-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2024-04-30
- 在线时间1246小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 \&%y4=y<sE ^p #bxN") VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 F#\+.inO \AB*C_Ri wHhIa3_v 0:k
MnHn\ 介质目录中的斜光栅介质 %v1*D^)) M9sB2Ips< gd\b]L?>O xT3l>9i 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 J~rjI24 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 ~dj4Q
eu -;o`(3wZq 斜光栅介质的编辑对话框 WevXQ-eKm u=p-]? uB uwE6 v@E/?\k" 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 .FAuM~_99b 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 U})Z4>[bvt 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 mnWbV\ VY 斜光栅介质的编辑对话框 "J6aU Z8 _QKw> 0_5j( -)ag9{ * 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 H)&pay 以下参数可用: h ^6Yjy - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) rSfvHO:R
- z扩展(沿着z方向测量光栅高度) az ?2 - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) k/ ZuFTN - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) 2Md'<. P&@[ j0 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 #ZRplA~C7] !56gJJ-r 斜光栅介质的编辑对话框 xiPP&$mg lhA<wV1-9G (e;9,~u) Z"fnjH 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 :Gz# 4k 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 y3O Nn~k /8` S}g+ 斜光栅介质的编辑对话框 a/wkc*}}/ }3Y3f).ZW 61J01(+| ^f,('0p-> *?+maK{5+ 首先,必须选择涂层材料。 \ns#l@B 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 ^vJ PeoW 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 o2ndnIL =R^V[zTn_ 斜光栅的编辑对话框 }hFjl4`xa IPl>bD~=p B94mh F62arDA G'z&U?Ng 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 T@]vjXd![ 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 oWpy^=D_ 15r<n 堆栈使用的评论 VB 8t"5 ]*^mT&$7 -9U'yL90B 'Z7oPq6 %xR;8IO 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 0rT-8iJp4P 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 N2}].} 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 }@OykN 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 2D
MH@U2 d*1@lmV* 斜光栅介质的采样配置 .l*]W!L] (G"b)"Qum 斜光栅介质采样 >;QkV6i7 {P(Z{9 u% q01zN:|-1 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 6[c
LbT0 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 \nx^=4*yk 在右边,显示了介质的预览。 FQ?H%UcW 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 |n=kYs ^?toTU A
A<9XC $Kb-mFR 采样斜光栅#1 T |'Ur# n\*>mp) ,US~p_M! _e8@y{/~Fd 采样斜光栅#2 _:M6~XHo _ZD)#? _QBd3B% P}&7G- 采样斜光栅#3 !U,qr0h .rG Rdb g=b[V
[CRy>hfV 采样斜光栅#4 xHykU;p@ ;b
cy(Fp,\ N iNZh; 2;[75(l6|} 文档信息 wXXv0OzK N_q7ip%z vT%rg r }
%S1OQC yql+N[ QQ:2987619807 *M+:GH/5
|