光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 t66f 7AR  
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培训大纲 vQBY1-S  

or!D   01 OpticStudio 软件功能介绍; j |'#5H`   02 材料库、镜头库介绍； 7:VEM;[d   03 如何定义新材料； 1RI#kti-"   04 如何使用镜头库；	yo?g"vbE   23 柯勒照明综合设计实例； XgiI6-B ~   24 投影系统设计 K{=r.W   25 集光系统设计； "]SJbuzh   KMpDlit   26 暗盒系统介绍；
2pxWv )0   05 像差理论介绍； sxN>+v11z   06 Zemax 里像差分析图谱； %/tGkS6   07 优化; :\1rQT   08 局部优化	,);= (r9   27 分析工具应用； bG5^h   28 寻找最佳非球面 taWirqd9   29 曲率套样板； VGTeuu5i   [Q7->Wo|S:   30 镜头匹配工具；
,`%k'ecN   09 全局优化； FhY{;-W(T   10 锤形优化； Qb6QXjN Q   11 优化函数架构技巧； 1kvPiV=X>   12 单透镜优化实例	nJldz;   31 Zemax 公差分析功能介绍; .KiPNTh'   32 加工误差、装配误差； DU/9/ I?~   33 灵敏度分析; IL+#ynC   34 反灵敏度分析;
RQj`9F   13 双胶合优化实例； (!3Yc:~RE   14 热分析及衍射光学元件的使用; |MOn0*   15 实例设计及分析； \yJZvhUk   16 MTF	EFa{O`_@U   35 蒙特卡罗分析; dAYI DE   "B|nhd   36 公差评价标准； }"%!(rx   37 公差操作数； 9_J!s   38 补偿变量的使用；
^w;o \G   17 双高斯镜头设计及优化； `YFkY^T   18 像质评价与图像模拟； ]6a/0rg:t   19 坐标变换； 8_^'(]   20 坐标断点面的使用技巧	".~MmF   39 单透镜公差分析； otWo^CE$   ) >>u|#@z   40 库克镜头公差分析； "?oo\op   41 分析报告查看说明； ]yyU)V0Iu   42 公差脚本的使用；
?Ia4H   21 序列模式棱镜建模； +L`V [;   kbfuvJ>   22 扫描反射镜设计实例；	bh= \   43 镜头出图、CAD 出图； a6;gBoV   44 小结及答疑

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培训信息 2LCc  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 QH& %mr.S  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。