光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 Xe:e./@  
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培训大纲 {&s.*5  

`ouCQ]tKz   01 OpticStudio 软件功能介绍; }#QYZ nR   02 材料库、镜头库介绍； _ 6{XqvWqb   03 如何定义新材料； z)]Br 1   04 如何使用镜头库；	">"B   23 柯勒照明综合设计实例； ? EXYLG   24 投影系统设计 l*>,:y   25 集光系统设计； C:<TJ   o_&*?k*   26 暗盒系统介绍；
2f7]=snCG   05 像差理论介绍； ~<Sb:Izld   06 Zemax 里像差分析图谱； zT"W(3   07 优化; E|hW{oX3   08 局部优化	-4nSiI   27 分析工具应用； 137:T:   28 寻找最佳非球面 G}p*oz~   29 曲率套样板； y?yWM8   Fd/.\s   30 镜头匹配工具；
r@]iy78 j   09 全局优化； u (Y?2R    10 锤形优化； .z&,d&E   11 优化函数架构技巧； 2vx1M6a)L   12 单透镜优化实例	@6:J$B~)u   31 Zemax 公差分析功能介绍; a) 5;Od   32 加工误差、装配误差； >.f'_2#Z&   33 灵敏度分析; =6LF_=}   34 反灵敏度分析;
f%5 s8)   13 双胶合优化实例； xO2CgqEb   14 热分析及衍射光学元件的使用; ':LV"c4t   15 实例设计及分析； ;$$.L bb8   16 MTF	X*Cvh|   35 蒙特卡罗分析; -/ h'uG   "`8~qZ7k   36 公差评价标准； bO\E)%zp   37 公差操作数； e!JC5Al7   38 补偿变量的使用；
:~{x'`czJ   17 双高斯镜头设计及优化； 3X A8\Mg   18 像质评价与图像模拟； EwH_k   19 坐标变换； Y ;OqdO   20 坐标断点面的使用技巧	B gB]M3Il   39 单透镜公差分析； 0)T`&u3!   leomm+f^   40 库克镜头公差分析； yi$Jk}w   41 分析报告查看说明； sJq^>"|J   42 公差脚本的使用；
ZVX!=3VT   21 序列模式棱镜建模； pXv@QD#!   [  bB    22 扫描反射镜设计实例；	!%s&GD8&l   43 镜头出图、CAD 出图； _k2*2db    44 小结及答疑

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培训信息 s`Z'5J;S  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。