光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 c2$&pZ
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培训大纲 \K,piCVViN  

"q'9-lk   01 OpticStudio 软件功能介绍; vU|.Gw   02 材料库、镜头库介绍； e.Y*=P}D   03 如何定义新材料； ":o1g5?   04 如何使用镜头库；	.W9/*cZV0   23 柯勒照明综合设计实例； 4_A9o9&_Rh   24 投影系统设计 m4@f&6x   25 集光系统设计； l:Y$A$W]>   |>Xw"]b;   26 暗盒系统介绍；
@|2}*_3\   05 像差理论介绍； SdI/   06 Zemax 里像差分析图谱； E\%'/3o   07 优化; f%1Dn}6   08 局部优化	c=-2c&=&   27 分析工具应用； H=7zd|W   28 寻找最佳非球面 _`Abz2s   29 曲率套样板； 0 CJ4]mYl   gUrb&#\X   30 镜头匹配工具；
!iOuIYjV   09 全局优化； fC$~3v   10 锤形优化； !`VO#_TJ   11 优化函数架构技巧； @c8s<9I]   12 单透镜优化实例	jgr2qSUC   31 Zemax 公差分析功能介绍; P'nby F   32 加工误差、装配误差； :EUV#5V.   33 灵敏度分析; I)-u)P?2x   34 反灵敏度分析;
>Kd(.r[Er   13 双胶合优化实例； jZ'y_   14 热分析及衍射光学元件的使用; E"[^^<I   15 实例设计及分析； 3x9O(;k   16 MTF	zn |=Q$81   35 蒙特卡罗分析; wFW2m   n.m6n*sf7   36 公差评价标准； OGy/8B2c   37 公差操作数； F7(~v2|   38 补偿变量的使用；
;'Pi(TA)   17 双高斯镜头设计及优化； ]Mh7;&<6[   18 像质评价与图像模拟； ]c8$%   19 坐标变换； jH*+\:UP-   20 坐标断点面的使用技巧	JuGQS24   39 单透镜公差分析； r|Y|uv0   aBM' RO Q   40 库克镜头公差分析； i*9l   41 分析报告查看说明； Lp \%-s#5s   42 公差脚本的使用；
y\ nR0m   21 序列模式棱镜建模； u+]v.Mt   `9QrkkG+   22 扫描反射镜设计实例；	/HNZwbh]uJ   43 镜头出图、CAD 出图； tVhY=X{N?   44 小结及答疑

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培训信息 Ne]/ sQ0  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。