光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 1zftrX~v!X  
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培训大纲 <YFY{VC(  

S[,8TErz   01 OpticStudio 软件功能介绍; @ {#mpDX   02 材料库、镜头库介绍； 4 o(bxs"   03 如何定义新材料； YE}s   04 如何使用镜头库；	9 [jTs3l:   23 柯勒照明综合设计实例； PXz T6)   24 投影系统设计 F7MzCZvu   25 集光系统设计； ;n6b%,s   C+{l7QT$t   26 暗盒系统介绍；
93O;+Z5J   05 像差理论介绍； !}KqB8;   06 Zemax 里像差分析图谱； %."@Q$lA   07 优化; GiFXX   08 局部优化	|J0Q,F]T   27 分析工具应用； 1l8Etp&<   28 寻找最佳非球面 Thr*^0$C   29 曲率套样板； pS[KBQ"F   nZy X_J,Vd   30 镜头匹配工具；
;WU<CKYG*   09 全局优化； c+dg_*^   10 锤形优化； b;GD/UI   11 优化函数架构技巧； ,#]t$mzbQ(   12 单透镜优化实例	<3okiV=ox   31 Zemax 公差分析功能介绍; =gh`JN6   32 加工误差、装配误差； &~e$:8+   33 灵敏度分析; ? 1*m,;Z   34 反灵敏度分析;
1"#*)MF   13 双胶合优化实例； [5$w=u"j   14 热分析及衍射光学元件的使用; H ?M/mGP   15 实例设计及分析； }/P5>F<H[   16 MTF	8Q{9>^   35 蒙特卡罗分析; <plC_{Y:wu   ul f2vD   36 公差评价标准； =*vM A#e   37 公差操作数； -fI@])$9J   38 补偿变量的使用；
76cG90!Z   17 双高斯镜头设计及优化； 4Kwh?8.   18 像质评价与图像模拟； A@ *:<Hs %   19 坐标变换； US [dkbKo   20 坐标断点面的使用技巧	'1^B+m   39 单透镜公差分析； LPYbHo3fq   )~6zYJ2   40 库克镜头公差分析；  Ez~'^s@   41 分析报告查看说明； 6$fYt&1   42 公差脚本的使用；
41a.#o   21 序列模式棱镜建模； J[~5U~F   `(6r3f~XJ   22 扫描反射镜设计实例；	2F#q I1   43 镜头出图、CAD 出图； z+a%5J   44 小结及答疑

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培训信息 ENF"c$R  

• "1`Oh<={b  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。