切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 光学手册（上、下册，李景镇） 光学元件微纳制造与精密检测技术 Zemax光学设计从入门到精通(中文版) 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 750阅读
    • 0回复

    [技术]JCMSuite应用—衰减相移掩模 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    技术专家
     
    发帖
    4701
    光币
    17881
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-09-15
    在本示例中，模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示： V>~*]N^f  
    +_vm\]4  
     t!+%g) @  
    ?h>(&H jWV  
    掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方，位于相移区域。 V}3~7(   
     A5(kOtgiT  
    由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)，在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签，以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后，就可以描述传入区域，就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入，光线的传输方向为+Z方向。 ?j},O=JFn  
     ?STI8AdO  
    相位分布如下图所示： N^@%qUvT]  
    *X"F:7  
     uC <|T  
    \oD=X}UQw(  
    相移区域的影响清晰可见，导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差： [U+<uZzOC  
    ?w|\ 7T.?  
     72B zvY.  
    h0ZW,2?l  
      )^QG-IM  
    QQ：2987619807 =}6Z{}(TT  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表