光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 8DM! ]L  
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培训大纲 9PMIF9"  

\k^ojzJ   01 OpticStudio 软件功能介绍; 8;#yXlf   02 材料库、镜头库介绍； ?-)v{4{s   03 如何定义新材料； I0!]J{   04 如何使用镜头库；	! SIk9~rJ   23 柯勒照明综合设计实例； B&6lG!K'?   24 投影系统设计 vTTXeS-b   25 集光系统设计； ia_lP   VKf&}u/   26 暗盒系统介绍；
-:OJX#j   05 像差理论介绍； 90K&oof?M   06 Zemax 里像差分析图谱； Lj3Pp$h   07 优化;  Lw%_xRn)   08 局部优化	p<,`l)o}~   27 分析工具应用； Y*S:/b~y   28 寻找最佳非球面 1Kd6tnX   29 曲率套样板； =itQ@``r   t[@>u'YKt   30 镜头匹配工具；
5pK _-:?   09 全局优化； n9n)eI)R   10 锤形优化； A7|L|+ ?   11 优化函数架构技巧； z,4 D'F&   12 单透镜优化实例	sx}S,aIU   31 Zemax 公差分析功能介绍; _uX b>V*8   32 加工误差、装配误差； e`OQ6|.k8   33 灵敏度分析; bdG@%K',   34 反灵敏度分析;
* ^V?u   13 双胶合优化实例； 1ANb=X|hig   14 热分析及衍射光学元件的使用; P,9Pn)M|   15 实例设计及分析； S>S7\b'   16 MTF	j4+Px%sW   35 蒙特卡罗分析; 51y#AQ@   6U.|0mG[   36 公差评价标准； QR_h#N2h   37 公差操作数； ~_c1h@   38 补偿变量的使用；
;{q*   17 双高斯镜头设计及优化；  ?r@^9   18 像质评价与图像模拟；  =I @I   19 坐标变换； aB?usVoS   20 坐标断点面的使用技巧	j<k6z   39 单透镜公差分析； xwi6 #>   v(!:HK0oeT   40 库克镜头公差分析； o]<9wc:FZ   41 分析报告查看说明； 4e#$-V    42 公差脚本的使用；
9 <{C9   21 序列模式棱镜建模； :tI F*pC   S#$Kmm |   22 扫描反射镜设计实例；	z|X6\8f   43 镜头出图、CAD 出图； 9dBxCdpu   44 小结及答疑

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培训信息 @un+y9m[C  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。