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新一代大尺寸集成电路硅单晶生长设备试产成功  上图 国内首台新一代大尺寸集成电路硅单晶生长设备。 2018年起，西安理工大学刘丁教授团队与西安奕斯伟硅片技术有限公司紧密协作，开展技术攻关，成功研制出直径300毫米、长度2100毫米的高品质硅单晶材料。实现了采用自主研发国产装备拉制成功大尺寸、高品质集成电路级硅单晶材料的突破。 （来源：经济日报）
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最新评论
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tjuopdesign 2020-12-26 11:01
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wangjin001x 2020-12-26 11:20新一代大尺寸集成电路硅单晶生长设备试产成功
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chenzkfirst 2020-12-26 12:18多大尺寸的
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lincoln3304 2020-12-26 14:42来签到了。
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hchgh 2020-12-26 14:50点赞点赞！
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czxj2003 2020-12-26 15:39意义意义意义意义
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bairuizheng 2020-12-26 16:15过来看新闻
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fcd515 2020-12-26 16:51新一代大尺寸集成电路硅单晶生长设备试产成功
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copland 2020-12-26 19:57大尺寸集成电路硅单晶生长设备试产成功
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wmh1985 2020-12-26 23:49国内首台新一代大尺寸集成电路硅单晶生长设备日前在西安实现一次试产成功。
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