光学设计必学!Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

发布:ueotek 2022-02-18 10:49 阅读:1491
Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 5PT*b}g@  
oAq<ag\qV  
培训大纲 tq8rG@-C  
s#C~HK  
01 OpticStudio 软件功能介绍; iriF'(1  
02 材料库、镜头库介绍; l%xjCuuhU  
03 如何定义新材料; _*dUH5  
04 如何使用镜头库;
!Im{-t  
23 柯勒照明综合设计实例; H.s:a#l?  
24 投影系统设计  5wy3C  
25 集光系统设计; >0jg2vqt  
N:e5=;6s  
26 暗盒系统介绍;
^yVKW5x  
05 像差理论介绍; \m3ca-Y  
06 Zemax 里像差分析图谱; T.#Vma  
07 优化; 8\_YP3  
08 局部优化
8al%F_r]  
27 分析工具应用; kmF@u@5M  
28 寻找最佳非球面 ~BD 80s:f  
29 曲率套样板; 4A~1Z,"%v(  
f-l(H="e  
30 镜头匹配工具;
3Ay<2v  
09 全局优化; |$.`4h?  
10 锤形优化; Qj',&b  
11 优化函数架构技巧; tG(!d$^  
12 单透镜优化实例
=S}SZYw l  
31 Zemax 公差分析功能介绍; /.%AE|0+X  
32 加工误差、装配误差; J^<}fRw  
33 灵敏度分析; nkTu/)or  
34 反灵敏度分析;
_|vY)4B 4U  
13 双胶合优化实例; Q\[2BJo/  
14 热分析及衍射光学元件的使用; n0%]dKCB  
15 实例设计及分析; gOKF%Ej31T  
16 MTF
YO`V'6\  
35 蒙特卡罗分析; &Uu8wFbIJ  
DE_ <LN  
36 公差评价标准; c*HWH$kB  
37 公差操作数; 1|/]bffg!c  
38 补偿变量的使用;
KO5! (vi@  
17 双高斯镜头设计及优化; $@Kwsoh'  
18 像质评价与图像模拟 Y>2kOE  
19 坐标变换; s'yT}XQ;r  
20 坐标断点面的使用技巧
;7w4BJcq']  
39 单透镜公差分析; <WRrB `nO  
S[5e,E w  
40 库克镜头公差分析; /D&7 \3}  
41 分析报告查看说明; = & =#G3f  
42 公差脚本的使用;
Z@{e\sZ)  
21 序列模式棱镜建模; Rx%SeM2  
&'d3Yt  
22 扫描反射镜设计实例;
:B"Y3~I  
43 镜头出图、CAD 出图; Fl0 :Z  
44 小结及答疑
^4 ?LQ[t'  
Tkf JC|6  
培训信息 :FqHMN  
  • ym.:I@b?6  
    主办单位:武汉宇熠科技有限公司
  • (,!G$~Sy  
    培训主题:Zemax 成像设计
  • q7u bRak  
    培训形式:线上培训
  • Y$&+2w,)H,  
    培训时间:2022年3月9~10日(9:00-17:00)
  • yV/A%y-P  
    培训费用:¥ 1980元 / 人
5x/LHsr=m  
三人及以上组团报名可享八折优惠
  • 1&Ruz[F5  
    报名方式:扫码报名
+ tza]r:  
电话:027-87878386
<b$.{&K  
【备注】 pZaOd;t  
注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
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