Essential
Macleod是一套完整的
光学薄膜分析与设计的软件包，它能在任一32位、64位微软窗口环境操作系统下运行（除了Windows RT）， 并且具有真正的多文档操作界面；它能满足光学镀膜设计中的各种要求；既可以从头开始设计，也可以
优化已有的设计；可以模拟设计生产中的误差，也可以导出薄膜的光学常数，是当今市场上最完善的薄膜设计及分析软件。
0$q )uip JVNp= ikK 模块：Core模块+5个附加模块
!bIhw}^C* -$kA WP8P4 Core模块
' sTMUPg` Z|$OPML X Macleod核心模块是软件的最低配置，包含设计编辑器，数据、目标编辑器，输入/输出，材料管理，性能计算，优化和综合，和其它软件或硬件的数据交换，导纳轨迹，电场，辅助设计等，是整个软件包的基本构架。
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Core模块功能
1bJrEXHXy >[gN QJ6 效能计算
xw&N[ y5 dy2<b+ .. Essential Macleod 提供了整组完整的效能计算。除了一般反射和透射计算外，也包括沉积密度、吸收，椭圆
参数，超快参数 (群组延迟、群组延迟色散、三阶色散)和多光色散，也可以进行色彩计算。公差的计算是分辨设计对微小厚度变化的灵敏度。
[5Pin>]z g%f6D%d)A 颜色计算
.t|B6n! 6"Rw&3D? 颜色计算包括色度坐标、显色指数、色纯度、主导波长、相对色温。图形包括色度坐标图、色调、用户自定义图。包括CIE 1931 和 1964 配色函数在内的许多标准
光源选择是预先定义好的，而用户可以定制你所需要的参数的其它参数。可以根据导入的透射及反射数据计算作为波长函数的颜色参数，也可以作为目标进行优化。
NYp46; i@#fyU)[G 设计和分析工具
XVkCYh4, ~i/K7 qZ 包括导纳图，电场分布，等效折射率，吸收分布，应力，光的散射、特性包络、消偏振边带滤波器设计和诱导透过率。
x1R< oB | VTvNn 提取工具
d,caO E8N 'nh^'i&0. n & k 提取工具提供了由量测测试薄膜的反射、透射频谱数据以决定薄膜或基底n 与k 的方法。
o@tc H{j
jA+0 反演工程
E >lW' vmK`QPu 2 主要采用Simplex 局部优化方法，根据已镀膜的设计结构和
光谱测试数据（至少一种），来确定其真实膜系结构及其与设计的差别。
Omy<Y@$ .=<<b| 公差
'Q F@@ 48 H^C$2 f Essential Macleod 的公差能力允许你探查设计相对于制造误差的灵敏度，可以比较不同的设计以挑选出最优者。
?_b zg' /L? ia 细化与合成
o+^5W {pyTiz#JY Essential Macleod提供了6个优化和2个合成工具，膜层可以锁定或关联（膜层关联是更先进的分组形式可以把不连续的膜层关联在一起优化），堆积密度包含在细化工具下的简单下降法里面（可对折射率优化）。优化过程可以加入如选择的膜层的总厚度等不同的限制条件。Optimac和needle Synthesis方法可以优化多层膜，可加入多种材料合成优化。Context允许使用替代材料优化。
zsuXN * &+ zS4)UK 图表
i- *ZW: *3]_Huw< Essential Macleod包括标准图片、动态图（参数的变化效应可立即看到）、三维图。
N.@@ebuE <m X EX`? 导入与导出
r Gb<7b% B (h%>mT[ 剪贴板支持与其它应用程序的导入与导出数据，还可以导出数据到
光学系统软件中如FRED、VirtualLab、Zemax、Code V。
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2Rp Runsheet模块
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6{ ]ovb!X_ 这个工具可设计镀膜制程，包含机器配置编辑器以及跑单生成器。
#:LI,t y $C\b\hM 机器配置编辑器
];8S<KiS~ _?QVc0S! 机器配置中贮存了特定镀膜机的详细设置，监控系统，入射角，材料，监控
芯片，加工因子（包含随光源损耗变化的动态加工因子）。
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_N @X g5 E Runsheet
\olYv!f S{#L7 S 使用者可使用跑单生成器对既定的机器配置，进行镀膜设计的监控规划。该工具除了可同时具备光学与晶体监控功能外，还具备诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。
;fGh]i w=feXA3-S •对反射、背向反射和透射监控计算光学信号
&Y3 r'" •当膜层沉积时，动态加工因子（Dynamic Tooling Factors）可以不同
'| rhm •使用偏移和放大控制可以使信号数据缩小或放大到用户自定义范围
ap|$8 G •对每一膜层，监控波长、带宽、监控光谱、晶控或光控都可以用户自定义
H^r;,Q$9 •在镀膜的任何阶段，监控芯片可以更换
Uo n^z?0A •多种配套的格式输出
<Po$|$_~ •提供图片和表格的监测数据可以输出到用户自定义报告格式
GZWU=TC2{2 Cu&y',ee~ Simulator模块
ur K~]6 8 Sahz*f 对于公差问题， Simulator 通过蒙特卡罗（Monte Carlo）法在实际模型控制过程的扩展来进行解决。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划， Simulator 可模拟薄膜淀积控制，引入随机和系统效应，例如信号噪声，加工因子的变动，封装密度误差等等，以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应。
?3=y]Vb+ N83c+vs%c Monitorlink模块
f'?FYBL %v)O!HC} Monitorlink提供将Runsheet连结到一个淀积控制器的额外软件。一个独立的程序与控制器直接连接，而且一个 Runsheet 的扩展也赋予其产出和编辑淀积程序的功能。
xka&,`z VStack 模块
L| K8 Z b}U 4 VStack 是一种计算与优化的工具﹐它也能计算这些系统中斜射光的效应。当光束斜入射时，初始为p- 偏振态的
光线最终会以p - 偏振态从系统出射。同理，原本是s - 偏振态光也会以p - 偏振态出射，我们称此为偏振泄漏 (polarization leakage) 现象。VStack 能计算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。
!THa?U; 33z^Q`MTC Function模块
!M@jW[s [2 \jQv\Y 函数扩展功能无macleod计算中的限制，Function有两个主要工具：第一是简单的宏语言可在软件表格中运行，另一个是强大的Basic脚本语言。
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q:S]YB 宏语言可以保存和调用。Operation可以使阵列数据作为变量并可进行所有必要的插值。Operations可以创建黑体辐射光源，对于柯西材料模型可提取n和K数据，很容易的计算如平均或峰值特性等庞大计算量。其简单宏指令中的操作 ( 具有内建的编辑器和语法检查器 ) 能允许一再重复相同的计算。
~KP@wD~ d`9ofw~3= X([p0W
9V( L~|_C Rw
脚本是比Operations功能强大但更复杂的的脚本编辑。脚本可以调用Macleod作为物的实体，并运行它的命令可以插入到工具栏中，存在两个强大的编辑器，一个是可以使用BASIC脚本编辑器，另一个允许是允许用户与程序包内置的对话框交互的脚本编辑器。
IC6r? oF L7dL t5RV -$ 脚本也兼容OLE 的外部程序如Microsoft Word软件。软件提供了许多预先编辑好的脚本，如创建新的光源，如对不同的模型创建
纳米复合材料，如OLED特性计算，膜层表面3维数据收集，非均匀表面效应的计算。
,4--3 MU x|`BF%e/v zw[ #B # DWDM Assistant模块
x,M8NTb* >0E3Em<(}l 在多腔滤波器设计中，特别是针对密集波分复用，用DWDM 助手可以避免单调的重复过程。DWDA Assistant 可自主设计一组多腔滤波片，以满足用户的不同规格，设计结果可以根据一些诸如总厚度、预计淀积时间、扰动特性等等规范排序。
7&&3@96<*# i[ /`9 AK }?^]-`b 通过扰动优化算法，增加只是由1/4 波长厚度的膜层组成的结构，减少通带中的脉动，使DWDM助手中使用的对称周期技术功能增强。一般来说，对给定要求的滤波器，有许多的设计都满足要求，但DWDM 助手可以按评价标准对设计结果进行排列。
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QQ：2987619807
