光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 XBd/,:q
  
J{W<6AK\S  
培训大纲 !f 7CN<  

9M3XHj   01 OpticStudio 软件功能介绍; 89*txYmx   02 材料库、镜头库介绍； =Q#} ,T   03 如何定义新材料； &xKln1z'   04 如何使用镜头库；	DnbT<oEL   23 柯勒照明综合设计实例； FerQA9K)x   24 投影系统设计 Z`L-UQJ.   25 集光系统设计； cG)i:   ,e6n3]W8   26 暗盒系统介绍；
q*`1 <9{H   05 像差理论介绍； (;RmfE'PX   06 Zemax 里像差分析图谱； ) bJS*#   07 优化; B@P +b*%   08 局部优化	aRPpDSR?l   27 分析工具应用； (9!$p|d*   28 寻找最佳非球面 X?m"86L   29 曲率套样板；  4x.1J   ,(h:0L2v7d   30 镜头匹配工具；
H7&>cM   09 全局优化； )tB:g.2k   10 锤形优化； blbL49;   11 优化函数架构技巧； BCH{0w^D   12 单透镜优化实例	#\15,!*a=   31 Zemax 公差分析功能介绍; FW](GWp`:   32 加工误差、装配误差； +;Yd<~!c Z   33 灵敏度分析; TvV_Tz4e   34 反灵敏度分析;
mB.yb rig   13 双胶合优化实例； u\LbPk   14 热分析及衍射光学元件的使用; a: Ch"la   15 实例设计及分析； N3J T[7   16 MTF	nnP]x [   35 蒙特卡罗分析; a?_ !   _g AU`aO^   36 公差评价标准； in>Os@e#   37 公差操作数； r]GG9si   38 补偿变量的使用；
dj>ZHdTn   17 双高斯镜头设计及优化； \Y37wy4   18 像质评价与图像模拟； ,;RAPT4   19 坐标变换； r&$r=f<   20 坐标断点面的使用技巧	dvPK5+0W?   39 单透镜公差分析； --t"X<.z   ] /G~ L   40 库克镜头公差分析； N0]C?+   41 分析报告查看说明； 2)_Zz~P^f   42 公差脚本的使用；
>!o||Yn   21 序列模式棱镜建模； 4z{jWNM)N   2P&KU%D)0s   22 扫描反射镜设计实例；	F 7v 1rf]   43 镜头出图、CAD 出图； R^[b I;   44 小结及答疑

$2tPqZ>  
L?aaR%6#  
培训信息 mmN!=mf*  

• W3AtO  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• Sbf+;:D  
  培训主题：Zemax 成像设计
• w;e42.\  
  培训形式：线上培训
• u\)2/~<]  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• vKX6@eg"  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

aPR0DZ@  
三人及以上组团报名可享八折优惠

• {*#}
  "/:8K  
  报名方式：扫码报名

【备注】 &:]ej6V'[  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。