光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 KCR N}`^  
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培训大纲
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3y`F<&sA   01 OpticStudio 软件功能介绍; YD[H   02 材料库、镜头库介绍； @Hjea1@t   03 如何定义新材料； zlf}.   04 如何使用镜头库；	t[C1z   23 柯勒照明综合设计实例； H{`{)mS   24 投影系统设计 RA/EpD:H   25 集光系统设计； "Pc$\zJm;   O!R"v'   26 暗盒系统介绍；
')#,X^    05 像差理论介绍； VWf %v   06 Zemax 里像差分析图谱； Dy9\O77>   07 优化; Ewo~9 4{   08 局部优化	Of7+/UV   27 分析工具应用； )pgrl   28 寻找最佳非球面 x8N|($1   29 曲率套样板； -l*g~7|j   TT}]wZ   30 镜头匹配工具；
}GZbo kWg.   09 全局优化； 1;r69e   10 锤形优化； ;#anZC;   11 优化函数架构技巧； Plo,XU   12 单透镜优化实例	zQ8!rCkg4   31 Zemax 公差分析功能介绍; I4e+$bU3   32 加工误差、装配误差； ^PqF<d6   33 灵敏度分析; SN">g mY+   34 反灵敏度分析;
8b&uU [   13 双胶合优化实例； l I-p_K   14 热分析及衍射光学元件的使用; (H#M<N   15 实例设计及分析； FxU'LN<;HY   16 MTF	Jh@_9/?   35 蒙特卡罗分析; t9 F=^)s   Px;Cg 6   36 公差评价标准； l[Z)@bC1   37 公差操作数； v1.*IV5Y   38 补偿变量的使用；
igkz2SI   17 双高斯镜头设计及优化； T1 M Y X   18 像质评价与图像模拟； :,UN8L "   19 坐标变换； ?9KGnOVu   20 坐标断点面的使用技巧	5M){!8"S)#   39 单透镜公差分析； n^9  ?~   *"9<TSU%m   40 库克镜头公差分析；  tFh|V pB   41 分析报告查看说明； tk?UX7F   42 公差脚本的使用；
>P(`MSc   21 序列模式棱镜建模； M?@pN<|   y\PxR708   22 扫描反射镜设计实例；	:L$4*8@`+   43 镜头出图、CAD 出图； =!0I_L/   44 小结及答疑

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培训信息 *gqSWQ  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
• U}AX0*S  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。