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摘要 |uJjO>8]| DKNcp8<J VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 #1'p?%K. Lr "V >GDf*
ox[ ~UwqQD1p 介质目录中的斜光栅介质 T9>,Mx%D[ 2Fbg"de3- {J;(K~>?m 'SWK{t \4 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 :{-/b 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 !]8QOn7 = ,jy9\n*<t9 斜光栅介质的编辑对话框 }AS3]Lub@ V#~.n;d ?nM]eUAP 6ziBGU#.- 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 <CS,v)4,nH 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 :;&3"- 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 7Ewq'Vu`y 斜光栅介质的编辑对话框 {CgF{7` }%3i8e ztC,[ Z3 dI
B`@ 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 Et&PzDvU 以下参数可用: NU3s^ 8\( - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) iu`B8yI - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) aOmQ<N]a - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) w!Ii - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) 85:mh\@-G ,,h>_IA 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 22E I`}"J 8HWEObRY 斜光栅介质的编辑对话框 NLev(B:OQH jOxnf%jl j__l'?s ?|GwuG8g 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 I%mGb$Q 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 @CA{uP; 6PLdzZ{ 斜光栅介质的编辑对话框 cu4 |!s`# Lv-M. 6^z):d#u 8~iggwZ~h" rpL]5e! 首先,必须选择涂层材料。
\Bl`;uXb 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 0E^S!A7 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 oLt%i:, A V"A*B 斜光栅的编辑对话框 2'}/aL|G fLuOxYQbf Htce<H-P .R&jRtb/E 2-rfFqpe 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 q =26($ 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 ezhK[/E= 9y;zk$O8 堆栈使用的评论 GOX2'N\h^ a=*JyZ.2 Yi|Nd ; `M ~-(,++ D|/
4),v 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 q]gF[&QZ 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 %5<Xa 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 vk3C&!M<a 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 v<gve<] f|{&Y2h(R 斜光栅介质的采样配置 28lor&Cc DhiIKd9W 斜光栅介质采样 dK7BjZTJo o#V{mm,{Pm *YP;HL 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 @E?o~jO(e 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 ]J.|XRp/ 在右边,显示了介质的预览。 Jy-V\.N>s 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 Vd A!tL :Mq{ES% #M[%JTTn LbnW(wr6:( 采样斜光栅#1 /Hyi/D{ W )/BbASO$)Z #9q
]jjH E G4J)o?:m@ 采样斜光栅#2 +{s -F g h:<?)g~U eJ60@N\A jJe?pT]o 采样斜光栅#3 bfKF6 &>vfm9 q'`LwAU} 1oL3y;>iL 采样斜光栅#4 f
SMy?8 N$P\$ F;Bq[V)R &LHS<Nv^: 文档信息 cA B<'44R x\K,@ !5>PZ{J u Qz!of%x 6~a4-5;>z QQ:2987619807 $)VnHr `hy
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