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摘要 *mQit/k. -"zu"H~t4 VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 Rpk`fxAO ':V_V. :
DOerSh_0W RF)B4D-W 介质目录中的斜光栅介质 #I?iR3u iW?9oe
@;6}xO2 {K9E% ,w 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 m=MT`-: 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 xiF%\#N pD# "8h 斜光栅介质的编辑对话框 :xPvEK[B7 6
b}feEh$! <dL04F 4c=kT@=jX 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 WQpJd7 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 $ t $f1? 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 C):d9OI? 斜光栅介质的编辑对话框 U_- K6:tr pYVy(]1I(3
`5-#M/J y.:- 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 Yd;r8rN 以下参数可用: ^qx\ e$R - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) k_n{Mss'9 - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) 0lCd,a2: - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) E ZKz-} - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) #`4^zU) %-/:ps 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 xD#I&. f*vk1dS:*3 斜光栅介质的编辑对话框 X-$td~r 9yo[T(8
)[sO5X7'^ )_e"Nd4 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 T(UYlLe 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 1K9?a;.
}pnFJ 斜光栅介质的编辑对话框 3cO[t\/up $Q?G*@y WlQ=CRY KOEi_9i} Z034wn\N 首先,必须选择涂层材料。 ev%t5NZ 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 K4/P(*r` 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 0^.4eX:E_ Vfm #UvA 斜光栅的编辑对话框 J+ZdZa}Ob tc<M]4-
,beR:60) |C6(0fgWd [l%fL9 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 M(zY[O 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 SE9u2Jk BMWeD 堆栈使用的评论 ]a!; `m$ dU>R<jl!$
J
s<MJ4r>/ g~hk-nXL. /Np"J 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 `J#xyDL6? 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 FR,#s^kF 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 6a]f&={E 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 D2%G.z |z|)r"*\4 斜光栅介质的采样配置 v#%>uLl PtQ# 斜光栅介质采样 @EP{VV QjjJtKz XBWSO@M' 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 ym*#ZE`B! 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 zHoO?tGf 在右边,显示了介质的预览。 ";?C4%L 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 dbT^9: Q g1 Wtu*K3
%Di7u- x /zG-\e U 采样斜光栅#1 N 1f~K.e\ 2mG&@E
C+(Gg^ w t:"=]zUU 采样斜光栅#2 C*y6~AYN# #!=>muZt
Hu9-<upc& !OoaE* s 采样斜光栅#3 K jn& &pMlt7 kL PO+lg+ AY/-j$5+? 采样斜光栅#4 Ro'4/{}+ i5E:FS^!I AYPf)K;% d%_78nOh" 文档信息 dJQ }{,+6 ttbQergS
k$0|^GL8 4-d99|mv Y6f+__O QQ:2987619807 q(&^9"
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