光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中
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培训大纲 .U.Knn  

WGwpryaya   01 OpticStudio 软件功能介绍; eUP.:(E   02 材料库、镜头库介绍； 9[yW&t;#   03 如何定义新材料； Zpfsh2`   04 如何使用镜头库；	-4du`dg   23 柯勒照明综合设计实例； r 8.R?5F@   24 投影系统设计 ug]WIG7 S   25 集光系统设计； #R2wt7vE   lu~<pfg   26 暗盒系统介绍；
nf#;]FijB   05 像差理论介绍； G 3))3]   06 Zemax 里像差分析图谱； 9<qAf`   07 优化; Nn/me   08 局部优化	)b^yAzL?   27 分析工具应用； ^0oOiZs   28 寻找最佳非球面 #mhR^60,   29 曲率套样板； u.!}s2wT#   DZPg|*KT   30 镜头匹配工具；
?` ?HqR0   09 全局优化； #-T xhwYs   10 锤形优化； U^aMh-   11 优化函数架构技巧； /2 V   12 单透镜优化实例	qg_M9xJ   31 Zemax 公差分析功能介绍; p6)Jzh_/   32 加工误差、装配误差； Mn`);[   33 灵敏度分析; %x(||cq   34 反灵敏度分析;
.%~m|t+Rt   13 双胶合优化实例； p7H0|>   14 热分析及衍射光学元件的使用; =3K}]3f   15 实例设计及分析； #8xP,2&zf   16 MTF	=i'APeNaQ   35 蒙特卡罗分析; MaMP7O|W   gJ \CT'/   36 公差评价标准； o:oQF[TcFO   37 公差操作数； ,O`a_b]   38 补偿变量的使用；
_.)6~   17 双高斯镜头设计及优化； CKB~&>xx   18 像质评价与图像模拟； d@d\9*mn   19 坐标变换； pi?$h"y7Q   20 坐标断点面的使用技巧	B! J~ t8   39 单透镜公差分析； X ? eCK,   iX]tL:,~i   40 库克镜头公差分析； $,I%g<   41 分析报告查看说明； x-E@[=   42 公差脚本的使用；
B EN U   21 序列模式棱镜建模； ^T>P   Hl"^E*9x   22 扫描反射镜设计实例；	(:|g"8mQm   43 镜头出图、CAD 出图； qcVmt1"   44 小结及答疑

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培训信息 ;W~H|M  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。