光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 5Az
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培训大纲 K<_bG<tm_  

"IvFkS=*Q   01 OpticStudio 软件功能介绍; 7e`ylnP!   02 材料库、镜头库介绍； 8 <~E;:   03 如何定义新材料； 1pM"j!   04 如何使用镜头库；	U6B-{l:W   23 柯勒照明综合设计实例； 6dzY9   24 投影系统设计 h VQj$TA   25 集光系统设计； wcd1.$ n   !:N&tuJEv   26 暗盒系统介绍；
$v6`5;#u   05 像差理论介绍； .o&Vu,/H   06 Zemax 里像差分析图谱； |$)+h\h   07 优化;  /uyZ[=5   08 局部优化	JIA'3"C   27 分析工具应用； l-} );zH74   28 寻找最佳非球面 Q#Vg5H4   29 曲率套样板； HqZ3]   !n?8'eqWru   30 镜头匹配工具；
HZ+l){u   09 全局优化； kt0ma /QpP   10 锤形优化； 6UXDIg=   11 优化函数架构技巧； qkg`4'rLg   12 单透镜优化实例	"E6*.EtTN#   31 Zemax 公差分析功能介绍; da,Bnze0   32 加工误差、装配误差； \MY`R   33 灵敏度分析; _UqE -+&   34 反灵敏度分析;
E76#xsyhF   13 双胶合优化实例； S 6|#9C&   14 热分析及衍射光学元件的使用; ?_VoO   15 实例设计及分析； _@gd9Fi7J   16 MTF	B F,8[|%#   35 蒙特卡罗分析; -%g$~MZ?'   DUAI   36 公差评价标准； OX r%b   37 公差操作数； d hp-XI A;   38 补偿变量的使用；
p1blPBlp   17 双高斯镜头设计及优化； [|&V$   18 像质评价与图像模拟； n'42CE   19 坐标变换； xe!([^l&   20 坐标断点面的使用技巧	3 cb$g   39 单透镜公差分析； <uYeev%   [T<Z?   40 库克镜头公差分析； GjfPba4>   41 分析报告查看说明； L2j7w006   42 公差脚本的使用；
^_Ap?zn   21 序列模式棱镜建模； 0[O."9   ZITic&>W   22 扫描反射镜设计实例；	w|AHE   43 镜头出图、CAD 出图； =Ay'\j   44 小结及答疑

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培训信息 ,ezC}V0M  

• &>T7]])  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
• .C=I~Z  
  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。