (0OSGG9   25 集光系统设计； ![a/kj   -- i&"   26 暗盒系统介绍；
@Xq&t}*8   05 像差理论介绍； 7wiK.99   06 Zemax 里像差分析图谱； %="~\1y   07 优化; JNxW6 cK   08 局部优化	}>{ L#JW   27 分析工具应用； dysX   28 寻找最佳非球面 ^o $W   29 曲率套样板； ERfd7V<c>   FE8+E\ U?   30 镜头匹配工具；
MtZt8s   09 全局优化； 9feD!0A   10 锤形优化； J0?$v6S   11 优化函数架构技巧； -GDV[Bg   12 单透镜优化实例	vx\nr8'k   31 Zemax 公差分析功能介绍; Wj&<"Z6'm(   32 加工误差、装配误差； &\[Qm{lN   33 灵敏度分析; C 'B4 mmC   34 反灵敏度分析;
2!{_/@I\Y   13 双胶合优化实例； 5E]UI YAkV   14 热分析及衍射光学元件的使用; !y>lOw})Q   15 实例设计及分析； _l#3]#   16 MTF	|`_ <@b   35 蒙特卡罗分析; $kxu;I   )3]83:lD2   36 公差评价标准； (MgL"8TS   37 公差操作数； tk`: CT *   38 补偿变量的使用；
F-$Z,Q]S   17 双高斯镜头设计及优化； xZ^ywa_   18 像质评价与图像模拟； ?vZWUWa   19 坐标变换； 7XUhJN3n   20 坐标断点面的使用技巧	4r_!>['`"   39 单透镜公差分析； \3%W_vU_   /{fZH,!L   40 库克镜头公差分析； q?;N7P   41 分析报告查看说明； F1 <489   42 公差脚本的使用；
<KHv|)ak   21 序列模式棱镜建模； F f[H>Lp~   /;(<fh<bY   22 扫描反射镜设计实例；	]~?S~l%   43 镜头出图、CAD 出图； KH>Sc3p   44 小结及答疑

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培训信息 v\fzO#vj  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 *GCA6X  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。