光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 :JXGgl<y  
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培训大纲 @6kkt~>:  

mr QT:B\8   01 OpticStudio 软件功能介绍; r XT6u   02 材料库、镜头库介绍； NOSLb];   03 如何定义新材料； bx%Ky0Z   04 如何使用镜头库；	ujWC!*W(Q   23 柯勒照明综合设计实例； SuA  @S   24 投影系统设计 Z&|Dp*Z   25 集光系统设计； BU<Qp$&   ]T=o>%   26 暗盒系统介绍；
.I Io    05 像差理论介绍； V'FKgzd   06 Zemax 里像差分析图谱； #AH gY.   07 优化; 1*?XI   08 局部优化	{)I&&fSz   27 分析工具应用； fQxlYD'peb   28 寻找最佳非球面 X`C ozyYuD   29 曲率套样板； ,&iEn}xG7i   mKJO?7tj   30 镜头匹配工具；
q* !Vyk   09 全局优化； =5O&4G`}   10 锤形优化； kl|m @Nxp   11 优化函数架构技巧； d@?zCFD   12 单透镜优化实例	qtjx<`EK>   31 Zemax 公差分析功能介绍; JMfv|>=   32 加工误差、装配误差；  _'K6S   33 灵敏度分析; 6?';ip   34 反灵敏度分析;
4D[(X=FSU   13 双胶合优化实例； .[ s6x5M   14 热分析及衍射光学元件的使用; %_(^BZd   15 实例设计及分析； q}]z8 L   16 MTF	JSoInR1E   35 蒙特卡罗分析; )`#SMLMy~   mUfANlQ:   36 公差评价标准； xUPg~c0   37 公差操作数； lQL/I[}   38 补偿变量的使用；
H on,-<   17 双高斯镜头设计及优化； "`V:4uz   18 像质评价与图像模拟； ?NxaJ^   19 坐标变换； %~\I*v0 4   20 坐标断点面的使用技巧	# ';b>J   39 单透镜公差分析； Hv*+HUc(:   &r!jjT   40 库克镜头公差分析； c3)6{   41 分析报告查看说明； M1eM^m8U   42 公差脚本的使用；
8#|PJc   21 序列模式棱镜建模； L4<=,}KS   =.IAd<C   22 扫描反射镜设计实例；	^qtJcMK+hq   43 镜头出图、CAD 出图； lT8^BT   44 小结及答疑

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培训信息 /~+j[oB  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 m,SWG[~  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。