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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 UHz*Tfjb  
    s@f4f__(]  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 0,(U_+ n  
    -Xkdu?6Eh  
    zGu(y@o  
    BUv;BzyV  
    建模任务 <oPo?r|oM|  
    %L{H_;z  
    @?{n`K7{`  
    概观 tn;e PcU  
    &~U8S^os  
    $g _h9L  
    光线追迹仿真 3~BL!e,  
    %$I\\q q>{  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 : KZI+  
     "=H7p3  
    •点击Go！ \CB{Ut+s  
    •获得3D光线追迹结果。  ^DVr>u  
    qI<6% ^i  
     r~u/M0h `  
    ?{$Q'c_I  
    光线追迹仿真 U n2xZ[4  
    n w @cAv  
    )dG7 $,g  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 O$Wt\Y <q  
    •单击Go！ 8^$}!9B~JZ  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     9IMtqL&  
    `Qv7aY  
    k _hiGg  
    ${KDGJ,^  
    场追迹仿真 >c\'4M8Cz  
    ;Mc\>i/  
    E*7B5  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ME1lQ7E4B  
    •单击Go！     HLAWx/c,j"  
    ._-^ 58[  
    t'_Hp},  
    vML01SAi  
    场追迹结果（摄像机探测器） .jZmQtc  
     <dD}4c+/t  
    /lm;.7_J+  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 mmAikT#k  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 [E2afC>zrl  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 y VUA7IY  
    cG,B;kMjo  
    ~o= Sxaf  
     kW4/0PD  
    场追迹结果（电磁场探测器） N/TU cG|m\  
    $=4T# W=m  
    utQE$0F  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     wZh&w<l'  
    <O?iJ=$  
    bAeC=?U  
    文件信息 /0d_{Y+9  
    J8J~$DU\Gv  
     ?7@B$OlU  
    _,=A\C_b@  
     syA*!Up  
    QQ：2987619807 )~T)$TS  
     
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