光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 KO

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培训大纲 8o5[tl ?w  

FHOw ]"#   01 OpticStudio 软件功能介绍; uos8Mav{E   02 材料库、镜头库介绍； = 7y-o   03 如何定义新材料； ,{0Y:/T'   04 如何使用镜头库；	Z Ts*Y,   23 柯勒照明综合设计实例； $wUYK%.   24 投影系统设计 T)mQ+&|   25 集光系统设计； xWG@<}H   P~\rP6 ;   26 暗盒系统介绍；
ZexC3LD"   05 像差理论介绍； ZE=sw}=   06 Zemax 里像差分析图谱； *O_fw 0jV   07 优化; z0}j7n s]   08 局部优化	='m$O   27 分析工具应用； SxRJ{m~   28 寻找最佳非球面 &BPYlfB1   29 曲率套样板； VIp|U{   gQ\.|'%   30 镜头匹配工具；
roS" q~GS,   09 全局优化； hZ45i ?%   10 锤形优化； KR?;7*qF   11 优化函数架构技巧； eGEwXza 4   12 单透镜优化实例	%> XsKXj   31 Zemax 公差分析功能介绍; o[!'JUxZ   32 加工误差、装配误差； +fVvH   33 灵敏度分析; rbd0`J9fq   34 反灵敏度分析;
^Hn}\5   13 双胶合优化实例； ,%9XG077   14 热分析及衍射光学元件的使用; _BewaI;w   15 实例设计及分析； S\:^#Yi`   16 MTF	1ubu~6   35 蒙特卡罗分析; E22o-nI?1   OWvblEBF   36 公差评价标准； oZ%uq78#[%   37 公差操作数； V(&L   38 补偿变量的使用；
/]U$OP*0   17 双高斯镜头设计及优化； 5sY $   18 像质评价与图像模拟； -gs I:-Xo   19 坐标变换； /!Rva"   20 坐标断点面的使用技巧	#&|"t<}   39 单透镜公差分析； >j?5?J "   NN4Z:6W5   40 库克镜头公差分析； 45JL{YRN   41 分析报告查看说明； XVs]Y'*x   42 公差脚本的使用；
t1Ts!Q2   21 序列模式棱镜建模； hCQOwk#   \lK?f]qJq   22 扫描反射镜设计实例；	85E$m'0O   43 镜头出图、CAD 出图； :qo[@x{   44 小结及答疑

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培训信息 [Hx}#Kds  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。