光学设计必学!Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

发布:ueotek 2022-02-18 10:49 阅读:1360
Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 SCh7O}  
}Uwkef.Q  
培训大纲 D=82$$  
>0<KkBH  
01 OpticStudio 软件功能介绍; bco[L@6G$  
02 材料库、镜头库介绍; 8MeO U  
03 如何定义新材料; Xc9p;B>^Ts  
04 如何使用镜头库;
17n+4J]  
23 柯勒照明综合设计实例; 5y[b8mur  
24 投影系统设计 C{`^9J-  
25 集光系统设计; LG Y!j_bD  
A1|7(Sow  
26 暗盒系统介绍;
T[4[/n> i  
05 像差理论介绍; 1O]5/Eu  
06 Zemax 里像差分析图谱; fNAo$O4cm  
07 优化; "BLv4s|y7L  
08 局部优化
RI5g+Du?  
27 分析工具应用; G>[ NZE  
28 寻找最佳非球面 XAQ\OX#  
29 曲率套样板; X@ bn??  
_d\u!giy  
30 镜头匹配工具;
43{_Y]  
09 全局优化; 4Wi8 $  
10 锤形优化; `bZ2x@  
11 优化函数架构技巧; Msv*}^>  
12 单透镜优化实例
5D]30  
31 Zemax 公差分析功能介绍;  d-ag  
32 加工误差、装配误差; }DDVGs[  
33 灵敏度分析; +3/k/W  
34 反灵敏度分析;
_uO!N(k.  
13 双胶合优化实例; z\Pe{J  
14 热分析及衍射光学元件的使用; 2,8/Cb  
15 实例设计及分析; f%Z;05  
16 MTF
TbKP8zw{  
35 蒙特卡罗分析; vgh ^fa!/  
KdOh'OrT9.  
36 公差评价标准; H})Dcg3  
37 公差操作数; }@rg5$W  
38 补偿变量的使用;
6m, KL5>W  
17 双高斯镜头设计及优化; \A'|XdQ  
18 像质评价与图像模拟 (C-,ljY  
19 坐标变换; z`emKFbv  
20 坐标断点面的使用技巧
W"b&M%y|  
39 单透镜公差分析;  _DPB?)!x  
L;1$xI8tx  
40 库克镜头公差分析; Ss@u,`pr  
41 分析报告查看说明; S3ab0JM  
42 公差脚本的使用;
NCowt|#t  
21 序列模式棱镜建模; 3W7;f!  
Kcscz,  
22 扫描反射镜设计实例;
18DTv6?QG  
43 镜头出图、CAD 出图; #dva0%-1  
44 小结及答疑
1A7%0/K-]  
o }9M`[  
培训信息 Veb+^&  
  • d] b~)!VW  
    主办单位:武汉宇熠科技有限公司
  • P &;y] ,)E  
    培训主题:Zemax 成像设计
  • 1fz*S IjG  
    培训形式:线上培训
  • xoqiRtlY:  
    培训时间:2022年3月9~10日(9:00-17:00)
  • G0_&gx`  
    培训费用:¥ 1980元 / 人
{l&Ltruhz  
三人及以上组团报名可享八折优惠
  • d&}pgb-Md  
    报名方式:扫码报名
"C_T]%'Wm  
电话:027-87878386
1%$d D2  
【备注】 Zu\p;!e  
注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
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