光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 T7X2$ '  
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培训大纲 |#,W3Ik(l  

66;O3g'   01 OpticStudio 软件功能介绍; Vi~+C@96   02 材料库、镜头库介绍； }tq9 /\   03 如何定义新材料； SQvB)NOw   04 如何使用镜头库；	%-1-J<<J q   23 柯勒照明综合设计实例； ,)m-nZ5   24 投影系统设计 rI$10R$+H   25 集光系统设计； b .@dUuKz-   (S{c*"}2   26 暗盒系统介绍；
FV,SA3   05 像差理论介绍； wYM{x!D   06 Zemax 里像差分析图谱； M#,+p8   07 优化; iIRigW   08 局部优化	"Vy\-^   27 分析工具应用； G*V 7*KC   28 寻找最佳非球面 dRC+|^rSC   29 曲率套样板； T!$HVHh&,}   $^GnY7$!>   30 镜头匹配工具；
bsDUFXH]   09 全局优化； =i<(hgD   10 锤形优化； *Ux"3IXO   11 优化函数架构技巧； [X\2U4   12 单透镜优化实例	l;i u`   31 Zemax 公差分析功能介绍; zh#uwT1u   32 加工误差、装配误差； =-Tetp   33 灵敏度分析; I>|?B(F   34 反灵敏度分析;
XS@6jbLE   13 双胶合优化实例； oZw#Nd   14 热分析及衍射光学元件的使用; 53 xq%   15 实例设计及分析； SJe;T   16 MTF	u{^Kyo#v   35 蒙特卡罗分析; )`0 j\   `UPmr50Wq   36 公差评价标准； HX^ P9jXT   37 公差操作数； YzVLa,[   38 补偿变量的使用；
)HcC\[   17 双高斯镜头设计及优化； M1\/ueOe   18 像质评价与图像模拟； 21Opx~T3   19 坐标变换； &-tf/qJ   20 坐标断点面的使用技巧	gE#,QOy   39 单透镜公差分析； J(GLPCO$K    tcZ~T   40 库克镜头公差分析； n_Dhq(.   41 分析报告查看说明； l" Q8`   42 公差脚本的使用；
6=D;K.!   21 序列模式棱镜建模； A5\S0l$Q   ?U[AE -*   22 扫描反射镜设计实例；	9wzYDKN}   43 镜头出图、CAD 出图； pDT6>2t   44 小结及答疑

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培训信息 :7zI!ed
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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。