[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 r8wip\[  
f|r+qe  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 lQ{o[axT
 
5ns.||%k  
{0~xv@ U  
Cqra\  
该用例展示了… \'>8 (i~  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： ,|7!/]0&  
倾斜光栅介质 4iPxtVT  
体光栅介质 -*nd5(lY&  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 9*ek5vPB  
Z37%jdr  
D8O&`!mf  
u,88V@^  
光栅工具箱初始化 ^}{`bw{  
~USU\dni  
uO{'eT~  
 初始化 I
7-6|J@#^  
开始-> *ak"}s  
光栅-> P.>5`^  
通用光栅光路图 G,-x+e"  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 gwQk M4  
光栅结构设置 p+y2w{{  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 h+ggrwg'  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 !C>'a:  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 8j^3_lD  
9C"d7--  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 na0-v-  
+]*hzWbe  
堆栈编辑器 k0>]7t$L  
wQR0R~|M  
^;DbIo\6H  
bmd3fJb`r  
堆栈编辑器 WvVf+|Km  
E!6Nf[  
6d#:v"^,  
涂层倾斜光栅介质 nu!tk$Q  
,b!]gsds  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 wS%j!|xhlV  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 S>N/K  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 cpJ(77e  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高）  #-^y9B  
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M  
o8h1  
涂层倾斜光栅介质 ]4 q6N
 
w`a(285s)i  
E#^?M#C  
# ZcFxB6)  
涂层倾斜光栅介质 n^+rxG6L  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 7w8I6  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 9?i~4&EY  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 W:TF8Onw  
<7X6ULQ  
fo$Ac  
+1(L5Do}  
涂层倾斜光栅介质参数 U|YIu!^  
Wti?J.Csc  
5IfyD ]<  
0!(BbQnWI  
涂层倾斜光栅介质参数 P+s-{vv{0  
r[votdFo  
xJ[Xmre  
ztG!NZL  
高级选项&信息 o9 g0fC  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 r-]HmY x  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置  %J?"ZSh  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ~K-_]*[x  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅  aa10vV  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 ?=^M(TA;  
yw{;Qm2\7  
8Ug`2xS<_  
7$HN5T\!  
高级选项&信息 7]&ouT  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 Zyx92z9Y  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 c=Y8R/G<  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 /:o (Ghc?  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 >~)IsQ*%  
du0]LiHV  
@ApX43U(  
FaVeP%v  
高级选项&信息 JAA{5@ST  
Qk_`IlSd  
@w]z"UCwV@  
w\f>.N  
高级选项&信息 @*}?4wU^k  
^+)q@{\8Y  
rh%-va9  
b( qO fek  
体光栅介质 X&+*?Q^  
' +*,|;?  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 bo%v(  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 ( /):  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 ~3F\7%Iqc  
M(+;AS?;  
]0yYMnqvr  
#{]Yw}m  
体光栅介质参数 28rC>*+z  
w6w'Jx  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 lAcXi$pF  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 4X^{aIlshk  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 MlBw=Nr  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） v!b 8_0~u6  

tm[e?+Iq  
o"5[~$O  
Q[U_ 0O,A9  
体光栅介质参数 ['l.]k-b}  
*[MK{m  
>*"6zR2 o  
:>t^B+  
高级选项&信息 *w[\(d'T  
zLa3Q\T  
X
A%a7Xtni  
y?1<7>L5~  
高级选项&信息 5W29oz}-S  
aTx*6;-PH  
qauZ-Qoc9  
+#|):aF  
在探测器位置处的备注 :y!%GJW  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 AvNU\$B4aG  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 ]XAJ|[]sj*  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 #ErIot  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） Qn*a#]p  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 d'yA"b]  

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文件信息 0B;cQSH!q  
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QQ：2987619807 Rt{`v<