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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-25
    摘要 z3 ^_C`(F  
    ]Ue aXwaU  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 w*~s&7c2B  
    %${$P+a`D  
    78*8-  
    概述 X}]A_G  
    <L*`WO]\l  
    wjH1Ombt  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 yK&  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 >}+R+''nR  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 0=U|7%dOL  
    &RbP N^  
    cR!M{U.q  
    OXp N8Dh5  
    衍射级次的效率和偏振
    IIT[^_g  
    mrsmul{  
    I0H]s/*C%9  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 \`z%5/@f;  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 31 <0Nw;l  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 J,?F+Qji&=  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 ?[.8A/:5  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 mT-[I<  
    x'\C'zeF  
    du ~V=%9  
    光栅结构参数 L#'XN H"  
    a}FY^4hl+  
    sm Ql^ 6a  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 .vy@uT,  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 o o'7  
    •因此,选择以下光栅参数: djnES,^%9  
    - 光栅周期:250 nm WvArppANo  
    - 填充系数:0.5 'ZI8nMY  
    - 光栅高度:200 nm $v#`2S(7  
    - 材料n1:熔融石英 }[lP^Qs  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) W,H8B%e  
    ^$% Sg//  
    t_!p({  
    U$OI]Dd9  
    偏振状态分析 5rbb ,*  
    bW! &n  
    OE0G*`m  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 :] U\{;q2  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。  yZ[g2*1L  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 ^dk$6%0  
    J]Z~.f="  
    "9c=kqkX  
    VZr:yE  
    产生的极化状态 JttDRNZAU  
    *{+{h;p  
    R{bG`C8.d  
    -3) jUzD  
    1,;zX^  
    其他例子 \$.{*f  
     3TCRCz  
    i@5Fne  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 Q0K$ZWM`7  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 A&Aj!#  
    sfr+W-7kx  
    8Vj'&UY  
    'n-y*f  
    光栅结构参数 v ;}s`P\"  
    p)iEwl}!j  
    _ pz}  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 n6WKk+  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 6uo;4}0  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 K6-M.I  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 s^eiym P  
    4L8hn4F  
    egG<"e*W}N  
    光栅#1 EI 35&7(  
    4RtAwB  
    lD3nz<p  
    Rb0I7~Z%'d  
    lcm [l  
    •仅考虑此光栅。 `wtso  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 1] ~w?)..'  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 3rKJ<(-2/  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 L0!CHP/nRS  
    ;H~<.QW  
    9ZJ 8QH  
    假设光栅参数: BXYH&2]Q  
    •光栅周期:250 nm HVHv,:bPo  
    •光栅高度:660 nm (V jU,'h  
    •填充系数:0.75(底部) _;;Zz&c  
    •侧壁角度:±6° i}DS+~8v  
    •n1:1.46 9ET1Er{4  
    •n2:2.08 ,oA<xP-*  
    'v V7@@  
    光栅#1结果 7:<w)Al!  
    ={ms@/e/T  
    \$w kr  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 `nl n@ ;  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 \|S!g_30m  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    OA[e}Vn  
    DpgTm&}-  
    {jz`K1  
    2Ckx.m&  
    光栅#2 R);Hd1G  
    Fa )QDBz)  
    /qX?ca1_4^  
    (*9.GyK  
    dg24h7|]  
    •同样,只考虑此光栅。 m|qktLx  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 aE`d[d SG  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 z~ C8JY:  
    假设光栅参数: \c:$ eF  
    •光栅周期:250 nm "ntP928  
    •光栅高度:490 nm Jo\P,-\(  
    •填充因子:0.5 y'K2#Y~1e  
    •n1:1.46 fu^W# "{  
    •n2:2.08
    1g{Pe`G,  
    \x}\)m_7M<  
    光栅#2结果 fgdR:@]-  
    w*ans}P7  
    (.ir"\k1(  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 U-I,Q+[C[^  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 e|\xF V=4  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 3#>W\_FY*D  
    !#c'| *k  
    qSc-V`*  
    文件信息 cs+3&T: ,*  
    4 O!2nP  
    C!VhVOy>d  
    lvO6&sF1  
    .5(YL8d  
    QQ:2987619807 0X=F(,>9  
     
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