光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 G1[(F`t>  
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培训大纲 Yt*vqm[WV  

LQ>$>A(   01 OpticStudio 软件功能介绍; NNp}|a9   02 材料库、镜头库介绍； lQ$+JX;n(y   03 如何定义新材料； A2BRbwr>   04 如何使用镜头库；	yquAr$L!   23 柯勒照明综合设计实例； {=iyK/Uf   24 投影系统设计 7>mhK7l   25 集光系统设计； #j.FJFGX   ayeCi8    26 暗盒系统介绍；
?;RD u[eD   05 像差理论介绍； =f `=@]   06 Zemax 里像差分析图谱； N iISJWk6'   07 优化; WUY,. 8   08 局部优化	Qi^;1&   27 分析工具应用； `I#`:hj   28 寻找最佳非球面 bRsc-Fz6   29 曲率套样板； `x2,;h!:)N   /ao<A\KR   30 镜头匹配工具；
AK;^9b-}q:   09 全局优化； )#PtV~64   10 锤形优化； 0Z8/R   11 优化函数架构技巧； q)k{W>O   12 单透镜优化实例	10O3Z9   31 Zemax 公差分析功能介绍; K:a3+k d   32 加工误差、装配误差； 3a^)u-9,x   33 灵敏度分析; 1a*6ZGk.   34 反灵敏度分析;
Xb0!( (A   13 双胶合优化实例； dQK`sLChv   14 热分析及衍射光学元件的使用; yKlU6t&` G   15 实例设计及分析； hLo>R'@uN   16 MTF	/tzlbI]z   35 蒙特卡罗分析; uQ^hV%|"   gi1j/j7   36 公差评价标准； D:)~%wu Lt   37 公差操作数； Z /c_kf[   38 补偿变量的使用；
`V@z&n0P6   17 双高斯镜头设计及优化； Wp`C:H   18 像质评价与图像模拟； #h{Nz/h+   19 坐标变换； xG w?'\   20 坐标断点面的使用技巧	" qE {a>d   39 单透镜公差分析； OGGSS&5tw   V]m^7^m3   40 库克镜头公差分析； YuA7r"c   41 分析报告查看说明； 5QOZ%9E&M   42 公差脚本的使用；
k,lqT>C   21 序列模式棱镜建模； AA2ui%   }7Jp :.qk   22 扫描反射镜设计实例；	RAwk7F3qn   43 镜头出图、CAD 出图； #fN/LO   44 小结及答疑

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培训信息 zWtj|%ts  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 s.KOBNCFa  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。