光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 VS9]po>=  
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培训大纲 %XI"<Y\yL  

&'(a$S>v   01 OpticStudio 软件功能介绍; u\XkXS`   02 材料库、镜头库介绍； lU$4NUwM   03 如何定义新材料； gr>o E#7   04 如何使用镜头库；	x_<bK$OU   23 柯勒照明综合设计实例； V5O=iMP   24 投影系统设计 RM&H!E<#   25 集光系统设计； {jhm p\PN   )Ig+uDGk   26 暗盒系统介绍；
S,9NUt   05 像差理论介绍； eA?uny f2r   06 Zemax 里像差分析图谱； =_RcoG/^~   07 优化; Jq$_=X&   08 局部优化	Kx- s0cw   27 分析工具应用； G# e9$!   28 寻找最佳非球面 2f19W# '0   29 曲率套样板； {}_Nep/;   *p&^!ct   30 镜头匹配工具；
6F*-qb3   09 全局优化； _ }E-~I>   10 锤形优化； #zS1Zf^KP   11 优化函数架构技巧； S jVsF1d_   12 单透镜优化实例	[1b6#I"x   31 Zemax 公差分析功能介绍; !%c{+]g   32 加工误差、装配误差； uC,"5C   33 灵敏度分析; 0]T.Lh$3   34 反灵敏度分析;
uu}`warW   13 双胶合优化实例； ietRr!$.   14 热分析及衍射光学元件的使用; +@emX$cFV   15 实例设计及分析； 'tb(J3ZP   16 MTF	6<x~Mk'u)   35 蒙特卡罗分析; EBoGJ_l   8]q   36 公差评价标准； H2qf'   37 公差操作数； ~+O`9&   38 补偿变量的使用；
jR{-   17 双高斯镜头设计及优化； /& PKCtm&~   18 像质评价与图像模拟； 3CR@' qG-   19 坐标变换； _wf5%(~b   20 坐标断点面的使用技巧	D##+)`dK   39 单透镜公差分析； f64(a\Rw!^   z`k El@   40 库克镜头公差分析； Bo`Tl1K#   41 分析报告查看说明； F9(._ow[   42 公差脚本的使用；
C:`;d&d   21 序列模式棱镜建模； >~I#JQ%   Q6"uK   22 扫描反射镜设计实例；	@j O4EEe:   43 镜头出图、CAD 出图； r&}(9Cq&"y   44 小结及答疑

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培训信息 iI5+P`sE&J  

• g;pR^D'M5C  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。