光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 ~\i(bFd)  
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培训大纲 MmfBFt*  

vd(S&&]o1   01 OpticStudio 软件功能介绍; c;Tp_e@   02 材料库、镜头库介绍； dQZdL4   03 如何定义新材料； JqZt1um   04 如何使用镜头库；	d(TN(6g@   23 柯勒照明综合设计实例； L\UGC%]9   24 投影系统设计 WcoA)we   25 集光系统设计； hc[J,yG   XzSl"UPYH   26 暗盒系统介绍；
6W{Nw<   05 像差理论介绍； (,jsZ!sl   06 Zemax 里像差分析图谱； m;\nMdn   07 优化; != PH5jTY   08 局部优化	o $W@@aM   27 分析工具应用； 4w=v /WDo   28 寻找最佳非球面 F6111Q </   29 曲率套样板； :aomDK*   ZOcpF1y   30 镜头匹配工具；
yYYP;N?g4k   09 全局优化； WeaT42*Q{   10 锤形优化； 9#:fQ!3`   11 优化函数架构技巧； 2>o^@4PnZ   12 单透镜优化实例	HR"clD\{Di   31 Zemax 公差分析功能介绍; ]Idwy|eG   32 加工误差、装配误差； ybqmPT'|_   33 灵敏度分析; *$|f9jVh   34 反灵敏度分析;
Z37Dv;&ZD   13 双胶合优化实例； L.yM"   14 热分析及衍射光学元件的使用; +6$+]u]   15 实例设计及分析； >r7PK45.K   16 MTF	036m\7+Qj   35 蒙特卡罗分析; bf+C=A)s0   |h6!bt!=   36 公差评价标准； `h'l"3l   37 公差操作数； Yj>4*C9   38 补偿变量的使用；
3<+ZA-2   17 双高斯镜头设计及优化； V^R,j1*   18 像质评价与图像模拟； BYMdX J   19 坐标变换； -,+C*|mu   20 坐标断点面的使用技巧	gC(S(osF   39 单透镜公差分析； d/j?.\   NfPWcK[   40 库克镜头公差分析； u&uFXOc'   41 分析报告查看说明； {6h 1   42 公差脚本的使用；
L(K 5f7\   21 序列模式棱镜建模；  j0~am,yZ   97\K]Tr   22 扫描反射镜设计实例；	R*2N\2   43 镜头出图、CAD 出图； pTG[F   44 小结及答疑

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培训信息 _b&26!gl  

• k<Gmb~Tg1  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
• 6`Y:f[VB  
  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。