光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 RVx<2,['  
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培训大纲 axOy~%%c  

hZJqo +s   01 OpticStudio 软件功能介绍; Ij_`=w<   02 材料库、镜头库介绍； bf(&N- "A   03 如何定义新材料； HArYL}l   04 如何使用镜头库；	[G/X   23 柯勒照明综合设计实例； 2jC\yY |PN   24 投影系统设计 }iAi`_\0;   25 集光系统设计； {NDP}UATw   _"V0vV   26 暗盒系统介绍；
>YhqL62!a   05 像差理论介绍； Pc1N~?}.   06 Zemax 里像差分析图谱； *JXJ  2   07 优化; `<d>C}9   08 局部优化	UMaKvr-C&   27 分析工具应用； .`].\Zykf   28 寻找最佳非球面 6'zy"UkH   29 曲率套样板； ` 454=3H   Wz]S+IpY   30 镜头匹配工具；
.5xM7,   09 全局优化； X9HI@M]h   10 锤形优化； dz 2d`=`3   11 优化函数架构技巧； eGil`:JY"   12 单透镜优化实例	rg~CF<   31 Zemax 公差分析功能介绍; swrd   32 加工误差、装配误差； &EOh}O<   33 灵敏度分析; {9MYEN}FO   34 反灵敏度分析;
r N7"%dx   13 双胶合优化实例； V^i3:'   14 热分析及衍射光学元件的使用; ehq6.+l   15 实例设计及分析； W]OT=6u8o   16 MTF	L')zuI   35 蒙特卡罗分析; Y')+/<Q2E   nabN.Ly   36 公差评价标准； D~:fn|/Brp   37 公差操作数； r GWTpN   38 补偿变量的使用；
U|nk86r   17 双高斯镜头设计及优化； Jk*MxlA.b   18 像质评价与图像模拟； BR'|hG   19 坐标变换； JSU\Hh!   20 坐标断点面的使用技巧	?x97q3I+]   39 单透镜公差分析； L;[*F-+jD   S SXSgp   40 库克镜头公差分析； ks}o9[D3   41 分析报告查看说明； (L1`]cp   42 公差脚本的使用；
x3Uv&   21 序列模式棱镜建模； ?x@khzk   6_Kz}PQ   22 扫描反射镜设计实例；	OBZj-`fqJ   43 镜头出图、CAD 出图； (EX   44 小结及答疑

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培训信息 v6:DA#0  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。