光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 spK8^sh  
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培训大纲 lExQp2E  

\#sD`O   01 OpticStudio 软件功能介绍; 2"/MM2s   02 材料库、镜头库介绍； 1gI7$y+?   03 如何定义新材料； GgO5 =|   04 如何使用镜头库；	3?OQ-7,   23 柯勒照明综合设计实例； (d9~z   24 投影系统设计 5LeZ?'"c   25 集光系统设计； q'3{M]Tk   lu utyK!   26 暗盒系统介绍；
''17(%   05 像差理论介绍； }F08o,`?   06 Zemax 里像差分析图谱； 7iB!Uuc   07 优化; ?hoOSur+   08 局部优化	[8V;Q   27 分析工具应用； Cq5.gkS<   28 寻找最佳非球面 h>Kx   29 曲率套样板； \Ne`9k   DE13x*2   30 镜头匹配工具；
#G9 W65f   09 全局优化； |x[I!I7.F   10 锤形优化； 3:nhZN/95T   11 优化函数架构技巧； ?0qVyK_ 1   12 单透镜优化实例	BR|!ya+_2   31 Zemax 公差分析功能介绍; \PX4>/d@y   32 加工误差、装配误差； D%>Bj>xQD   33 灵敏度分析; ,0'GHQWz$   34 反灵敏度分析;
pwSgFc$z   13 双胶合优化实例； f-U zFlU   14 热分析及衍射光学元件的使用; K)SWM3r   15 实例设计及分析； I| TNo-!$   16 MTF	r[9m-#)>   35 蒙特卡罗分析; J"gMm@#C4   2mY!gVi   36 公差评价标准； |3$Ew.   37 公差操作数； 4KPnV+h"b   38 补偿变量的使用；
uYW4$6S3   17 双高斯镜头设计及优化； Omd;   18 像质评价与图像模拟； 3Tr,waV   19 坐标变换； ]2zM~   20 坐标断点面的使用技巧	A;cA|`b   39 单透镜公差分析； }G4I9Py   KGt:   40 库克镜头公差分析； &X4anH>O   41 分析报告查看说明； 2H%9l@}u   42 公差脚本的使用；
Ir;JYY!0?   21 序列模式棱镜建模； ^}  {r@F   IIk_!VzT   22 扫描反射镜设计实例；	s.M39W?   43 镜头出图、CAD 出图； +!).'   44 小结及答疑

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培训信息 py6<QoGV  

• Z% +$<J  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 ^f[6NYS?  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。