光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 P#fM:z@[  
"g'jPwFG  
培训大纲 ,(;lI
P  

/\H>y   01 OpticStudio 软件功能介绍; QF&W`c   02 材料库、镜头库介绍； ^NX"sM0g   03 如何定义新材料； 2n `S5( V   04 如何使用镜头库；	)l!3(   23 柯勒照明综合设计实例； [o.B   24 投影系统设计 e_ V O3"   25 集光系统设计； tl><"6AIP   l'\pk<V   26 暗盒系统介绍；
nv0]05.4   05 像差理论介绍； T'LIrf   06 Zemax 里像差分析图谱； \[jq4`\$   07 优化; $d A-2e10   08 局部优化	i:u1s"3~   27 分析工具应用； L3n_ 5 |   28 寻找最佳非球面 z,VD=Hnz   29 曲率套样板； qQ0cJIISb\   L~IhsiB   30 镜头匹配工具；
ed:@C?   09 全局优化； e'=MQ,EWd   10 锤形优化； 5vw{b ?   11 优化函数架构技巧； <0S,Q+&   12 单透镜优化实例	h;-yU.(w   31 Zemax 公差分析功能介绍; lhtZaU~V   32 加工误差、装配误差； +e-G,%>9   33 灵敏度分析; S6fL>'uQ   34 反灵敏度分析;
'sxNDnGg   13 双胶合优化实例； 1&P<   14 热分析及衍射光学元件的使用; >P/][MT   15 实例设计及分析； jaa"~5TO8   16 MTF	Bf$_XG3   35 蒙特卡罗分析; v*9<c{a   6<'21   36 公差评价标准； P9S2?Q   37 公差操作数； :<Fe   38 补偿变量的使用；
m\ddp_l   17 双高斯镜头设计及优化； x ul]m*Z   18 像质评价与图像模拟； U-:ieao@   19 坐标变换； MNg^]tpf   20 坐标断点面的使用技巧	qY>{cjo   39 单透镜公差分析； 3LfC{ER   [xT:]Pw}   40 库克镜头公差分析； RGK8'i/X   41 分析报告查看说明； @]![o %   42 公差脚本的使用；
o}<4*qlI   21 序列模式棱镜建模； [Tnsr(Z   11,!XD*"   22 扫描反射镜设计实例；	CEC nq3   43 镜头出图、CAD 出图； \tRG1&{$%   44 小结及答疑

sF7^qrVQP9  
D)@YI.T  
培训信息 /"?HZ
% W  

• 7^M9qTEHp  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• fd#jY}  
  培训主题：Zemax 成像设计
• H
  X
  oX  
  培训形式：线上培训
• t#S<iBAZ  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• E7Ulnvd  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

!=y]Sv~h  
三人及以上组团报名可享八折优惠

• *A~ G_0B  
  报名方式：扫码报名

【备注】 8&Myva  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。