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    • 光学手册（上、下册，李景镇） 光学元件微纳制造与精密检测技术 京东6.18购物红包，每天领三次！ 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 MCU9O  
    T4r5s  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 :}9j^}"c3  
    #)] c0]p  
    62kb2C  
    %LQ/q 3?_  
    建模任务 >vujZw_0>  
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    w!`Umll2  
    概观 xmr|'}Pt[  
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    }fA;7GW+9  
    光线追迹仿真 =nU/ [T.  
    ZJ(rG((!  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 eN/G i<  
    i2PZ'.sL  
    •点击Go！ Y)M8zi>b  
    •获得3D光线追迹结果。 _ 08];M|  
    3.vgukkk5  
     Hm9<fQuM  
    nbmc[!PwG  
    光线追迹仿真 G{b:i8}l  
    PAZ$_eSK6  
    S&?7K-F>_o  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 kdcQw7G  
    •单击Go！ `#6x=24  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     9y^/GwUQ  
    ?`AGF%zp  
    SRL-Z&M  
    <I2z&  
    场追迹仿真 Mo^`\ /x!  
    ^$Krub{|  
    6)[< )?A.[  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 /P+q}L %  
    •单击Go！     gyu6YD8L  
    H}nJbnU  
    o8z)nOTO;  
    8S  U%  
    场追迹结果（摄像机探测器） 7[KCWJ  
     &q>zR6jne  
    ue0s&WF|  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 E5UcZ7  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 B?6QMC;  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 u~F~cDu  
    v0@)t&O  
    R1%y]]*-P  
     AyVrk 8G  
    场追迹结果（电磁场探测器） 4tJa-7  
    ddDS=OfH  
    ({[,$dEa;  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     Gvx[ 8I  
    K+),?Q ?.p  
    T~k)uQ  
    文件信息 DDw''  
    )`?%]D  
     N.hzKq][  
    n&!+wcJ;Yt  
     gx;O6S{  
    QQ：2987619807 tZho)[1  
     
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