光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 %@I= $8j  
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培训大纲 (^ J2(  

.L)j ql%   01 OpticStudio 软件功能介绍; 3cH^ ,F   02 材料库、镜头库介绍； 6m9\0)R   03 如何定义新材料； ;P8.U(   04 如何使用镜头库；	PywUPsJ   23 柯勒照明综合设计实例； 4SkCV   24 投影系统设计 khP Ub,   25 集光系统设计； tB0f+ wC   >(gbUW   26 暗盒系统介绍；
0b=00./o   05 像差理论介绍； =`qEwA   06 Zemax 里像差分析图谱； {o%OG/!1   07 优化; 9]S;%:64   08 局部优化	q) e*eN   27 分析工具应用； oPxh+|0?   28 寻找最佳非球面 ;%/}(&E2   29 曲率套样板； Q-e(>=Gv_   9KU3)%U   30 镜头匹配工具；
SG)|4$"   09 全局优化； hC!8-uBK5<   10 锤形优化； ;3=RM\   11 优化函数架构技巧； ad<ZdO*h   12 单透镜优化实例	ocj^mxh=O   31 Zemax 公差分析功能介绍; M r~IVmtf   32 加工误差、装配误差； !imjfkG   33 灵敏度分析; wA";N=i=   34 反灵敏度分析;
tRR<4}4R   13 双胶合优化实例； z7JhS|   14 热分析及衍射光学元件的使用; 69Q# UJ   15 实例设计及分析； na|23 jz4   16 MTF	JPe<qf-   35 蒙特卡罗分析; cw;TIx_q   za5E{<0   36 公差评价标准； ?[8s`caK.   37 公差操作数； xf3/J{n3   38 补偿变量的使用；
GS,}]c=   17 双高斯镜头设计及优化； n?NUnF A   18 像质评价与图像模拟； zE=^}K+   19 坐标变换； XAUHF-"WE   20 坐标断点面的使用技巧	J'yiVneMw   39 单透镜公差分析； Y-v6M3$   RAoY`AWI   40 库克镜头公差分析； WHR6 /H   41 分析报告查看说明； ^}Gu'!z9D   42 公差脚本的使用；
B|kIiL63 D   21 序列模式棱镜建模； AgJPtzs   : UDh{GQ*   22 扫描反射镜设计实例；	%xwtG:IKEV   43 镜头出图、CAD 出图； ghaO#kI   44 小结及答疑

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培训信息 _sqV@ J  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。