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    [技术]JCMSuite应用—衰减相移掩模 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-09-15
    在本示例中，模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示： :j% B(@b  
    @|Hx >|p  
     KKJa?e`C  
    VN<baK%]  
    掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方，位于相移区域。 &}lRij&`  
     3_c4+u"6  
    由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)，在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签，以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后，就可以描述传入区域，就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入，光线的传输方向为+Z方向。 T`|>oX  
     q3Y49d  
    相位分布如下图所示： yI*h"?7T  
    ;?!pcvUi  
     [E/^bM+  
    ~=pyA#VVJ"  
    相移区域的影响清晰可见，导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差： R~XNF/QMl  
    iMs(Ywak]  
     wHhIa3_v  
    \W})Z72  
     U\",!S~<  
    QQ：2987619807 [ r=U-  
     
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