光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 b.#^sm
//  
y7/PDB\he  
培训大纲 Yeqvv  

7}Bj|]b)~   01 OpticStudio 软件功能介绍; 1g1?zk8zO   02 材料库、镜头库介绍； bxAsV/j   03 如何定义新材料； hUVk54~l   04 如何使用镜头库；	um;:fT+   23 柯勒照明综合设计实例； "H>.':c"+3   24 投影系统设计 R N@^j   25 集光系统设计； N~;*bvW{   eGLO!DdxZ   26 暗盒系统介绍；
vQUZVq5M   05 像差理论介绍； <eY%sFq,   06 Zemax 里像差分析图谱； re;Lg C   07 优化; ##H;Yb   08 局部优化	k({2yc#RD&   27 分析工具应用； ]/Vh{d|I&   28 寻找最佳非球面 -'6<   29 曲率套样板； ejVdxVr\7   0<g<GQ(E   30 镜头匹配工具；
4otl_l(`yv   09 全局优化； }'%^jt[3   10 锤形优化； e^QVn\<c   11 优化函数架构技巧； BRb\V42i;   12 单透镜优化实例	mj@31YW   31 Zemax 公差分析功能介绍; 9 ~~qAoD   32 加工误差、装配误差； eJ)1K   33 灵敏度分析; .`,F   34 反灵敏度分析;
X8Xn\E   13 双胶合优化实例； \eQla8s   14 热分析及衍射光学元件的使用; |8H_-n   15 实例设计及分析； ob E:kNE9   16 MTF	0#QKVZq2>   35 蒙特卡罗分析; -0$:|p?@^   @lS==O-`f   36 公差评价标准； i'HPRY    37 公差操作数； 1 tPVP   38 补偿变量的使用；
i^*M^P3m   17 双高斯镜头设计及优化； 7:>sc]Z   18 像质评价与图像模拟； jv =EheD   19 坐标变换； y;nvR6)   20 坐标断点面的使用技巧	Yt+h2ft!   39 单透镜公差分析； +3;Ody"59   l-}KmZ]   40 库克镜头公差分析； 6PU/{c   41 分析报告查看说明；  GP+2/D   42 公差脚本的使用；
XA)'=L!^   21 序列模式棱镜建模； k#C f})   gfde#T)S   22 扫描反射镜设计实例；	gWOt]D&#/   43 镜头出图、CAD 出图； 1a$IrQE   44 小结及答疑

&vkjmiAS  
jY/ARBC}H  
培训信息 BC! 6O/
kr  

• Z~p!C/B  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• #op:/j  
  培训主题：Zemax 成像设计
• '^iUx,,ZQ  
  培训形式：线上培训
• E ]B7  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• Hz@h0+h  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

#6=MKpR  
三人及以上组团报名可享八折优惠

• E9+HS  
  报名方式：扫码报名

【备注】 7+nm31,<O  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。