光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 tS,nO:+x  
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培训大纲 Y-6
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?)x>GB(9ZN   01 OpticStudio 软件功能介绍; 6>v`6   02 材料库、镜头库介绍； 3DnlXH(h1   03 如何定义新材料； 6Y6DkFdvrZ   04 如何使用镜头库；	@cdd~9w   23 柯勒照明综合设计实例； 78>)<$+d   24 投影系统设计 c%v[p8 %   25 集光系统设计； 'EJ 8)2   {4Y@DQ-   26 暗盒系统介绍；
IlsXj`!e   05 像差理论介绍； (Da/$S .   06 Zemax 里像差分析图谱； 1a3rA   07 优化; ,wE]:|`qJ   08 局部优化	a'f"Zdh%w   27 分析工具应用； Ar4E $\W   28 寻找最佳非球面 5<bc>A-   29 曲率套样板； |cStN[97%   emOd<C1A   30 镜头匹配工具；
Yu-e|:   09 全局优化； ![3#([>4>   10 锤形优化； ]&\HAmOQS   11 优化函数架构技巧； 8 $0D-z   12 单透镜优化实例	Mit,X   31 Zemax 公差分析功能介绍; -_Pd d[M   32 加工误差、装配误差； =8$//$   33 灵敏度分析; \bqIe}3V7   34 反灵敏度分析;
"Wr5:T-;   13 双胶合优化实例； TSqfl/UI   14 热分析及衍射光学元件的使用; OiX :h#   15 实例设计及分析； ,~8:^*0s   16 MTF	t m?[0@<s   35 蒙特卡罗分析; J]/TxUE   yjUZ40Dq   36 公差评价标准； c jt<&b*   37 公差操作数； w@Uw8b   38 补偿变量的使用；
5G=<2;   17 双高斯镜头设计及优化； }r$&"wYM   18 像质评价与图像模拟； *LpEH,J   19 坐标变换； !!Z#'Wq   20 坐标断点面的使用技巧	l T~RH0L   39 单透镜公差分析； :b)IDcW&j:   !spp*Q)#\   40 库克镜头公差分析； ,/AwR?m   41 分析报告查看说明； \Km!#:   42 公差脚本的使用；
$X8(OS5d'   21 序列模式棱镜建模； p3ox%4   JP`$A   22 扫描反射镜设计实例；	S[ ,!   43 镜头出图、CAD 出图； |niYN7 17   44 小结及答疑

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培训信息 b/'{6zn  

• hc OT+L>  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• &<6E*qM  
  培训主题：Zemax 成像设计
• 2^w3xL"   
  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 1BT]_ cP  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。