光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 ]aP=Ks%  
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培训大纲 L`f^y;Y.  

[B@'kwD\l   01 OpticStudio 软件功能介绍; !+>v[(OzM   02 材料库、镜头库介绍； =4V&*go*\   03 如何定义新材料； ^;!0j9"*:   04 如何使用镜头库；	,B?~-2cCz   23 柯勒照明综合设计实例； f-DL:@crU   24 投影系统设计 lC:k7<0Ji   25 集光系统设计； ^b:(jI*l   &'cL%.   26 暗盒系统介绍；
X%z }VA   05 像差理论介绍； ojYbR<jn9   06 Zemax 里像差分析图谱； mxor1P#|   07 优化; !cKz7?w   08 局部优化	Lg8nj< TF   27 分析工具应用； ^`un'5Vk   28 寻找最佳非球面 u\&b4=nL   29 曲率套样板； afjtn_IB   X%yO5c\l2   30 镜头匹配工具；
fYKOJ5f   09 全局优化； "$s~SIUB   10 锤形优化； =*p/F   11 优化函数架构技巧； ?X@fKAj   12 单透镜优化实例	;&H4u)   31 Zemax 公差分析功能介绍; h(W rL   32 加工误差、装配误差； 2,ECYie^   33 灵敏度分析; y#}cC+;    34 反灵敏度分析;
$kR N h6   13 双胶合优化实例； /mo(_   14 热分析及衍射光学元件的使用; *s@Qtgu   15 实例设计及分析； vJAZ%aW   16 MTF	3u%{dGa   35 蒙特卡罗分析; fw , \DFHO   Uj&W<'I   36 公差评价标准； d,Y_GCZ7|W   37 公差操作数； X,9 M"E 2   38 补偿变量的使用；
(sVi\R   17 双高斯镜头设计及优化； SG6sw]x   18 像质评价与图像模拟； ^vG8#A}]   19 坐标变换； 9UvXC)R1   20 坐标断点面的使用技巧	Mq';S^   39 单透镜公差分析； N !TW!   !w&kyW?e   40 库克镜头公差分析； R<B7K?SxV~   41 分析报告查看说明；  i2~   42 公差脚本的使用；
3fN.bU9_   21 序列模式棱镜建模； OY?y^45y   Df3rV'/~   22 扫描反射镜设计实例；	R8.CC1Ix   43 镜头出图、CAD 出图； Y@PI {;!   44 小结及答疑

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培训信息 V!)O6?l  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• O%r;5kP  
  培训主题：Zemax 成像设计
• Web|\CH  
  培训形式：线上培训
• McPNB`.H  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 #-h\.#s  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。