光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 LW:LFzp  
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培训大纲 %9#gB  

_:B1_rz7,   01 OpticStudio 软件功能介绍; G>+1*\c   02 材料库、镜头库介绍； vuFBET,   03 如何定义新材料； 3QOUU,Dt$   04 如何使用镜头库；	AVU>+[.=%c   23 柯勒照明综合设计实例； EmT`YNuc   24 投影系统设计 wB{;bB{   25 集光系统设计； 1uk0d`JL   a`u S[r>   26 暗盒系统介绍；
rUjdq/I:Z   05 像差理论介绍； ~b|`'kU   06 Zemax 里像差分析图谱； E|$Oha[   07 优化; `O8b1-1q~   08 局部优化	:aIN9;   27 分析工具应用； ,*@AX>   28 寻找最佳非球面 ?P7]u>H   29 曲率套样板； gxGrspqg   Q!FLR>8   30 镜头匹配工具；
UP{j5gR:_   09 全局优化； M8b4NF_&   10 锤形优化； Zf>^4_x3P   11 优化函数架构技巧； rBN)a"   12 单透镜优化实例	m3g2b _;   31 Zemax 公差分析功能介绍; $.489x+'Z   32 加工误差、装配误差； j9/-"dTL   33 灵敏度分析; m%8qZzqk   34 反灵敏度分析;
8g>b   13 双胶合优化实例； cubk]~VD   14 热分析及衍射光学元件的使用; nB ".'=   15 实例设计及分析； 7 .+#zyF   16 MTF	=4 X]gW   35 蒙特卡罗分析; 8Z2.`(3c[   -n? g~(/ P   36 公差评价标准； :` $@}GI   37 公差操作数； Z2bcCIq4   38 补偿变量的使用；
2`=6%s   17 双高斯镜头设计及优化； j,2l8?   18 像质评价与图像模拟； W];EKj,3W   19 坐标变换； swc@34ei\   20 坐标断点面的使用技巧	S2VVv$r_6   39 单透镜公差分析； 41 vL"P K   ehAu^^Q>   40 库克镜头公差分析； H_IGFZCh   41 分析报告查看说明； s Fgadz6O   42 公差脚本的使用；
=BZ?-mIU   21 序列模式棱镜建模； mEuHl>   Yp4c'Zk   22 扫描反射镜设计实例；	5H:@8,B   43 镜头出图、CAD 出图； n|4; Hn1V   44 小结及答疑

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培训信息 )J3kxmlzQ  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 a1MFjmq  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。