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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 |7}C QU  
    =@8H"&y`  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 CBD6bl|A  
    qq1-DG  
    !ZI7&r`u;  
    ?1 [\!  
    该用例展示了… ZU9c 5/J  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: rJ!{/3e  
    倾斜光栅介质 `UQf2o0%3w  
    体光栅介质 (Gw,2 -A  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 x"CZ]p&m  
    2d {y M(=(  
    ZKOXI%~Mc  
    "/nNM{^  
    光栅工具箱初始化 ]+m/;&0  
    C{q:_M;  
    `)Z!V?&!  
     初始化 2"d!(J6}K  
    开始->  =Mb1o[  
    光栅-> l?q%?v8  
    通用光栅光路图 ]Y| 9?9d  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 yj$TPe_BW  
    光栅结构设置 Z xb_K  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 $\"9<o|h  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 u^j {U}  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 zP;cTF(C  
    gn{=%`[  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 P@]8pIB0d^  
    //&j<vu s  
    堆栈编辑器 R+~cl;#G6  
    5c;h &  
    4A3nO<o MF  
    ^o !O)D-q  
    堆栈编辑器 x5Z-{"  
    [,aqQ6S  
    tyDY'W\]  
    涂层倾斜光栅介质 4"vaMa  
    YUdxG/~'  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 Kwhdu<6  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 s6 }X t=j  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 8:.nEo'  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) do-c1;M  
    K+T .o6+  
    \NqEw@91B  
    %k0EpJE%  
    涂层倾斜光栅介质 d3]hyTqbtm  
    p$k\m|t  
    kHJ96G  
    `Vq`z]}  
    涂层倾斜光栅介质 (XH2Sy  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 {?{U,&  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 T!Sj<,r+j  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 &gc `<kLu  
    y5 m!*=`l`  
    yW.COWL=)  
    P.sgRsL  
    涂层倾斜光栅介质参数 s T3p>8n  
    dZ :r&Qa  
    Ak~4|w-  
    !ax;5@J  
    涂层倾斜光栅介质参数 THhy~wC".  
    ~DLIzg7p!  
    |)@N-f:E  
    r dj@u47  
    高级选项&信息 8o)L,{yl  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 Vos?PqUi 4  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 w 7tC|^#G  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 \Kd7dK9&]  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 4FA|[An  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 dDKqq(9(`  
    Kla:e[{  
    ^{[`=P'/  
    LCQkgRs}~{  
    高级选项&信息 ;mO,3dV  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 Goj4`Hc  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 ma}}Sn)Q  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 p q-!WQ  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 (Cj,\r  
    E_[ONm=,  
    ?^3B3qqh9  
    A9BxwQU#  
    高级选项&信息 "d?f:x3v^  
    Ea`OT+#h(*  
    3c 28!3p  
     ,o&<WMD  
    高级选项&信息 u[t>Tg2R  
    -fM1$/]  
    q<}PM  
    ,cQ)cY[  
    体光栅介质 SY6r 8RK  
    z1vni'%J  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 ,iOZ |  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 5 TET<f6R  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 =n }Yqny  
    nE<J`Wo$f  
    %EB;1  
    IuWX*b`v  
    体光栅介质参数 ]1Qi=2'  
    _&mc8ftT  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 #,Bj!'Q'-  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 `g8tq  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 &O{t^D)F  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) 4`G=q^GL,  
    &u4Ve8#  
    ,|QU] E @  
    }Y$VB%&Hy  
    体光栅介质参数 (T2<!&0 @  
    7\ZL  
    a~ F u  
    :`j"Sj !t3  
    高级选项&信息 `bi k/o=%  
    ?bCTLt7k  
    ?xf~!D  
    )rS^F<C  
    高级选项&信息 B4 <_"0  
    ] : Wb1  
    I>8 Bc  
    C!I\Gh  
    在探测器位置处的备注 /. f!  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 8*"rZh}'  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 =I{S;md  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 u'{sB5_H  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) CVi<~7Am\  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 Z|f^nH#-C  
    .Pqj6Ko9  
    %9cqJ]S  
    "P9wT)J_  
    文件信息 $d5&~I  
    `z5v}T  
    eDvXU_yA  
    /o~ @VF:  
    &xF4p,7  
    QQ:2987619807 O7E;W| ]  
     
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