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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 &(20*Vn,O  
    t4-0mNBZt$  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 >Q)S-4iR  
    X,K`]hb*0_  
    ;uuBX0B  
    场景 XK(aH~7xme  
    O@rZ ^Aa  
    =e6!U5 f  
    v/`#Gu^P  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 H#bu3*'  
    <H1e+l{8$  
    系统构建块
    @$wfE\_L  
    R7x*/?  
    &2W`dEv]?  
    U,aMv[ZB  
    组件求解器 ulk yP  
    2}ywNVS  
    g;y*F;0@  
    S's I[?\x  
    ;i3C  
    C,{ Ekbg  
    系统构建块 |:d_IB@  
    xf{=~j/L  
    @ t8{pb;v  
    e4 cWi  
    总结 CO SQ  
    b28C (  
    x2g=%K=  
    &Fch{%S>  
    几何光学仿真 'W[Nr  
    通过光线追迹 ;S+"z;$m  
    ;{g>Z|  
    结果:光线追迹 zM'2opiUY  
    OEHw%  
    $tebNi P  
    (DTkK5/%  
    快速物理光学仿真 6Kd,(DI  
    通过场追迹 &s&Ha{(!w  
    BCr*GtR)W  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 @ds.)sKA>  
    ^^gV@fz  
    2>inyn)S  
    Y-*]6:{E  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 $60]RCu  
    d^XRkB:h  
    !p4FK]B/u  
    g0RfvR  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 R6G%_,p$7  
    w Yr M2X@  
    HQ3kxOT  
    b_oUG_B3]  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 m?<5-"hz  
    4i Z7BD  
    u[coWaPsZ  
    ,SoqVboRl  
    总结 (t-JGye>  
    J<7nOB}OD  
    'FGf#l<  
    $:0?"?o);  
    文件信息 gz"I=9  
    Dad*6;+N  
    QgW4jIbx  
    [Ma d~;  
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    QQ:2987619807 \-)augq([  
     
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