-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-08-06
- 在线时间1825小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 1J
tt\yq "G+g(?N]j VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 &/}reE* Ns*&;x9
qMj'% 5/ 7v8V0Gp 介质目录中的斜光栅介质 6H)T=Z| X,Q'Xe/
X:ck &YU;
K& 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 2(<2Gnpl 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 ST*\ Q AxbQN.E 斜光栅介质的编辑对话框 E5H0Yo.Wi X/8CvY#n )fRZ}7k: +Ui @3Q 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 v*&WxP^Gm 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 ^)| !nd 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 ev$\Ns^g$3 斜光栅介质的编辑对话框 ?$>#FKrt AD** 4E
L93PDp4v I&jiH) 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 d5hYOhO[ 以下参数可用: \m\E*c
): - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) m7|}PH"7 - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) N3Yf3rK - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) g$(<wWsU - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) Ep.Q&(D
> 3.c0PRZ 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 gHB*u!w7Z gE_i#=bw 斜光栅介质的编辑对话框 /p&V72 \fk%^1XY
+kMVl_`V H;eGBVi 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 O>h,u[0 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 X*Qtbm, 0pC}+
+ 斜光栅介质的编辑对话框 4IT`8n~ ixf~3Y8 cg]\R1Gm 7;wx,7CUq +J`HI1 首先,必须选择涂层材料。 >Z\{P8@k0 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 N>+s8L.? 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 f4h|Nn%; vZ
rE9C } 斜光栅的编辑对话框 Ci}v + 1;U
`e4"
Ub(8ko:8$
C,;hNg[ 06Irx^n 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 t=K;/1 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 >\/H2j QXQ'QEG 堆栈使用的评论 sM4Qu./ ib3u:
U:a-Wi+ {DI`HB[ "<e<0:: 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 Ez= Q{g 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 JB_<Haj 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 /^F_~.u{ 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 T~238C{vh "M GX(SQ 斜光栅介质的采样配置 )t$<FP o:p6[SGd 斜光栅介质采样 n O^m M<A jtDF% j/oM^IY 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 7M|!N_ $ 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 z<T(afM{* 在右边,显示了介质的预览。
*tWZ.I<< 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 ^tw\F7 ir72fSe
pBd_BaN 'V*ixK8R0 采样斜光栅#1 F7FUoew< ,t2yw
go6XUe Ve]ufn6 采样斜光栅#2 GH6 HdZ f>*D@TrU
k2"DFXsv \1[=t+/ 采样斜光栅#3 (9"w{pnlLc %gd{u\h^ ZQ%4]=w 9*thqs3J#d 采样斜光栅#4 b`lLqV<[cB sDylSYq 4TPAD)C rx$B(z(c 文档信息 JGJy_.C WN5`zD$
NSsLuM=. ;fdROI lBYc(cr QQ:2987619807 'e/= !"T
|