光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 OwDjUKeN  
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培训大纲 |dXS+R1  

XPX{c|]>.   01 OpticStudio 软件功能介绍; O'5(L9,   02 材料库、镜头库介绍； -{P)\5.L   03 如何定义新材料； >:wk.<Z-   04 如何使用镜头库；	\6@}HFH   23 柯勒照明综合设计实例； GH:Au   24 投影系统设计 k,q` ^E8k   25 集光系统设计； ]bS\*q0Zf(   N 4,w   26 暗盒系统介绍；
KE(kR>OB]   05 像差理论介绍； +%>L;'L ^X   06 Zemax 里像差分析图谱； rU'&o) a^   07 优化; "pHQ   08 局部优化	Dy8Go4    27 分析工具应用； 2Jj`7VH>   28 寻找最佳非球面 <vb k@d   29 曲率套样板； Vuz!~kLYIn   2gFQHV   30 镜头匹配工具；
lkl# AH   09 全局优化； 1hRC Bwx   10 锤形优化； :!aFfb["   11 优化函数架构技巧； l sUQ7%f   12 单透镜优化实例	r%xNfTa   31 Zemax 公差分析功能介绍; @zPWu}&m   32 加工误差、装配误差； oXz:zoN Q   33 灵敏度分析; o]k[l;   34 反灵敏度分析;
6o6m"6   13 双胶合优化实例； 9N u;0   14 热分析及衍射光学元件的使用; +/UInAM   15 实例设计及分析； 9K%E+_7b   16 MTF	vguqk!eo4   35 蒙特卡罗分析;  (+Er   I@x*>   36 公差评价标准； }RM?gE   37 公差操作数； 1M<'^(t3d   38 补偿变量的使用；
az19-QIcg   17 双高斯镜头设计及优化； ,cj34W`FWq   18 像质评价与图像模拟； 9N-mIGJ   19 坐标变换； ^TB%| yZ _   20 坐标断点面的使用技巧	>0~y"~M   39 单透镜公差分析； 5@Rf]'1B0   wdp4-*   40 库克镜头公差分析； QMkLAZ   41 分析报告查看说明； ]bX.w/=   42 公差脚本的使用；
irrQ$N}    21 序列模式棱镜建模； tp0^%!*9   s<^UAdLnl   22 扫描反射镜设计实例；	0WYVt"|;}c   43 镜头出图、CAD 出图； ,"*[T\u   44 小结及答疑

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培训信息 w`i3B@w  

• "$m3xO  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。