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摘要 'wo[iNy[ 8-N8v
*0 VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 e$k]z HlQ _.xT
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kKFSCl/g YU89m7cc' 介质目录中的斜光栅介质 Su<Ggv" Wdt9k.hzN
<p48?+K9 :q V}v2 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 N0@&eX|$i4 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 O1@-)<_71 $J/Z~(=JT 斜光栅介质的编辑对话框 OIF0X! &CvNNDgrJ BReNhk)S [69[Ct 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 sOSol7n 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 Hev S}L
这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 s!\uR. 斜光栅介质的编辑对话框 a pxZ} y.AF90Q>)
r( _9_%[ $XFiH~GI 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 5!ll
#/ {` 以下参数可用: rpsq.n - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) EDR;" G(N - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) 7$(>Z^ Em - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) pV:c`1\` - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) {:&t;5qz^ f>)k<-<yj 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 6#xP[hlR[ q$EicH}k8 斜光栅介质的编辑对话框 K~A$>0c #zC_;u$
)5Ddvz>+ QE&rpF7l{ 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 ^CUeq"GYoZ 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 AZ)H/#be 4h>Dpml 斜光栅介质的编辑对话框 bk E4{P" 7Op6>i
I_mnXd;n nDnSVrvd-i -LL49P6 首先,必须选择涂层材料。 }
h|1H 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 `QT9W-0e^ 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 3[%n@i4H| ")W5`9 斜光栅的编辑对话框 D]K?ntS[* nB%[\LtZ?
~B`H5# kX:8sbZ##4 H7Pw>Ta ; 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 p{w;y6e 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 @DyMq3Gt?& E|=]k 堆栈使用的评论 w.Go]dpK (z%OK[
gy/bA r#^uY:T% p%e/>N.P 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 4TaHS!9 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 =5g|7grQ:` 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 l, j0n0h. 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 ,^qHl+' !]P=v`B. 斜光栅介质的采样配置 ,h.hgyt L>,xG.oG 斜光栅介质采样 4HyD=6V# zB+zw\ncN 0y/P 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 iD:TKB_r 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 kfy|3KA3m 在右边,显示了介质的预览。 ;7g~4Uv4} 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 >):>Pz%U MNKY J
"%+9p6/ e41r!od 采样斜光栅#1 Njs'v;-K \-:4TuU
VqdR eo4v[V& 采样斜光栅#2 q_0,KOGW C0'_bTfB
O4,?C)
*g 2N&U 采样斜光栅#3 'k9 1;T[ (EOYJHZB! 0u ,nSvch
lmB+S 采样斜光栅#4 {OW.^UIq^ h=ko_/< A)D1
#,0 fb|lWEw5h. 文档信息 P64<O5l/ o1u?H4z
lhJZPnx~ DX8pd5U );ZxKGjc4 QQ:2987619807 6ieP` bct
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