光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 MzX4/*ba  
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培训大纲 8AQ@?\Rc"2  

wbA<G&h~   01 OpticStudio 软件功能介绍; o{I]c#W   02 材料库、镜头库介绍； ,,o5hD0V9   03 如何定义新材料； b@ S.   04 如何使用镜头库；	*C"-$WU3o   23 柯勒照明综合设计实例； wr{ [4$O   24 投影系统设计 D5gDVulsh   25 集光系统设计； )"4v0dv   %FSY} 65   26 暗盒系统介绍；
w$%1j+%&   05 像差理论介绍； "o6a{KY(   06 Zemax 里像差分析图谱； Tn"/EO^N   07 优化; V<W$h`   08 局部优化	*!-J"h   27 分析工具应用； (yxHXO9N   28 寻找最佳非球面 2B`#c}PP   29 曲率套样板； 9Atnnx]n   5ON\Ve_H   30 镜头匹配工具；
.sE5QRVc   09 全局优化； Z@d(0 z   10 锤形优化； E3P2   11 优化函数架构技巧； ?@LqrKj11   12 单透镜优化实例	P{ HYZg   31 Zemax 公差分析功能介绍; wOU\&u|   32 加工误差、装配误差； iwS55o   33 灵敏度分析; ,"U_oa3   34 反灵敏度分析;
0oiz V;B5%   13 双胶合优化实例； I {&8iUN   14 热分析及衍射光学元件的使用; [t}\8^y   15 实例设计及分析； N,F$^ q6   16 MTF	GO<,zOqvU   35 蒙特卡罗分析; ~]LkQQ'   lS!uL9t.   36 公差评价标准； RwyRPc_   37 公差操作数； h-+GS%   38 补偿变量的使用；
/@qnEP%   17 双高斯镜头设计及优化； w0(1o_F7.   18 像质评价与图像模拟； 75?z" i   19 坐标变换； iB0#Z _   20 坐标断点面的使用技巧	I2G:jMPy   39 单透镜公差分析；  SG@-b(   r < ~pSj   40 库克镜头公差分析； \#O}K   41 分析报告查看说明；  tQSJ"Q   42 公差脚本的使用；
B;=-h(E}vJ   21 序列模式棱镜建模； kD.KZV   9Impp5`/B   22 扫描反射镜设计实例；	U\~9YX8   43 镜头出图、CAD 出图； k?7V#QW(   44 小结及答疑

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培训信息 *47',Qy  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。