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    [分享]极紫外投影光刻光学系统 [复制链接]

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    离线gangzi0801
    技术专家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-12-06
    关键词： 光刻光学系统光学设计
    摘要：极紫外光刻(EUVL)是半导体工业实现32～16nm技术节点的候选技术，而极紫外曝光光学系统是EUVL的核心部件，它主要由照明系统和微缩投影物镜组成。本文介绍了国内外现有的EUVL实验样机及其系统参数特性；总结了EUVL光学系统设计原则，分别综述了EUVL投影光学系统和照明光学系统的设计要求；描述了EUVL投影曝光系统及照明系统的设计方法；重点讨论了适用于22nm节点的EUVL非球面六镜投影光学系统，指出了改善EUVL照明均匀性的方法。 {`:!=  
    vDemY"wz  
    关键词：极紫外光刻；投影光学系统；照明光学系统；光学设计
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    共2条评分 ，光币+11
    mang2004 光币 +6 - 2021-01-10
    cyqdesign 光币 +5 - 2020-12-06
     
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    离线风起长林
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    只看该作者 75楼 发表于: 01-22
    进来看看，感谢分享
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    离线niusir
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    只看该作者 74楼 发表于: 01-06
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    离线qyzyq37jason618
    助理工程师
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    只看该作者 73楼 发表于: 01-06
    学习一下
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    离线bigear86
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    只看该作者 72楼 发表于: 2023-09-07
    谢谢分享。
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    离线alva100
    实习生
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    只看该作者 71楼 发表于: 2023-06-14
    谢谢分享
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    离线chengzheng
    工程师
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    只看该作者 70楼 发表于: 2023-05-04
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    离线光学见习生
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    只看该作者 69楼 发表于: 2022-10-27
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    离线billysss
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    只看该作者 68楼 发表于: 2022-10-27
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    离线smallzyf
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    只看该作者 67楼 发表于: 2022-10-24
    感谢分享   个    
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