光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 u JQaHL!  
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培训大纲 X<Th{kM2  

P!FEh'.   01 OpticStudio 软件功能介绍; ]~prR?   02 材料库、镜头库介绍； Ev+HWx~Y   03 如何定义新材料； 'wz\tT^   04 如何使用镜头库；	;J(rw   23 柯勒照明综合设计实例； 0eqi1;$b]   24 投影系统设计 . Z*j!{@c   25 集光系统设计； ]|,q|c,   Z&dr0w8   26 暗盒系统介绍；
a/QtJwIV   05 像差理论介绍； so!w!O@@   06 Zemax 里像差分析图谱； 5@+4   07 优化; : WK"-v   08 局部优化	~[|V3h4v   27 分析工具应用； Np|'7D   28 寻找最佳非球面 P.LuF(?$   29 曲率套样板； 4fw1_pv_D   ^"O{o8l>2   30 镜头匹配工具；
)D["M$ZA^   09 全局优化； t;.^K\S4   10 锤形优化； }XX~ W}M(\   11 优化函数架构技巧； t['k%c   12 单透镜优化实例	yV:EK{E   31 Zemax 公差分析功能介绍; axK6sIxx   32 加工误差、装配误差； k_D4'(V:b   33 灵敏度分析; *xE"8pN/   34 反灵敏度分析;
Mw"xm9(Q   13 双胶合优化实例； nT.L}1@   14 热分析及衍射光学元件的使用; gppBFS   15 实例设计及分析； 7?=43bZl   16 MTF	=tr1*s{   35 蒙特卡罗分析; `z| =~   bZNIxkc[Dh   36 公差评价标准； {OB-J\7Y   37 公差操作数； Em e'Gk   38 补偿变量的使用；
1Pk mg%+   17 双高斯镜头设计及优化； 4S,.R   18 像质评价与图像模拟；  @+'c+    19 坐标变换； op hH9D   20 坐标断点面的使用技巧	PsU9R#HL1   39 单透镜公差分析； $; Q$W9+   ]2Sfkl0   40 库克镜头公差分析； |@ikx{W   41 分析报告查看说明； tg.|$n   42 公差脚本的使用；
[YC=d1F5   21 序列模式棱镜建模； JDLTOLG   $_Y/'IN`k   22 扫描反射镜设计实例；	9[cp7 Rcb   43 镜头出图、CAD 出图； {S[I_\3   44 小结及答疑

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培训信息 0:Ar|to$m  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 \[:PykS  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。