光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 ooUk O  
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培训大纲 V+I|1{@i0  

i1S>yV^l   01 OpticStudio 软件功能介绍; gi0W;q   02 材料库、镜头库介绍； MwmUgN"g   03 如何定义新材料； [oF|s-"9!   04 如何使用镜头库；	3e(ehLc4DJ   23 柯勒照明综合设计实例； +-E~6^>   24 投影系统设计 2Ry1b+\   25 集光系统设计； dnj}AVfQx   _E@:O+K   26 暗盒系统介绍；
IpP~Uz   05 像差理论介绍； ^h{)Gf,+\   06 Zemax 里像差分析图谱； 'Ysx=   07 优化; rk)##)   08 局部优化	,=l7:n   27 分析工具应用； Z!U)I-x&   28 寻找最佳非球面 >3c@x   29 曲率套样板； ezPz<iZ\N   $V1;la!   30 镜头匹配工具；
 A^p[52`   09 全局优化； {J^lX/D   10 锤形优化； n> ^[T[.S   11 优化函数架构技巧； 1UKg=A-q   12 单透镜优化实例	:]J Ye*   31 Zemax 公差分析功能介绍; }N*_KzPIa   32 加工误差、装配误差； Y-7^o@y   33 灵敏度分析; N5 $c]E   34 反灵敏度分析;
|Pg@M   13 双胶合优化实例； Offu9`DiZ   14 热分析及衍射光学元件的使用; 1 &e} ms   15 实例设计及分析； qu|B4?Y/CR   16 MTF	,Jd ',>3   35 蒙特卡罗分析; D}vmwg@3   y~75r\"R   36 公差评价标准； 4._(|   37 公差操作数； y K"kEA[;   38 补偿变量的使用；
r3>i+i42   17 双高斯镜头设计及优化； lGVEpCS}   18 像质评价与图像模拟； 4fe7U=#;Y   19 坐标变换； 3;a<_cE*@   20 坐标断点面的使用技巧	$ aUo aI   39 单透镜公差分析； EOm:!D\   hcyM6:}   40 库克镜头公差分析； 7e<c$t#H   41 分析报告查看说明； mW:!M!kk   42 公差脚本的使用；
hXA6D)    21 序列模式棱镜建模； a<@N-Exr   Z ,EvQ8i   22 扫描反射镜设计实例；	CP6LHkM9   43 镜头出图、CAD 出图； DZ_lW   44 小结及答疑

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培训信息 rfq;%C  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 W16,Alf:  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。