如何分析部分
干涉成像系统 (光刻机系统)
=&
.KKr uy^vQ/ 在光刻应用中,所使用的
光源不是完全相干的,如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模?
{3{cU#\QA 在这里给大家分享一个案例, 希望可以帮到大家。
3A>Bnb 2N$yn g<&n V>wF 这里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作:
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ GN%|'eU EA+}Rf6} 这里是案例的ZEMAX
文件: 备注: 我用的ZEMAX 是20年版本, 如果您版本过低,可能无法正常打开, 请谅解!
)r^)e4UI e;ej/)no` 如果不能打开文件, 请告知我, 我转发给你。
w;Jby nNJMQb'K 回帖是对我分享的一个鼓励, 谢谢回帖!