光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 h-QLV
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培训大纲 E^CiOTN  

Adx`8}N8   01 OpticStudio 软件功能介绍; wT_h!W   02 材料库、镜头库介绍； \#Up|u:   03 如何定义新材料； qTmD'2   04 如何使用镜头库；	]l;*$2w)   23 柯勒照明综合设计实例； )jDJMi_[   24 投影系统设计 c0rk<V%5+   25 集光系统设计； |J>WC}g@n   |yY`s6Uq   26 暗盒系统介绍；
L%h/OD   05 像差理论介绍； VaLs`q&3>   06 Zemax 里像差分析图谱； qoX@@xr1   07 优化; >)**khuP7   08 局部优化	,o#kRWRG   27 分析工具应用； ] d?x$>   28 寻找最佳非球面 E>uVofhml   29 曲率套样板；  .\:J~(   X#p Wyo~   30 镜头匹配工具；
#&8rcu;/   09 全局优化； {/8 Q)2*>0   10 锤形优化； QP(BZJC   11 优化函数架构技巧； 9A$m$   12 单透镜优化实例	k%81f'H   31 Zemax 公差分析功能介绍; QlZ@ To   32 加工误差、装配误差； u{e-G&]^;   33 灵敏度分析; /X*oS&-M   34 反灵敏度分析;
$l[Rh1z`;+   13 双胶合优化实例； UKBJ_r   14 热分析及衍射光学元件的使用; q3w1GD   15 实例设计及分析； ULqoCd%bK   16 MTF	nsuX*C7   35 蒙特卡罗分析; TnH\O$   Dr#c)P~Wd   36 公差评价标准； nE W31 8   37 公差操作数； }}{Yw   38 补偿变量的使用；
h2q/mi5{   17 双高斯镜头设计及优化； !CY&{LEYn0   18 像质评价与图像模拟； Gc,_v3\   19 坐标变换； Y]g?2N=E   20 坐标断点面的使用技巧	8y2+&#$   39 单透镜公差分析； (p)!Mq "^   \XzM^K3   40 库克镜头公差分析； \2v"YVWw   41 分析报告查看说明； dp5cDF}l   42 公差脚本的使用；
i@P}{   21 序列模式棱镜建模； @%ECj)u`O   q6d~V]4:   22 扫描反射镜设计实例；	,. EBOUW^   43 镜头出图、CAD 出图； K7)kS   44 小结及答疑

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培训信息 z8_XX$Mnt  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 Tl("IhkC  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。