光学设计必学!Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

发布:ueotek 2022-02-18 10:49 阅读:1323
Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 [  _$$P*  
TbVL71c  
培训大纲 cF vx* n  
U;@jl?jnG  
01 OpticStudio 软件功能介绍; "-?Y UY`  
02 材料库、镜头库介绍; *% *^a\2  
03 如何定义新材料; /f<(K-o]  
04 如何使用镜头库;
m5X=P5U  
23 柯勒照明综合设计实例; 9iCud6H,h  
24 投影系统设计 EYG E#C; d  
25 集光系统设计; X%CPz.G  
2A|6o*s"  
26 暗盒系统介绍;
v!xrUyN~m  
05 像差理论介绍; w#,v n8  
06 Zemax 里像差分析图谱; qS|VUy4  
07 优化; j.}V~Sp*  
08 局部优化
"r"An"  
27 分析工具应用; $"{3i8$3mT  
28 寻找最佳非球面 =[+&({  
29 曲率套样板; 5qEdN  
F4%[R)  
30 镜头匹配工具;
z]AS@}wWqg  
09 全局优化; ;hJ*u  
10 锤形优化; e~;)-Z  
11 优化函数架构技巧; n0pe7/Ai  
12 单透镜优化实例
Z-a(3&  
31 Zemax 公差分析功能介绍; =_J<thp  
32 加工误差、装配误差; @F^L4 N':  
33 灵敏度分析; i%8&g2  
34 反灵敏度分析;
66^t[[  
13 双胶合优化实例; s.)w A`&&  
14 热分析及衍射光学元件的使用; z{L;)U B^  
15 实例设计及分析; nF$)F?||  
16 MTF
b.*4RL  
35 蒙特卡罗分析; E}/|Lja  
[frD L)  
36 公差评价标准; 9z/_`Xd_  
37 公差操作数; guXpHF=  
38 补偿变量的使用;
9[E$>o"%  
17 双高斯镜头设计及优化; kw ^ Sbxm  
18 像质评价与图像模拟 {WOfT6y+  
19 坐标变换;  89=JC[c  
20 坐标断点面的使用技巧
gGml c:/J%  
39 单透镜公差分析; 5)NBM7h  
WC*:\:mh  
40 库克镜头公差分析; 6G$tYfX  
41 分析报告查看说明; H)aC'M^  
42 公差脚本的使用;
`Kw8rG\]:  
21 序列模式棱镜建模; t>@3RBEK  
Y'0?<_ fj  
22 扫描反射镜设计实例;
x>" JWD  
43 镜头出图、CAD 出图; q.[[ c  
44 小结及答疑
 m+{: ^  
A;a(n\Sy  
培训信息 c.A/{a  
  • G$9|aaf`1#  
    主办单位:武汉宇熠科技有限公司
  • ,<r3Z$G  
    培训主题:Zemax 成像设计
  • !&jgcw/E  
    培训形式:线上培训
  • "gajBY  
    培训时间:2022年3月9~10日(9:00-17:00)
  • aq/Y}s?  
    培训费用:¥ 1980元 / 人
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三人及以上组团报名可享八折优惠
  • nL 07^6(  
    报名方式:扫码报名
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电话:027-87878386
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【备注】 =1OAy`8  
注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
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