光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 $k&v juB.  
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培训大纲 M.y!J  

"TaLvworb4   01 OpticStudio 软件功能介绍; -V4{tIQY   02 材料库、镜头库介绍； xP>cQELot   03 如何定义新材料； %+Nng<_U\T   04 如何使用镜头库；	|0}Xb|+   23 柯勒照明综合设计实例； |Y}YhUI&   24 投影系统设计 8k:^( kByF   25 集光系统设计； R3og]=uFzm   Iv3O8GU   26 暗盒系统介绍；
gd#R7[AVi   05 像差理论介绍； /77cjesZ9   06 Zemax 里像差分析图谱； @:CM<+   07 优化; #Swc>jYc   08 局部优化	^cPVnl   27 分析工具应用； en{p<]H   28 寻找最佳非球面 @ntwdv;   29 曲率套样板； R2~y<^.V`Y   3t+{ ~{Dj   30 镜头匹配工具；
m_Ed[h/I   09 全局优化； q j21#q .   10 锤形优化； c3l(,5DtH   11 优化函数架构技巧； m4OnRZYlw   12 单透镜优化实例	dpS@:   31 Zemax 公差分析功能介绍; WGA&Lr   32 加工误差、装配误差； {9Qc\Ij   33 灵敏度分析; bf.+Ewb(   34 反灵敏度分析;
/f?;,CyI   13 双胶合优化实例； jEQ_#KKYJ   14 热分析及衍射光学元件的使用; f@ |[pT   15 实例设计及分析； d!T,fz/-.   16 MTF	X1P1 $RdkR   35 蒙特卡罗分析; b*S,8vE]   3,G|oR{D   36 公差评价标准； NVkYm+J#   37 公差操作数； ZMMx)}hS   38 补偿变量的使用；
S_Nm?;P   17 双高斯镜头设计及优化； J&h59dm-   18 像质评价与图像模拟； :9(kU   19 坐标变换； 3C!|!N1Hn   20 坐标断点面的使用技巧	a'Cny((   39 单透镜公差分析； |*J;X<Vm   N9d^;6;i   40 库克镜头公差分析； g&p(XuN   41 分析报告查看说明； p@Os   42 公差脚本的使用；
q7aqbkwz}   21 序列模式棱镜建模； V}<<?_   Z)xcxSo   22 扫描反射镜设计实例；	X$ul=iBs   43 镜头出图、CAD 出图； S9l po_!z   44 小结及答疑

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培训信息 Ag:/iB]  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 C<:wSS^@1  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。