光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 Uhf -}Jdw  
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培训大纲 6^p6v  

Wrlmo'31   01 OpticStudio 软件功能介绍; X'5te0v`3   02 材料库、镜头库介绍； S7V;sR"V2   03 如何定义新材料； (\G~S 4   04 如何使用镜头库；	FKaY w   23 柯勒照明综合设计实例； q>Y_I< ;'g   24 投影系统设计 umi#Se3&   25 集光系统设计； 5<u+2x8|   PW}Yts7p   26 暗盒系统介绍；
9i"3R0HN   05 像差理论介绍； Yy&0b(m U   06 Zemax 里像差分析图谱； `jJb) z3D   07 优化; nX   08 局部优化	dM QnN[d6   27 分析工具应用； |(wx6H:   28 寻找最佳非球面 } nQHP4'   29 曲率套样板； 6A%Y/o U+2   bBZvL   30 镜头匹配工具；
$T1c{T6n}   09 全局优化； 1$c*/Tc:E   10 锤形优化； .AKx8=f   11 优化函数架构技巧； 0^;{b^!(   12 单透镜优化实例	@wpm ;]   31 Zemax 公差分析功能介绍; Dj[D|%9a   32 加工误差、装配误差；  zFOX%q   33 灵敏度分析; Na#2sb[)   34 反灵敏度分析;
9AS,-5;XQ   13 双胶合优化实例；  X'0A"9   14 热分析及衍射光学元件的使用; !OiP<8 ,H   15 实例设计及分析； $u>^A<TBN   16 MTF	e Q0bx&   35 蒙特卡罗分析; 0ya_[\   [}FP_Su$6   36 公差评价标准； Jg7IGU(dct   37 公差操作数； ?9AByg   38 补偿变量的使用；
'Y[\[]3[8   17 双高斯镜头设计及优化； eM8u ;i   18 像质评价与图像模拟； 4pF%G   19 坐标变换； /H\ZCIu/7   20 坐标断点面的使用技巧	Am-JB   39 单透镜公差分析； 'A4Lr   \&SP7~-eq   40 库克镜头公差分析； KBXdr52"   41 分析报告查看说明； p_[k^@$   42 公差脚本的使用；
iE$0-Qe[3   21 序列模式棱镜建模； B [03,zVf   ?vvjwys@   22 扫描反射镜设计实例；	bvAO(`   43 镜头出图、CAD 出图； .sCo,   44 小结及答疑

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培训信息 eGZIdv1  

• u U\UULH0  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 C}wmoYikV  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。