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摘要 ~\LCvcY"X -h|B1*mt VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 j)C,%Ol l
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y*pUlts< /1mW|O>0 介质目录中的斜光栅介质 x^4xq#Bb7 *t[. =_v
D=m'pL/pl FC i U 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 N ,8/Y 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 +LM#n#T 3b' QLfU 斜光栅介质的编辑对话框 1cS}J:0P NS%WeAf }by;F9&B 5[0
O'%$ 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 h3LE>}6D 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 $hivlI-7Ko 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 X/iT)R]b 斜光栅介质的编辑对话框 1%4sHSN x=ul&|^7D
a}%#*J)! At7>V-f} 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 Fa'k0/_j 以下参数可用: 8"sb; - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) z!l.:F - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) +qh[N@F - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) K+;e4_\ - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) ?c[*:N( j@YU|-\qh 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 yE}}c{hSn GB$;n? 斜光栅介质的编辑对话框 uV!^,,~ ;\f gF@
C:PMewn kS bu]AB 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 U}[I
现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 ?b(=1S\E'^ anXc| 斜光栅介质的编辑对话框 j#cYS*^H xuqv6b. zT!drq: x |&RU/ a rg^'S1x| 首先,必须选择涂层材料。 `DV.+>O-1 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 <YdE1{fm 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
TWA-.>c V5UF3'3;} 斜光栅的编辑对话框 .Y&)4+ckL a!=D [Gz*5
i\,-oO N@t|7~ etTn_v 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 u6AA4( 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 -[cTx[Z, '.:z&gSqx0 堆栈使用的评论 vEJWFoeEFm uScMn/%
LDPUD' I}1NB3>^ #qK:J;Sn3 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 G3Z)Z)N 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 &5yVxL: 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 \G*0"%!U 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 e )d`pQ6 y*qVc E 斜光栅介质的采样配置 17%Mw@+ %nf6%@s 斜光栅介质采样 \W~N Z&1\{PG3* f4fvrL 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 h2G$@8t}I 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 3 2&;`]C 在右边,显示了介质的预览。 ,Q 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 8Vr%n2M 3LOdj T
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)Y"+,$$>Y` `sn^ysp 采样斜光栅#1 '=b/6@& 5IE#\FITO|
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R ]NV 采样斜光栅#2 p M4 :#%V 0XE4<U
Te"ioU?. >;e~ WF>+K 采样斜光栅#3 "~sW"n(F_ KcWN,!G wW>A_{Y J')o|5S1N 采样斜光栅#4 !fE`4< |