在1/8发丝粗细的光纤上“起舞”:“冰刻”技术展现中国制造未来
还记得儿时看过的冰雕展吗?美轮美奂的宫殿、动物、丛林,让人不得不赞叹匠人的鬼斧神工。如果,这样的冰雕是发生在仅有头发1/8粗细的光纤末端,并且不止雕刻一件作品,而是同时雕刻百件以上,那又是怎样的风景? 过去两个月,西湖大学仇旻研究团队在《纳米快报》《纳米尺度》《应用表面科学》等期刊上连续发表一系列研究成果,雕刻小到微米甚至纳米级别的“冰雕”游刃有余,从精确定位到精准控制雕刻力度,再到以“冰雕”为模具制作结构、加工器件,一套以“wafer in, device out”(原料进,成品出)为目标的“冰刻2.0”三维微纳加工系统雏形初现。 ![]() 从冰层沉积开始到吹除废料结束,加工全程不涉及化学溶剂。西湖大学供图 “其实我们只是把传统电子束光刻技术中的‘光刻胶’换成了冰。”仇旻说。但这一换,却换出了一片全新的想象空间。 什么是“冰刻” 如何用巧克力粉在奶油蛋糕表面撒出“生日快乐”四个字?你需要一片模具,模具上有镂空的“生日快乐”字样。巧克力粉透过模具撒到蛋糕上,“生日快乐”四个字就出现了。 类似的原理,也应用在传统的电子束光刻技术(微纳加工的核心技术之一)中。 假设我们要在硅晶片上加工四个纳米尺度的金属字“西湖大学”,首先,需要将一种叫“光刻胶”的材料均匀地涂抹在晶片表面; 用电子束(相当于肉眼看不见的“雕刻刀”)在真空环境中将“西湖大学”四个字写在光刻胶上,对应位置的光刻胶性质会发生变化; 再用化学试剂洗去改性部分的胶,一片“镂空”的光刻胶模具就做好了; 接下来便是将金属“填”进镂空位置,使之“长”在晶片表面; 最后再用化学试剂将所有光刻胶清洗干净,去除废料后只留下金属字。 光刻胶是微纳加工过程中非常关键的材料。有人说,中国要制造芯片,光有光刻机还不够,还得打破国外对“光刻胶”的垄断。 但这样的“光刻胶”有局限性。 “在样品上涂抹光刻胶,这是传统光刻加工的第一步。这个动作有点像摊鸡蛋饼,如果铁板不平整,饼就摊不好。同时,被抹胶的地方,面积不能太小,否则胶不容易摊开摊匀;材质不能过脆,否则容易破裂。”仇旻实验室助理研究员赵鼎说。 |