光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 M:O*_>KF  

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培训大纲 $#^3>u  

Z%#e* O0   01 OpticStudio 软件功能介绍; =K@LEZZ'/<   02 材料库、镜头库介绍； E2Sj IR}   03 如何定义新材料； 4n#u?)   04 如何使用镜头库；	mjOxmwo   23 柯勒照明综合设计实例； l(Y32]Z   24 投影系统设计 $y;w @^   25 集光系统设计；  H_g ]q   pyf'_   26 暗盒系统介绍；
y0O(n/   05 像差理论介绍； hLfWDf*T|   06 Zemax 里像差分析图谱； r6j[C"@   07 优化; s?<FS@k   08 局部优化	7L+Wj }m   27 分析工具应用； \Vv)(/q{   28 寻找最佳非球面 $d1ow#ROgy   29 曲率套样板； }51QUFhL0   }[%F   30 镜头匹配工具；
)g=mv *9>   09 全局优化； 6cg,L:j#   10 锤形优化； x~'_;>]r_   11 优化函数架构技巧； Ob%iZ.D|3<   12 单透镜优化实例	X6sZwb   31 Zemax 公差分析功能介绍; wgDAb#Zuk   32 加工误差、装配误差； (muJ-~CJk   33 灵敏度分析; ||2%N/?   34 反灵敏度分析;
i~GW   13 双胶合优化实例； 02 FLe*zQ   14 热分析及衍射光学元件的使用; i K@RQi   15 实例设计及分析； h-.^*=]R6   16 MTF	| {zka.sJ   35 蒙特卡罗分析; *3^7'^j<   =Q"ths R   36 公差评价标准； Bl)D/   37 公差操作数； =}ZY`O*/   38 补偿变量的使用；
[/ CB1//Y   17 双高斯镜头设计及优化； 2C0j.Ib   18 像质评价与图像模拟； [3irr0D7l   19 坐标变换； Pf8_6z_   20 坐标断点面的使用技巧	mj9|q8v{+   39 单透镜公差分析； M|y!,/'   w8>lWgN   40 库克镜头公差分析； ;[zZI~wh   41 分析报告查看说明； @#"K6   42 公差脚本的使用；
2+|r*2_glo   21 序列模式棱镜建模； ?,v@H$)3_   Jbima>   22 扫描反射镜设计实例；	>$<Q:o}^   43 镜头出图、CAD 出图； sS)tSt{C   44 小结及答疑

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培训信息 uA?a DjA  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。