光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 9*huO#  
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培训大纲 sriDta?Cz  

j>uu3ADd2   01 OpticStudio 软件功能介绍; WiZTE(NM`   02 材料库、镜头库介绍； u6Wan*I?   03 如何定义新材料； >,h{`   04 如何使用镜头库；	>d *`K   23 柯勒照明综合设计实例； %5DM ew   24 投影系统设计 3,X8 5`v^   25 集光系统设计； ezCJq`b   BW}M/   26 暗盒系统介绍；
!pkIaCxs   05 像差理论介绍； C&R U   06 Zemax 里像差分析图谱； (DS"*4ty   07 优化; ~P"Agpx3u   08 局部优化	{$i>\)   27 分析工具应用； 0:<Y@#L   28 寻找最佳非球面 EWgJ"WTF   29 曲率套样板； wf &Jd:)4t   41s\^'^&   30 镜头匹配工具；
9 wbQ$>G9   09 全局优化； KfYU.Q   10 锤形优化； V*5v JF0j   11 优化函数架构技巧； 2|d^#8)ZC   12 单透镜优化实例	<lWj-+m   31 Zemax 公差分析功能介绍; kS=nH9   32 加工误差、装配误差； q\|RI;W   33 灵敏度分析; X1o^MMpz(F   34 反灵敏度分析;
|WEl5bNc3   13 双胶合优化实例； G%;>_E   14 热分析及衍射光学元件的使用; 'GX x|.   15 实例设计及分析； ~zG)<S"q   16 MTF	 f1+   35 蒙特卡罗分析; `]]<.>R   Y:L[Iz95o   36 公差评价标准；  _cj=}!I   37 公差操作数； _DT,iF*6   38 补偿变量的使用；
bt _c$TN   17 双高斯镜头设计及优化； eEP{?F^I[   18 像质评价与图像模拟； .{*l,   19 坐标变换； (GC5r#AnS   20 坐标断点面的使用技巧	,(zV~-:9   39 单透镜公差分析； ,aGIq. *v   xkiiQs)   40 库克镜头公差分析； w y#>Aq   41 分析报告查看说明； 79@CO6   42 公差脚本的使用；
S50}]5K   21 序列模式棱镜建模； WZPj?ou`G   qtozMa   22 扫描反射镜设计实例；	s%`l>#H   43 镜头出图、CAD 出图； 5`+9<8V   44 小结及答疑

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培训信息 6 U[VoUU   

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 KsE$^`  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。