光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 0i|oYaC  
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培训大纲 YJ/zU52JK~  

Da:unVbU   01 OpticStudio 软件功能介绍; W4U@%b do   02 材料库、镜头库介绍； ^Q ps>A(   03 如何定义新材料； >sjhA|gXk   04 如何使用镜头库；	qY$qaM^=   23 柯勒照明综合设计实例； TsUOpEuX   24 投影系统设计 VY"9?2?/   25 集光系统设计； E55t*^`   g'u?Rn7*J   26 暗盒系统介绍；
U_$qi   05 像差理论介绍； G4;3cT3'   06 Zemax 里像差分析图谱； jhX[fT1m   07 优化; ;Y mTw   08 局部优化	R:AA,^Z   27 分析工具应用； @]c(V%x   28 寻找最佳非球面 {}m PEd b   29 曲率套样板； k({\/t3i   E)-r+ <l   30 镜头匹配工具；
#E+gXan   09 全局优化； %#Z/2<_   10 锤形优化； RQB]/D\BO   11 优化函数架构技巧； )VK }m9Ae   12 单透镜优化实例	l?DJJ|>O   31 Zemax 公差分析功能介绍; 7Irau_   32 加工误差、装配误差； (NK9v W4F   33 灵敏度分析; K+)%KP   34 反灵敏度分析;
d:q +   13 双胶合优化实例； s/e"'Hz   14 热分析及衍射光学元件的使用; xc:!cA{V   15 实例设计及分析； 9F- )r'   16 MTF	ai^4'{#zi   35 蒙特卡罗分析; Hb(B?!M)   _l], "[d   36 公差评价标准； CBK kBuKuk   37 公差操作数； deeU@x`f<   38 补偿变量的使用；
\[>9UC%   17 双高斯镜头设计及优化； Dbaf0   18 像质评价与图像模拟； tYqs~B3   19 坐标变换； LrV{j?2@   20 坐标断点面的使用技巧	{"H2 :-t<   39 单透镜公差分析； nGf);U#K   &G>(9   40 库克镜头公差分析； ]PP:oriWl   41 分析报告查看说明； L~/ qGDXC?   42 公差脚本的使用；
]$ b<Gs   21 序列模式棱镜建模； xf>z@)e   XC3Kh^   22 扫描反射镜设计实例；	G02m/8g3   43 镜头出图、CAD 出图； b2^AP\: k   44 小结及答疑

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培训信息 ^, i>'T
 

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。