光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 [ _$$P*  
TbVL71c  
培训大纲 cFvx*n  

U;@jl?jnG   01 OpticStudio 软件功能介绍; "-?Y UY`   02 材料库、镜头库介绍； *% *^a\2   03 如何定义新材料； /f<(K-o]   04 如何使用镜头库；	m5 X=P5U   23 柯勒照明综合设计实例； 9iCud6H,h   24 投影系统设计 EYG E#C; d   25 集光系统设计； X%CPz.G   2A|6o*s"   26 暗盒系统介绍；
v!xrUyN~m   05 像差理论介绍； w #,v n8   06 Zemax 里像差分析图谱； qS|VUy4   07 优化; j.}V~Sp*   08 局部优化	"r"An"   27 分析工具应用； $"{3i8$3mT   28 寻找最佳非球面 =[+&({   29 曲率套样板； 5qEdN   F4%[R)   30 镜头匹配工具；
z]AS@}wWqg   09 全局优化； ;hJ*u   10 锤形优化； e~;)-Z   11 优化函数架构技巧； n 0pe7/Ai   12 单透镜优化实例	Z-a(3&   31 Zemax 公差分析功能介绍; =_J<thp   32 加工误差、装配误差； @F^L4 N':   33 灵敏度分析; i%8&g2   34 反灵敏度分析;
66^t[[   13 双胶合优化实例； s.)w A`&&   14 热分析及衍射光学元件的使用; z{L;)U B^   15 实例设计及分析； nF$)F?||   16 MTF	b.*4RL   35 蒙特卡罗分析; E}/|Lja   [frD L)   36 公差评价标准； 9z/_`Xd_   37 公差操作数； guXpH F=   38 补偿变量的使用；
9[E$>o"%   17 双高斯镜头设计及优化； kw ^ Sbxm   18 像质评价与图像模拟； {WOfT6y+   19 坐标变换；  89=JC[c   20 坐标断点面的使用技巧	gGml c:/J%   39 单透镜公差分析； 5)NBM7h   WC*:\:mh   40 库克镜头公差分析； 6G$tYfX   41 分析报告查看说明； H)aC'M^   42 公差脚本的使用；
`Kw8rG\]:   21 序列模式棱镜建模； t>@3 RBEK   Y'0?<_ fj   22 扫描反射镜设计实例；	x>"JWD   43 镜头出图、CAD 出图； q.[[c   44 小结及答疑

m+{: ^  
A;a(n\Sy  
培训信息 c.A/{a  

• G$9|aaf`1#  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• ,<r3Z$G  
  培训主题：Zemax 成像设计
• !&jgcw/E  
  培训形式：线上培训
• "gajBY  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• 
  aq/Y}s?  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

WTv\HI2X !  
三人及以上组团报名可享八折优惠

• nL07^6(  
  报名方式：扫码报名

【备注】 =1OAy`8  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。