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    [分享]极紫外投影光刻光学系统 [复制链接]

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    离线gangzi0801
    技术专家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-12-06
    关键词： 光刻光学系统光学设计
    摘要：极紫外光刻(EUVL)是半导体工业实现32～16nm技术节点的候选技术，而极紫外曝光光学系统是EUVL的核心部件，它主要由照明系统和微缩投影物镜组成。本文介绍了国内外现有的EUVL实验样机及其系统参数特性；总结了EUVL光学系统设计原则，分别综述了EUVL投影光学系统和照明光学系统的设计要求；描述了EUVL投影曝光系统及照明系统的设计方法；重点讨论了适用于22nm节点的EUVL非球面六镜投影光学系统，指出了改善EUVL照明均匀性的方法。 6D;Sgc5"  
    d UE,U=  
    关键词：极紫外光刻；投影光学系统；照明光学系统；光学设计
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    共3条评分 ，光币+12
    shge 光币 +1 优秀文章，支持！ 07-14
    mang2004 光币 +6 - 2021-01-10
    cyqdesign 光币 +5 - 2020-12-06
     
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    离线wanggui54
    助理工程师
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    只看该作者 87楼 发表于: 07-14
    谢谢分享
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    离线shge
    实习生
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    只看该作者 86楼 发表于: 07-14
    优秀文章，支持！
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    离线lllsss
    技术员
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    只看该作者 85楼 发表于: 06-10
    谢谢分享 学习一下 LKB$,pR~1l  
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    离线916177556
    实习生
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    只看该作者 84楼 发表于: 06-08
    感谢分享 (_]~wi-,  
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    离线mrnobody
    技术员
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    只看该作者 83楼 发表于: 02-10
    EUVL学习
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    离线alexcye001
    实习生
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    只看该作者 82楼 发表于: 02-08
    感谢分享！
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    离线gcy980605
    实习生
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    只看该作者 81楼 发表于: 2024-10-28
    感谢分享。顶顶顶
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    离线qinzyong
    助理工程师
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    1989
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    只看该作者 80楼 发表于: 2024-10-14
    下载下来学习学习，多谢楼主！
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    离线smartu
    实习生
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    只看该作者 79楼 发表于: 2024-10-13
    谢谢分享
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