-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2024-05-17
- 在线时间1264小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 w&H>`l06
uq]=L VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 7fypUQ:y 9<rs3 84 u|wl;+. T^^7@\vDI 介质目录中的斜光栅介质 Rp2h[_> G_=i#Tu[ q'S[TFMNE UucX1% 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 vh.8m$, 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 :7X4VHw/ 0@?m"|G 斜光栅介质的编辑对话框 oX^N>w0F $A~aNI s2,6aW C cu1!WD 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 p,z>:3M 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 m#W XZr 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 *P\lzM 斜光栅介质的编辑对话框
P'B|s/) S}Wj.l+F &I
~'2mpk x_O:IK.> 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 r
ts2Jk7f 以下参数可用: x$jLB&+ICz - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) DW,ERQ^ - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) F\&wFA'J - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) =4+2y ' - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) 7)D[ }UXz rhOxyY0 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 @>VX]Qe^X &jEw(P&_ 斜光栅介质的编辑对话框 ?i0u)<H |^Yz*r?BJ Tr>_R%b K <
`;Mf>V 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 Wx#l}nD 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 m~=VUhPd %ho?KU2j 斜光栅介质的编辑对话框 N4qBCBr( %Qj$@.*:
+Goh`!$Rj9 _0
43, L}Sb0 o. 首先,必须选择涂层材料。 LsGO~EiJ 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 t^Bs3;E^ 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 A]QGaWK B:i$ 斜光栅的编辑对话框 |Z>}#R!,P WllQM,h ,^1 #Uz8 4VF]tX?o cfBlHeYE 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 4+>~Ui_# 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 6&i])iH u*\QVOF 堆栈使用的评论 bly `mp8# sw1gpkX J7WNgl%
u [KGj70|~ ,
DuyPBAms 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 r;(^]Soz 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 _o?aO C 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 ulg= ,+%r 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 0%rE*h9+ 6e,IjocsB 斜光栅介质的采样配置 ]GHw~s? DcRoW 斜光栅介质采样 oKkDG|IE ~.e~YI80 \qW^AD(it< 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 yHf^6|$8 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 S_AN.8T 在右边,显示了介质的预览。 u1'l4VgT 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 NP\/9
8|1 /&=y_%VR UY *Z`$ ;x|?N* 采样斜光栅#1 6ypHH
2X F`gK6;zp c.-dwz z6qx9x|Ij 采样斜光栅#2 nYC S %\" \,nhGh iH)vLD W^,p2 采样斜光栅#3 h|z59h&X8G P|f h4b4 <gvgr4@^yR %gqu7}' 采样斜光栅#4 {9F}2
SJ ucLh|}jJ5 D_z&G) :Ef$[_S> 文档信息 44B9JA7u
@[$q1Nm >Zm|R|{BE 8"wavh|g4 Z2]\k|%<Fa QQ:2987619807 >I/~)B`jhE
|