光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 !MoGdI-<r[  
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培训大纲 Qb/qUUQO;0  

Ow<=K:^   01 OpticStudio 软件功能介绍; 5_{C \S`T   02 材料库、镜头库介绍； }VdohX-   03 如何定义新材料； tZwZZ0]Z   04 如何使用镜头库；	`5Q0U%`W   23 柯勒照明综合设计实例； &Zd!|u   24 投影系统设计 K`D> G<   25 集光系统设计； }~yhkt5K   !\2Xr{f   26 暗盒系统介绍；
[.dF)I3   05 像差理论介绍； ~gmj/PQ0   06 Zemax 里像差分析图谱； iq =<L Ox   07 优化; *RivZ c9;P   08 局部优化	Q% )fuI   27 分析工具应用； Y0 Ta&TYZ0   28 寻找最佳非球面 &")ON[|b   29 曲率套样板； Bk*AO?3p   Az{Z=:(0   30 镜头匹配工具；
V~%!-7?   09 全局优化； *#w+*ywVZH   10 锤形优化； <Zl}u:(w   11 优化函数架构技巧； m onqaSF   12 单透镜优化实例	b+9M? k"   31 Zemax 公差分析功能介绍; D `c YQ-   32 加工误差、装配误差； =Z2Cg{z   33 灵敏度分析; rgJKXl;@s   34 反灵敏度分析;
??Q'| r   13 双胶合优化实例； V) =!pT   14 热分析及衍射光学元件的使用; Z~CL|=   15 实例设计及分析； S2'./!3yv   16 MTF	qlNK }   35 蒙特卡罗分析; Gk g)\ 3   U@Y0z.Y   36 公差评价标准； $OldHe[p   37 公差操作数； &;DK^ta*P   38 补偿变量的使用；
}vgeQh-G   17 双高斯镜头设计及优化； |>Qj]   18 像质评价与图像模拟； Vf:/Kokq   19 坐标变换； [< Bk% B5   20 坐标断点面的使用技巧	Y/?V%X   39 单透镜公差分析； 9@/X;zO   ^"STM'Zh   40 库克镜头公差分析； uS`XWn<CSD   41 分析报告查看说明； 7VduewKX8   42 公差脚本的使用；
aEM2xrhy,   21 序列模式棱镜建模； 4}E|CD/p Z   t2uX+1F   22 扫描反射镜设计实例；	$aDAD4mmm   43 镜头出图、CAD 出图； )!z<q}i5   44 小结及答疑

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培训信息 F9IrbLS9c  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。