如何分析部分
干涉成像系统 （光刻机系统）
S}E@*t2 h U
DG _APf 在光刻应用中，所使用的
光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模?
?8 F7BS4oQ 在这里给大家分享一个案例， 希望可以帮到大家。
)".gjW8{#L i=4bY[ y oCr n 这里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作：
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ r4s R5p]| *)1 ,W+A5L 这里是案例的ZEMAX
文件： 备注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本过低，可能无法正常打开， 请谅解！
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n" 如果不能打开文件， 请告知我， 我转发给你。
`uj`ixcR Ub$$wOsf 回帖是对我分享的一个鼓励， 谢谢回帖！
