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摘要 1W*Qc_5 v1 _~Od G 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 iJ58RY 7Z]?a lg-`zV3 建模任务 Qq{tX im<!JMI KUX6n(u 结果 bL<H$DB6 o$bQ-_B` LL:N/1ysG 结果 UV%o&tv|< 5D3&E_S q:>`|~MX 结果 fC^d@4ha T:Q+ Z }v+ Fc=F2M o? 文件信息 dG3?(}p+ `o_i+?E x?6^EB|@
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