光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 n$RhD93  
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培训大纲 @j
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%UDz4?zx   01 OpticStudio 软件功能介绍; o$]wd*+   02 材料库、镜头库介绍； | +osEHC   03 如何定义新材料； 36mp+}R#   04 如何使用镜头库；	od=%8z   23 柯勒照明综合设计实例； ]v&)mK]n=o   24 投影系统设计 h>AK^f X   25 集光系统设计； .?T,>#R   EXDZehLD<]   26 暗盒系统介绍；
7e[3Pu_/X   05 像差理论介绍； eT33&:n4   06 Zemax 里像差分析图谱； !n9H[QP^9   07 优化; `|maf=SnY5   08 局部优化	H9}z0VI   27 分析工具应用； `}t<5_   28 寻找最佳非球面 {~J'J$hn8   29 曲率套样板； to-DXT.   YJdM6    30 镜头匹配工具；
1t&LNIc|^   09 全局优化； {nvF>   10 锤形优化； 'sb &xj`d   11 优化函数架构技巧； @r7ekyO8)   12 单透镜优化实例	qWz%sT?C3L   31 Zemax 公差分析功能介绍; >&pB&'A a   32 加工误差、装配误差； &QHZ]2%U   33 灵敏度分析; g{|F<2rd[m   34 反灵敏度分析;
1dDK(RBbQ   13 双胶合优化实例； ^n Gj 7b   14 热分析及衍射光学元件的使用; SI_u0j4%*   15 实例设计及分析； og0su   16 MTF	S7i,oP7   35 蒙特卡罗分析; F|mppY'<J   /e|vz^#+1,   36 公差评价标准； N_jpCCG~   37 公差操作数； P){b"`f   38 补偿变量的使用；
D,R"P }G   17 双高斯镜头设计及优化； '" MT$MrT   18 像质评价与图像模拟； R( 2,1f=d   19 坐标变换； vndD#/lXq   20 坐标断点面的使用技巧	;iA6[uz   39 单透镜公差分析； 3|++2Z{},   KZea M   40 库克镜头公差分析； vs=8x\W   41 分析报告查看说明； N{b;kiZq   42 公差脚本的使用；
-/^a2_d[   21 序列模式棱镜建模； m2sf]-?Y   DIAHIV<   22 扫描反射镜设计实例；	9NXL8QmC8   43 镜头出图、CAD 出图； Q[rmsk2L'   44 小结及答疑

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培训信息 LIah'6qR  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。