切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 2254阅读
    • 0回复

    [分享]用阿贝判据研究显微系统的分辨率 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7172
    光币
    30001
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-07-06
    摘要 ?tA<:.<vtY  
     T 5AoBUw  
    显微系统的分辨率一般用阿贝判据进行表征。这也解释了物镜的数值孔径(NA)决定了光栅(作为样本)衍射阶在其后焦平面上的滤波。当高衍射级次的衍射被滤除后，像面不会发生干涉，因此不会成像。本实例演示了数值孔径NA对滤波效果和分辨率的影响。 8wi2&j_  
    ?;bsg 9  
    `kRv+Qwfa  
     69/br @j%`  
    1. 案例 5DI&pR1eZ  
    xJ);P.  
     F> H5 ww9E  
      6EX_IDb  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 R5,ISD +s  
     [z2jR(+`U  
    1. 系统构建模块 Fk-}2_=v i  
    +o4W8f=Ga  
     7m<;"e)  
    Ag82tDL[u  
    2. 组件连接器 C$<['D?8  
    Iq[ d5)M4  
    dsUt[z1w5  
          S^ ,q{x*T  
    几何光学仿真 ?BEO(;'  
     z'!sc"]W6  
    以光线追迹 'QP~uK  
     ev LZ<|  
    1. 结果：光线追迹 tLD(%s_  
    0ECQ>Ux:  
    W]-c`32~S  
          gK6_vS4K)  
    快速物理光学仿真 uto E}U7]  
     ?r%kif)  
    以场追迹 79bt%P  
     w vQ.9  
    1. NA=1.4时的光栅成像 gz~)v\5D/  
    ,K-?M5(n9  
     l2S1?*  
    ,WKWin  
    2.  NA=0.75时的光栅成像 hgmo b"o  
       N+#lS7  
    'ZXd |WI  
    Ltrw)H}  
    3. NA=0.5时的光栅成像 ^rX5C2}G\D  
       Q$B\)9`v[  
    "c2{n,  
     h%[1V  
    文件信息 <W2 YG6^i  
    ro8c-[V  
     GX@=b6#-  
    bPL.8hX   
     <AN=@`+  
    QQ：2987619807 4*Y`Pn@  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表