光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 9U9ghWH8  
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培训大纲 a"+VP>4  

NVVAh5R   01 OpticStudio 软件功能介绍; WnQ'I=E#~   02 材料库、镜头库介绍； : Q,O:   03 如何定义新材料； @8YuMD;   04 如何使用镜头库；	P^ -x   23 柯勒照明综合设计实例； :U1V 2f'l3   24 投影系统设计 R]kH$0`   25 集光系统设计； d6W&u~   Ux,dj8=o   26 暗盒系统介绍；
8=\k<X{`   05 像差理论介绍； 2}{[J   06 Zemax 里像差分析图谱； B^1jd!m   07 优化; k \t6b1.M   08 局部优化	"| oW6@   27 分析工具应用； ^J?2[(    28 寻找最佳非球面 a(U/70j   29 曲率套样板； fQU_ A   RvW>kATb_F   30 镜头匹配工具；
^-}3+YA   09 全局优化； +c'I7bBr   10 锤形优化； Tq6@ 1j6p   11 优化函数架构技巧； F,5}3$   12 单透镜优化实例	51%<N\>/4   31 Zemax 公差分析功能介绍; ~fA H6FdZ\   32 加工误差、装配误差； :)e/(I]   33 灵敏度分析; 4.&et()}   34 反灵敏度分析;
I>3G"[t   13 双胶合优化实例； }>Lz\.Z/+[   14 热分析及衍射光学元件的使用; 3'Z+PPd!   15 实例设计及分析； vCR\lR+   16 MTF	*u<@_Oa   35 蒙特卡罗分析; ?y{"OuRf.   c_2kHT   36 公差评价标准； 1n ZE9;o   37 公差操作数； 6? (8KsaN   38 补偿变量的使用；
`^E(P1oJ3   17 双高斯镜头设计及优化； )\0c 2_w>   18 像质评价与图像模拟； PJcz] <   19 坐标变换； rNHV   20 坐标断点面的使用技巧	20uR?/|@   39 单透镜公差分析； =>h~<88#5   @l2AL9z$m>   40 库克镜头公差分析； T\HP5&   41 分析报告查看说明； Xp3cYS*u   42 公差脚本的使用；
Fx*IeIs(:~   21 序列模式棱镜建模； b+}*@xhl   t#g6rh&   22 扫描反射镜设计实例；	&-Zg0T&tZ   43 镜头出图、CAD 出图； ~&IL>2-B   44 小结及答疑

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培训信息 _^ @}LVv+E  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• Ts:pk  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 HPj7i;?O  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。