光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 &opH\wa  
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培训大纲 *SpO|*'  

rt4|GVa   01 OpticStudio 软件功能介绍; sjg xx7   02 材料库、镜头库介绍； Yv|bUZ@   03 如何定义新材料； Q!$kUcky9   04 如何使用镜头库；	l>Oe ,`9O   23 柯勒照明综合设计实例； :O2v0Kx   24 投影系统设计 xdSj+507   25 集光系统设计； <MDFfnj   TTjjyZ@   26 暗盒系统介绍；
z8MpE   05 像差理论介绍； m0K2p~   06 Zemax 里像差分析图谱； aG&kl O>m   07 优化; P24   08 局部优化	z@40g)R2A   27 分析工具应用； E"vi+'(v   28 寻找最佳非球面 "q#g/T   29 曲率套样板； 'G By^hj?   pRfHbPV?   30 镜头匹配工具；
/-} p7AM   09 全局优化； n ;f Tx   10 锤形优化； gj(l&F *@   11 优化函数架构技巧； Ay. q )   12 单透镜优化实例	OjL"0imN6   31 Zemax 公差分析功能介绍; ;@$, " P   32 加工误差、装配误差； ;?[+vf")   33 灵敏度分析; doU qUak   34 反灵敏度分析;
!EC\1rmdlN   13 双胶合优化实例； REe%>|    14 热分析及衍射光学元件的使用; P) 0=@{(   15 实例设计及分析； ;{#M   16 MTF	D"><S<C\C   35 蒙特卡罗分析; U8@*I>vA   SOY#, Zu   36 公差评价标准； {d5ur@G1   37 公差操作数； `rFGSq$9   38 补偿变量的使用；
oA^ ]x>   17 双高斯镜头设计及优化； l<:)rg^,   18 像质评价与图像模拟； CMB$RLf   19 坐标变换； 5+PBS)pJ]%   20 坐标断点面的使用技巧	E;*TRr><   39 单透镜公差分析； C3 c|@7FU   mCP +7q7   40 库克镜头公差分析； J};,%q_   41 分析报告查看说明； %1l80Z   42 公差脚本的使用；
#pxet   21 序列模式棱镜建模； rs)aEmvC   HGMH g   22 扫描反射镜设计实例；	M>l+[U   43 镜头出图、CAD 出图； *`/@[S2,cu   44 小结及答疑

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培训信息 U\plt%2m>  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 [_B&7#3>7  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。