光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 XU}sbbwu  
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培训大纲 1Jx|0YmO  

V %cU@   01 OpticStudio 软件功能介绍; Bi+a)_K   02 材料库、镜头库介绍； Odo"S;)   03 如何定义新材料； F;IG@ &   04 如何使用镜头库；	I2!0,1Q   23 柯勒照明综合设计实例； Q(}TN,N   24 投影系统设计 fi[c^e+IX   25 集光系统设计； 3-Q*umh   3psCV=/z   26 暗盒系统介绍；
:q2tda   05 像差理论介绍； V+()`>44   06 Zemax 里像差分析图谱； jnK8 [och   07 优化; USnKj_e   08 局部优化	gJVakR&   27 分析工具应用； _cZ`7]Z   28 寻找最佳非球面 &B^vHH   29 曲率套样板； C_[V[k0(   { )t6DH#   30 镜头匹配工具；
$FgpFxz;   09 全局优化； U=C8gVb{Hq   10 锤形优化； d8b'Gjwtw   11 优化函数架构技巧； ({cgak   12 单透镜优化实例	GRC=G&G   31 Zemax 公差分析功能介绍; 3:rH1vG.m   32 加工误差、装配误差； AcN~Q/xU   33 灵敏度分析; eo4<RDe<   34 反灵敏度分析;
yiUJ!m   13 双胶合优化实例； yD`{9'L -   14 热分析及衍射光学元件的使用; #N|)hBz9-   15 实例设计及分析； C61KY7iyR   16 MTF	[H#I:d-+\   35 蒙特卡罗分析; icF - `m   XHO}(!l\   36 公差评价标准； /FiFtAbb   37 公差操作数； hGH{Xp[mW   38 补偿变量的使用；
<ZJ>jZV0*   17 双高斯镜头设计及优化； Osb"$8im   18 像质评价与图像模拟； PZ-|W   19 坐标变换； `5`Pv'`   20 坐标断点面的使用技巧	:&dY1.<N+   39 单透镜公差分析； [?BmW{*u.   `}F=Z jy   40 库克镜头公差分析； *?gn@4Ly   41 分析报告查看说明； E~zLhJTUL'   42 公差脚本的使用；
Dd*T5A?   21 序列模式棱镜建模； x ZS   ~Gc+naE>   22 扫描反射镜设计实例；	pF.Ws,nQ5   43 镜头出图、CAD 出图； M6!kn~   44 小结及答疑

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培训信息 B[-%A!3 F  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。