光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 6b|<$Je9  
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培训大纲 t/;2rIx>  

wn"}<ka   01 OpticStudio 软件功能介绍; N O!Qo:   02 材料库、镜头库介绍； f~VlCdf+   03 如何定义新材料； b,'O|s]"Sc   04 如何使用镜头库；	 [ <X%   23 柯勒照明综合设计实例； GLsa]}m,9   24 投影系统设计 SwOW% o   25 集光系统设计； JL6$7h   NzgG77>   26 暗盒系统介绍；
rUI?{CV   05 像差理论介绍； 9@|52dz%   06 Zemax 里像差分析图谱； GK$[!{w;   07 优化; jR%*,IeB   08 局部优化	%7ngAIg   27 分析工具应用； _=mzZe[   28 寻找最佳非球面 "#*W#ohVA   29 曲率套样板； !Gmnck&+   ?+]=|hN   30 镜头匹配工具；
|N/ d}   09 全局优化； >V6t L;+   10 锤形优化； =Dn<DV   11 优化函数架构技巧； -Q20af-   12 单透镜优化实例	G^.N$wcv   31 Zemax 公差分析功能介绍; D0Q9A]bD;   32 加工误差、装配误差； ^8 VW$}   33 灵敏度分析; `;85Mo:qJ   34 反灵敏度分析;
#*g=F4>t   13 双胶合优化实例； gkr9+   14 热分析及衍射光学元件的使用; +p%3pnj:K   15 实例设计及分析； b6-N2F1Fs   16 MTF	d"XZlEV   35 蒙特卡罗分析; F Ct<h/   lE k@I"   36 公差评价标准； |^Io x0A   37 公差操作数； 7${<u0((!   38 补偿变量的使用；
`G$>T#Dq   17 双高斯镜头设计及优化； h ;*x1BVE   18 像质评价与图像模拟； RBQ8+^   19 坐标变换； 6=f)3!=   20 坐标断点面的使用技巧	.lcp5D[(   39 单透镜公差分析； @} Ig*@   :-RB< Lj   40 库克镜头公差分析； pA!-sp gX   41 分析报告查看说明； QXb2jWz   42 公差脚本的使用；
c!\Gj|   21 序列模式棱镜建模； ]?}>D?5   @_do<'a   22 扫描反射镜设计实例；	JVoC2Z<   43 镜头出图、CAD 出图； uU^DYgs   44 小结及答疑

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培训信息 JvO1tA]ij  

• `0Udg,KOs  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。