光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 @[:JQ'R=  
vf|lF9@U  
培训大纲 !I7bxDzK$  

aMUy^ >   01 OpticStudio 软件功能介绍; /Ir|& <yB   02 材料库、镜头库介绍； +c8cyx:^f   03 如何定义新材料； I6k S1   04 如何使用镜头库；	'1$#onx   23 柯勒照明综合设计实例； -<R"   24 投影系统设计 sSh=Idrx   25 集光系统设计； S%+$   01/?   26 暗盒系统介绍；
zW,Nv>Ac5   05 像差理论介绍； (Wj2%*NT   06 Zemax 里像差分析图谱； r_5k$u(   07 优化; 8Wa&&YTB   08 局部优化	3?}W0dZ$d   27 分析工具应用； {3jV ,S   28 寻找最佳非球面 #Cw zk{p(   29 曲率套样板； S$= e %c   x[ sSM:   30 镜头匹配工具；
L>,j*a_[   09 全局优化； $IuN(#   10 锤形优化； ;}=4z^^5   11 优化函数架构技巧； 'CrBxaA]s   12 单透镜优化实例	Kb<^Wdy4T   31 Zemax 公差分析功能介绍; ^kS44pr\Q   32 加工误差、装配误差； _n[4+S*v(   33 灵敏度分析; #rE#lHo   34 反灵敏度分析;
6X@]<R   13 双胶合优化实例； +npcU:(Kg   14 热分析及衍射光学元件的使用; ) <lpI';T   15 实例设计及分析； ;[)t*yAh   16 MTF	NXwlRMbo   35 蒙特卡罗分析; 4. &t   ?89ZnH2/   36 公差评价标准； S`!MoIMsD   37 公差操作数； \Oku<5   38 补偿变量的使用；
~7N>tjB   17 双高斯镜头设计及优化； D^E+#a 1   18 像质评价与图像模拟； l c<&f   19 坐标变换； 8?n6 \cF   20 坐标断点面的使用技巧	80/6-_g(   39 单透镜公差分析； 0(uNFyIG   R*C   40 库克镜头公差分析； WIe2j   41 分析报告查看说明； "S">#.L   42 公差脚本的使用；
ZQd\!K8y^Q   21 序列模式棱镜建模； +O@v|}9"w3   qJ;T$W=NG   22 扫描反射镜设计实例；	\X'{ ee   43 镜头出图、CAD 出图； 9Q!X~L|\S   44 小结及答疑

gFsnL*L0  
''@upZBJ  
培训信息 C$Y pk\p  

• lS`hJ:  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• )/'y'd<r  
  培训主题：Zemax 成像设计
• OV l,o  
  培训形式：线上培训
• .js@F/Hp  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• wYf9&}k\4  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

YWfw%p?n"  
三人及以上组团报名可享八折优惠

• IZ2c<B5&  
  报名方式：扫码报名

【备注】 nDR)UR  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。