Essential
Macleod是一套完整的
光学薄膜分析与设计的软件包，它能在任一32位、64位微软窗口环境操作系统下运行（除了Windows RT）， 并且具有真正的多文档操作界面；它能满足光学镀膜设计中的各种要求；既可以从头开始设计，也可以
优化已有的设计；可以模拟设计生产中的误差，也可以导出薄膜的光学常数，是当今市场上最完善的薄膜设计及分析软件。
W,0KBkkp Iwnj'R7 : 模块：Core模块+5个附加模块
kO
/~i -i| /JH Core模块
C!CaGf= hhN(;. Macleod核心模块是软件的最低配置，包含设计编辑器，数据、目标编辑器，输入/输出，材料管理，性能计算，优化和综合，和其它软件或硬件的数据交换，导纳轨迹，电场，辅助设计等，是整个软件包的基本构架。
1uKD&k%q 
JDIz28 Ww Core模块功能
{ mK pD cL -6M^!a 效能计算
s 0x@
u OJh+[bf" Essential Macleod 提供了整组完整的效能计算。除了一般反射和透射计算外，也包括沉积密度、吸收，椭圆
参数，超快参数 (群组延迟、群组延迟色散、三阶色散)和多光色散，也可以进行色彩计算。公差的计算是分辨设计对微小厚度变化的灵敏度。
W66}\&5 Y} eZPG.h 颜色计算
>b [4 \ x>NB 颜色计算包括色度坐标、显色指数、色纯度、主导波长、相对色温。图形包括色度坐标图、色调、用户自定义图。包括CIE 1931 和 1964 配色函数在内的许多标准
光源选择是预先定义好的，而用户可以定制你所需要的参数的其它参数。可以根据导入的透射及反射数据计算作为波长函数的颜色参数，也可以作为目标进行优化。
$`cy'ZaF |DdW<IT`0 设计和分析工具
Lh8# I&x e7)> U!9c9 包括导纳图，电场分布，等效折射率，吸收分布，应力，光的散射、特性包络、消偏振边带滤波器设计和诱导透过率。
Y-
z~#; U "jUMOMZ; 提取工具
853]CK< n^g- ` n & k 提取工具提供了由量测测试薄膜的反射、透射频谱数据以决定薄膜或基底n 与k 的方法。
<v1_F;{n J
t n&o"C 反演工程
V}3~7( A5(kOtgiT 主要采用Simplex 局部优化方法，根据已镀膜的设计结构和
光谱测试数据（至少一种），来确定其真实膜系结构及其与设计的差别。
s.k`];wo :Kt{t46) 公差
#t5JUi%in* arpJiG~JR Essential Macleod 的公差能力允许你探查设计相对于制造误差的灵敏度，可以比较不同的设计以挑选出最优者。
?dA T MmT- 7KYF16A4 细化与合成
v= 8~ZDY :$) aME q Essential Macleod提供了6个优化和2个合成工具，膜层可以锁定或关联（膜层关联是更先进的分组形式可以把不连续的膜层关联在一起优化），堆积密度包含在细化工具下的简单下降法里面（可对折射率优化）。优化过程可以加入如选择的膜层的总厚度等不同的限制条件。Optimac和needle Synthesis方法可以优化多层膜，可加入多种材料合成优化。Context允许使用替代材料优化。
;NvhL|R ]lG_rGw 图表
TLR Lng jb6ZAT<8 Essential Macleod包括标准图片、动态图（参数的变化效应可立即看到）、三维图。
Z =1,<ydKV }K qw\ ]` 导入与导出
.1l[l5$ *o2_EqXL* 剪贴板支持与其它应用程序的导入与导出数据，还可以导出数据到
光学系统软件中如FRED、VirtualLab、Zemax、Code V。
3 8ls 4v3 A=l?IC@O Runsheet模块
p]J]<QaZD o9(#KC?3 这个工具可设计镀膜制程，包含机器配置编辑器以及跑单生成器。
E(L^hZMc +eH=;8 机器配置编辑器
{BwN4r46 oG U.U9~! 机器配置中贮存了特定镀膜机的详细设置，监控系统，入射角，材料，监控
芯片，加工因子（包含随光源损耗变化的动态加工因子）。
}T^v7 LY 07E" .T%Ts Runsheet
\t 7zMp QRn:=J%W W 使用者可使用跑单生成器对既定的机器配置，进行镀膜设计的监控规划。该工具除了可同时具备光学与晶体监控功能外，还具备诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。
))we\I__8 <jg
wdbT"6 •对反射、背向反射和透射监控计算光学信号
//@sktHsw( •当膜层沉积时，动态加工因子（Dynamic Tooling Factors）可以不同
:5qqu{GL •使用偏移和放大控制可以使信号数据缩小或放大到用户自定义范围
0v,`P4_k •对每一膜层，监控波长、带宽、监控光谱、晶控或光控都可以用户自定义
)l/C_WEK •在镀膜的任何阶段，监控芯片可以更换
WA)lk>(+ •多种配套的格式输出
x,@O:e •提供图片和表格的监测数据可以输出到用户自定义报告格式
:EmMia-)J
4pOc` Simulator模块
1tK6lrhj #0$eTdx # 对于公差问题， Simulator 通过蒙特卡罗（Monte Carlo）法在实际模型控制过程的扩展来进行解决。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划， Simulator 可模拟薄膜淀积控制，引入随机和系统效应，例如信号噪声，加工因子的变动，封装密度误差等等，以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应。
,Y uWz$aF{ gJ}'O4*b Monitorlink模块
u9[w~ U# w2m lqy2L Monitorlink提供将Runsheet连结到一个淀积控制器的额外软件。一个独立的程序与控制器直接连接，而且一个 Runsheet 的扩展也赋予其产出和编辑淀积程序的功能。
MYW 4@# VStack 模块
=,1zl}PR -$Z-hxs^ VStack 是一种计算与优化的工具﹐它也能计算这些系统中斜射光的效应。当光束斜入射时，初始为p- 偏振态的
光线最终会以p - 偏振态从系统出射。同理，原本是s - 偏振态光也会以p - 偏振态出射，我们称此为偏振泄漏 (polarization leakage) 现象。VStack 能计算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。
EJiF_ W(3~F2 Function模块
?R ~Ye Y$DgL
h 函数扩展功能无macleod计算中的限制，Function有两个主要工具：第一是简单的宏语言可在软件表格中运行，另一个是强大的Basic脚本语言。
'$&(+>)z ` laIC}! 宏语言可以保存和调用。Operation可以使阵列数据作为变量并可进行所有必要的插值。Operations可以创建黑体辐射光源，对于柯西材料模型可提取n和K数据，很容易的计算如平均或峰值特性等庞大计算量。其简单宏指令中的操作 ( 具有内建的编辑器和语法检查器 ) 能允许一再重复相同的计算。
?f%DVK d S7~l%G>]b A_$Mt~qKi^ 
8`R}L 脚本是比Operations功能强大但更复杂的的脚本编辑。脚本可以调用Macleod作为物的实体，并运行它的命令可以插入到工具栏中，存在两个强大的编辑器，一个是可以使用BASIC脚本编辑器，另一个允许是允许用户与程序包内置的对话框交互的脚本编辑器。
f 0s<Y -
G2M;]Cn 4~J1pcBno% 脚本也兼容OLE 的外部程序如Microsoft Word软件。软件提供了许多预先编辑好的脚本，如创建新的光源，如对不同的模型创建
纳米复合材料，如OLED特性计算，膜层表面3维数据收集，非均匀表面效应的计算。
[8(9.6f rD)v%vvr&` 1Yx[,GyC>& DWDM Assistant模块
p9bxhnn| 'jO-e^qT 在多腔滤波器设计中，特别是针对密集波分复用，用DWDM 助手可以避免单调的重复过程。DWDA Assistant 可自主设计一组多腔滤波片，以满足用户的不同规格，设计结果可以根据一些诸如总厚度、预计淀积时间、扰动特性等等规范排序。
(VF4] ^bgm0,M *d*;M> 通过扰动优化算法，增加只是由1/4 波长厚度的膜层组成的结构，减少通带中的脉动，使DWDM助手中使用的对称周期技术功能增强。一般来说，对给定要求的滤波器，有许多的设计都满足要求，但DWDM 助手可以按评价标准对设计结果进行排列。
g 0 _r < EE+
S#z 
Jd_ 1>p o+WrIAR
QQ：2987619807
