光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 <7Ry"z6g;  
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培训大纲 hK 1 H'~c  

HJt@m &H|   01 OpticStudio 软件功能介绍; {YF(6wVl   02 材料库、镜头库介绍； [K""6D   03 如何定义新材料； vX<^x2~9(   04 如何使用镜头库；	.njk^,N   23 柯勒照明综合设计实例； 8M8Odz\3 q   24 投影系统设计 lkJ"f{4f   25 集光系统设计； i>%A0.9   W=\4 5BJ   26 暗盒系统介绍；
kV@?Oj.&I,   05 像差理论介绍； eNu]K,rT   06 Zemax 里像差分析图谱； 6d/1PGB   07 优化; ?(Ytc)   08 局部优化	) m(!lDz3   27 分析工具应用； U On:@Qn   28 寻找最佳非球面 aI_[h v   29 曲率套样板； *NCkC ~4   2U@:.S'K   30 镜头匹配工具；
W?<<al*   09 全局优化； __|Y59J%   10 锤形优化； !24PJ\~I   11 优化函数架构技巧； QzVoU |   12 单透镜优化实例	q0L\{   31 Zemax 公差分析功能介绍; /B)`pF.n   32 加工误差、装配误差； ?.^n,[2   33 灵敏度分析; N^4CA@'{   34 反灵敏度分析;
O'h f8w   13 双胶合优化实例；  xq&r|el   14 热分析及衍射光学元件的使用; Q#zU0K*^   15 实例设计及分析； Af Y]i   16 MTF	?10L *PD@   35 蒙特卡罗分析; vOo- jUKs   mv>-XJ+   36 公差评价标准； @]7s`?   37 公差操作数； "xAIK   38 补偿变量的使用；
m{f+!   17 双高斯镜头设计及优化； *R3^:Y&   18 像质评价与图像模拟； PFjh]/=   19 坐标变换； ^J'O8G$   20 坐标断点面的使用技巧	ca<OG;R^   39 单透镜公差分析； Q[)3r ,D   HutQ x   40 库克镜头公差分析； Og7^7))   41 分析报告查看说明； _6-N+FI   42 公差脚本的使用；
m>djoe   21 序列模式棱镜建模； wizLA0W   X}g"_wN,g>   22 扫描反射镜设计实例；	X3'd~!a)   43 镜头出图、CAD 出图； >?[?W|k7V   44 小结及答疑

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培训信息 Zi{vEI]  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。