光学设计必学!Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

发布:ueotek 2022-02-18 10:49 阅读:1559
Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 ;EZ$8|  
.,t"i C:E  
培训大纲 <X}@afS  
HCHZB*r[  
01 OpticStudio 软件功能介绍; = 8F/]8_  
02 材料库、镜头库介绍; \; Io  
03 如何定义新材料; wykk</eQ.i  
04 如何使用镜头库;
(;2J}XQvO~  
23 柯勒照明综合设计实例; G<9UL*HU  
24 投影系统设计 Xk[;MZ[  
25 集光系统设计; WyH2` xxX  
"71@WLlN  
26 暗盒系统介绍;
juPW!u  
05 像差理论介绍; 2x-67_BHY=  
06 Zemax 里像差分析图谱; g3@Qn?(j!  
07 优化; o*7`r~  
08 局部优化
#Jt9U1WbF  
27 分析工具应用; ]r;-Lx{F  
28 寻找最佳非球面 O-r,&W  
29 曲率套样板; vy?Zz<c;  
n:cre}0.  
30 镜头匹配工具;
z mvF#o  
09 全局优化; c`w YQUg(  
10 锤形优化; *C*n( the  
11 优化函数架构技巧; {e4`D1B  
12 单透镜优化实例
9$7tB  
31 Zemax 公差分析功能介绍; eyK=F:GO  
32 加工误差、装配误差; (rV#EA+6[`  
33 灵敏度分析; D~W1["[  
34 反灵敏度分析;
>gqM|-uY  
13 双胶合优化实例; U5 ~L^  
14 热分析及衍射光学元件的使用; )0Av:eF-+  
15 实例设计及分析; ,B ]kX/W  
16 MTF
Z6%Hhk[  
35 蒙特卡罗分析; [ UN`~  
_MfXN$I?}  
36 公差评价标准; SS;[{u!  
37 公差操作数; K@u\^6419  
38 补偿变量的使用;
dx{ZG'@aH  
17 双高斯镜头设计及优化; :=u Ku'~  
18 像质评价与图像模拟 Qzbelt@Wx  
19 坐标变换; KTX;x2r  
20 坐标断点面的使用技巧
]i\C4*  
39 单透镜公差分析; >q0c!,Ay  
6|*em4  
40 库克镜头公差分析; |` gSkv  
41 分析报告查看说明; b= <xzvy  
42 公差脚本的使用;
'(M8D5?N-  
21 序列模式棱镜建模; };%l <Ui;  
o<T_Pjp  
22 扫描反射镜设计实例;
z.itVQs$I  
43 镜头出图、CAD 出图; v^_OX $=,  
44 小结及答疑
/I@nPH<y  
wmu#@Hf/[h  
培训信息 p:]kH  
  • NYb eIfL  
    主办单位:武汉宇熠科技有限公司
  • O+U9 p  
    培训主题:Zemax 成像设计
  • FL -yt  
    培训形式:线上培训
  • rdd%"u+  
    培训时间:2022年3月9~10日(9:00-17:00)
  • oW]~\vp^0  
    培训费用:¥ 1980元 / 人
ptXCM[Z+  
三人及以上组团报名可享八折优惠
  • F6 ?4E"d  
    报名方式:扫码报名
S`ms[^-q*  
电话:027-87878386
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【备注】 )sg@HFhY'  
注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
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