光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 qm o9G  
R!N%o~C2-  
培训大纲 EJNU761  

6b\&~b@T   01 OpticStudio 软件功能介绍; p"ZG%Ow5Q]   02 材料库、镜头库介绍； .xWC{}7[   03 如何定义新材料； vOpKNp   04 如何使用镜头库；	J6FV]Gpv   23 柯勒照明综合设计实例； e;}7G   24 投影系统设计 e&aWq@D   25 集光系统设计； 8eHyL   [ ~&/s:Vvo   26 暗盒系统介绍；
V /V9B2.$   05 像差理论介绍； $@"g^,n   06 Zemax 里像差分析图谱； xx%j.zDI]   07 优化; SJ>vwmA4   08 局部优化	^qD$z=z-   27 分析工具应用； ?'{SX9   28 寻找最佳非球面 8C9-_Ng`   29 曲率套样板； (jl D+Y_   ByNn   30 镜头匹配工具；
T <ET ) D7   09 全局优化； o="M   10 锤形优化； W+ko q*P   11 优化函数架构技巧； (S\[Y9   12 单透镜优化实例	pohp&Tcm   31 Zemax 公差分析功能介绍; |Uh   32 加工误差、装配误差； aH/ k Ua   33 灵敏度分析; X=fYWj[H,   34 反灵敏度分析;
Ks`J([(W&   13 双胶合优化实例； KEjWRwN   14 热分析及衍射光学元件的使用; f5VLw`m}.8   15 实例设计及分析； jQ^|3#L\   16 MTF	54R#W:t   35 蒙特卡罗分析; zL`iK"N`   A!WKnb_`   36 公差评价标准； uH- l%17   37 公差操作数； "Nbq#w\   38 补偿变量的使用；
fN^8{w/O   17 双高斯镜头设计及优化； 70tH:Z)"   18 像质评价与图像模拟； !/i{ l   19 坐标变换； c?[I?ytl   20 坐标断点面的使用技巧	G[I"8iS,   39 单透镜公差分析； ++Ts   c>:wd@w   40 库克镜头公差分析； d K3*;   41 分析报告查看说明； 9u}Hmb   42 公差脚本的使用；
NzOx0WLF   21 序列模式棱镜建模； 9BBmw(M}   ( !fKNia@S   22 扫描反射镜设计实例；	peuZ&yK+"   43 镜头出图、CAD 出图； EPM -df!=   44 小结及答疑

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培训信息 tKx~1-  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 suiS&$-E  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。