光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 AxeQv'e  
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培训大纲 )!U@:x\K  

i6$HwRZm#   01 OpticStudio 软件功能介绍; 2%pU'D:   02 材料库、镜头库介绍； KoA +Vv9   03 如何定义新材料； Mp=T;Nz   04 如何使用镜头库；	{{B'65Wu   23 柯勒照明综合设计实例； :iGK9I   24 投影系统设计 =M}tet }   25 集光系统设计； "ZPgl 8   !X||ds   26 暗盒系统介绍；
'nq~1 >i   05 像差理论介绍； |KZX_4    06 Zemax 里像差分析图谱； vxug>2   07 优化; V7`vLs-   08 局部优化	[-i&)eX   27 分析工具应用； X&h?1lMJ /   28 寻找最佳非球面 T1R~^x1   29 曲率套样板； We\i0zUU   cL Rzm9   30 镜头匹配工具；
3Z I:EZ5   09 全局优化； .5AFAGv_c   10 锤形优化； UG_PrZd   11 优化函数架构技巧； `(gQw~|z   12 单透镜优化实例	sCP|d`'   31 Zemax 公差分析功能介绍; CU*TY1%   32 加工误差、装配误差； =CD.pw)B1   33 灵敏度分析; {'[VL;k   34 反灵敏度分析;
+0j{$MPZ   13 双胶合优化实例； Om;aE1sW   14 热分析及衍射光学元件的使用; q`.=/O'   15 实例设计及分析； ]N;nq   16 MTF	4)>UTMF   35 蒙特卡罗分析; x%9Ca)r?}   p_%,JD   36 公差评价标准； w<zzS:PF*   37 公差操作数； 4P=1)t?tX   38 补偿变量的使用；
5`$!s17   17 双高斯镜头设计及优化； GU9G5S.   18 像质评价与图像模拟； $CJf 0[|   19 坐标变换； "FhC"}N   20 坐标断点面的使用技巧	z@o6[g/*Q   39 单透镜公差分析； *M*WjEOA   F6{/iF   40 库克镜头公差分析； ,grx'to(X   41 分析报告查看说明； Q+wO\TtE   42 公差脚本的使用；
J]w3iYK   21 序列模式棱镜建模； e@;'#t   + !"YC   22 扫描反射镜设计实例；	~c] q:pU2   43 镜头出图、CAD 出图； !`4ie   44 小结及答疑

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培训信息 )f8
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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。