光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 D.R 7#^.  
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培训大纲 gEU|Bx/!=  

YV>]c9!q   01 OpticStudio 软件功能介绍; 4>W ov   02 材料库、镜头库介绍； `>cBR,)r   03 如何定义新材料； /__@a&9t   04 如何使用镜头库；	DJf!{:b)   23 柯勒照明综合设计实例； *_7%n-k   24 投影系统设计 J-g<-!>RM   25 集光系统设计； _}-Ed,.=   vmZyvJSE   26 暗盒系统介绍；
&*N;yW""f   05 像差理论介绍； ix]t>2r   06 Zemax 里像差分析图谱； UMbM3m=\   07 优化; _]whHS+   08 局部优化	3Rsbi   27 分析工具应用； na1*^S`[   28 寻找最佳非球面 G>);8T%l   29 曲率套样板； oMV<Yn_<   >ps=z$4j*   30 镜头匹配工具；
'{?7\+o.x   09 全局优化； hf~'EdU   10 锤形优化； V>&WZY   11 优化函数架构技巧； '=2/0-;Jf   12 单透镜优化实例	]l WEdf+   31 Zemax 公差分析功能介绍; sox0:9Oqnf   32 加工误差、装配误差； 54%@q[-   33 灵敏度分析; ;NHZ D   34 反灵敏度分析;
lef,-{X-   13 双胶合优化实例； E9IU,P6a   14 热分析及衍射光学元件的使用; S3iXG @   15 实例设计及分析； %cl=n!T   16 MTF	M_wj>NXZ   35 蒙特卡罗分析; |99/?T-QW   N1 }#6YNw   36 公差评价标准； Pn*+g!`   37 公差操作数； :mwJJIjUW   38 补偿变量的使用；
dyz)22{\!`   17 双高斯镜头设计及优化； zMf.   18 像质评价与图像模拟； M;\iL?,   19 坐标变换； ""JTU6]MS   20 坐标断点面的使用技巧	M(alc9tn   39 单透镜公差分析； .W# -Cl&n8   Az}.Z'LJ   40 库克镜头公差分析； O#g'4 S   41 分析报告查看说明； .BR2pf|R   42 公差脚本的使用；
Wz~=JvRHh   21 序列模式棱镜建模； \L"Vx9xT   x9s7:F   22 扫描反射镜设计实例；	]b"Oy}ARW   43 镜头出图、CAD 出图； ]{Ytf'bG   44 小结及答疑

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培训信息 I0 78[3b  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。