光学设计必学!Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

发布:ueotek 2022-02-18 10:49 阅读:1085
Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 DL~! ^fx  
?^!J:D?  
培训大纲 :/=P6b;  
[7DU0Xg7  
01 OpticStudio 软件功能介绍; V4"o.G3\o  
02 材料库、镜头库介绍; 4%nK0FAj  
03 如何定义新材料; 7YTO{E6]d\  
04 如何使用镜头库;
E5P.x^  
23 柯勒照明综合设计实例; `{"V(YMEV  
24 投影系统设计 >^9j>< Z  
25 集光系统设计; 5?>Q[a.Ne  
d:&cq8^  
26 暗盒系统介绍;
fy>3#`T-  
05 像差理论介绍; ;MYK TE>m  
06 Zemax 里像差分析图谱; gf9,/m  
07 优化; |Zn,|-iW  
08 局部优化
NPBOG1q%  
27 分析工具应用; $?kTS1I(  
28 寻找最佳非球面  nSo.,72  
29 曲率套样板; 6tVp%@  
)0 6. dZq\  
30 镜头匹配工具;
f~=e  
09 全局优化; /8_x]Es/  
10 锤形优化; DP*V|)  
11 优化函数架构技巧; ct*~\C6Ze  
12 单透镜优化实例
8_D:#i  
31 Zemax 公差分析功能介绍; gEVoY,}/-U  
32 加工误差、装配误差;  5 YIk  
33 灵敏度分析; 6S%KUFB+e  
34 反灵敏度分析;
65 &+Fv  
13 双胶合优化实例; p'/%"  
14 热分析及衍射光学元件的使用; }/NL"0j+4  
15 实例设计及分析; S,+|A)\#  
16 MTF
Vz,"vBds  
35 蒙特卡罗分析; 9ys[xOh WM  
UG}"OBg/  
36 公差评价标准; fEK%)Z:0  
37 公差操作数; xWQQX  
38 补偿变量的使用;
gY-}!9kW]  
17 双高斯镜头设计及优化; 8.`5"9Vh  
18 像质评价与图像模拟 Hn)^C{RN*{  
19 坐标变换; SV2\vby}C  
20 坐标断点面的使用技巧
2F1Bz<  
39 单透镜公差分析; G @L `[Wu  
=cR=E{20  
40 库克镜头公差分析; Q;2k bVWY  
41 分析报告查看说明; viS7+E|O  
42 公差脚本的使用;
3XjY  
21 序列模式棱镜建模; |oOA;JC)(  
tN;~.\TKg  
22 扫描反射镜设计实例;
:(jovse\  
43 镜头出图、CAD 出图; ]CnT4[f!  
44 小结及答疑
,}OQzK/"mP  
'! ;Xxe5  
培训信息 @q" #.?>s  
  • JHVesX  
    主办单位:武汉宇熠科技有限公司
  • ~m7?:(/lb  
    培训主题:Zemax 成像设计
  • 60 p*4>^v  
    培训形式:线上培训
  • g7LS  
    培训时间:2022年3月9~10日(9:00-17:00)
  • N*hx;k9  
    培训费用:¥ 1980元 / 人
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三人及以上组团报名可享八折优惠
  • #5IfF~* i  
    报名方式:扫码报名
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电话:027-87878386
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【备注】 %i9*2{e#~  
注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
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