光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 27fLW&b2  
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培训大纲 UH-873AK  

Ic4#Tk20i   01 OpticStudio 软件功能介绍; UBuh'?j   02 材料库、镜头库介绍； OY}FtGy   03 如何定义新材料； ^P@:CBO   04 如何使用镜头库；	mP\V.^   23 柯勒照明综合设计实例； by'KJxl[   24 投影系统设计 ss%,   25 集光系统设计； V3ht:>c9qs   }P?e31@:   26 暗盒系统介绍；
"7y,d%H   05 像差理论介绍； %\ i&g$   06 Zemax 里像差分析图谱； ]UUa/ep -   07 优化; ]O@iT= *3   08 局部优化	OM0r*<D"!   27 分析工具应用； avq$aq(3&   28 寻找最佳非球面 (a#gCG\   29 曲率套样板； j yD3Sa3   U.,S.WP+d   30 镜头匹配工具；
pM@ 8T25=   09 全局优化； N-QS/*C .~   10 锤形优化； Zpg;hj5_   11 优化函数架构技巧； Ht;Rz*}   12 单透镜优化实例	cZ_)'0   31 Zemax 公差分析功能介绍; vQLYWRXiA   32 加工误差、装配误差； 2pdeJ   33 灵敏度分析; rb-ao\   34 反灵敏度分析;
g0j)k6<6(Y   13 双胶合优化实例； KV$&qM.   14 热分析及衍射光学元件的使用; P6.PjK!Ar   15 实例设计及分析； J-tq EK*   16 MTF	8^}/T#l   35 蒙特卡罗分析; k!x|oC0   %CHw+wT&   36 公差评价标准； ~Pw9[ycn3   37 公差操作数； =F$?`q`   38 补偿变量的使用；
eZOR{|z   17 双高斯镜头设计及优化； 4&cQW)   18 像质评价与图像模拟； pL1ABvBB   19 坐标变换； 9k ~8n9    20 坐标断点面的使用技巧	5NZuaN   39 单透镜公差分析； c ^ds|7i]a   ^g*Sy, A   40 库克镜头公差分析； < 8' b   41 分析报告查看说明； /al56n   42 公差脚本的使用；
l%2VA   21 序列模式棱镜建模； pF8$83S   a6n@    22 扫描反射镜设计实例；	5kw  K%   43 镜头出图、CAD 出图； d[9{&YnH !   44 小结及答疑

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培训信息 cEu_p2(7!B  

• U!q2bF<@  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• [<@T%yq  
  培训主题：Zemax 成像设计
• HNS^:XR  
  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。