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    [技术]JCMSuite应用—衰减相移掩模 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-09-15
    在本示例中，模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示： /Fk0j_b  
    (L~3nN;rr  
     Phx/9Kk  
    I2zSoQ1P  
    掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方，位于相移区域。 2Y$==j  
     |>[w $  
    由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)，在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签，以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后，就可以描述传入区域，就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入，光线的传输方向为+Z方向。 u |#ruFR  
     @UvjJ  
    相位分布如下图所示： !vG._7lPp  
    <nIU]}q  
     &npf %Eub  
    mv + .5X  
    相移区域的影响清晰可见，导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差： }p&aI?-B  
    xv1$,|^ts  
     uV;Z  
    !rrjA$P<v  
     |QHWX^pO  
    QQ：2987619807 +LrW#K;  
     
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