1. 摘要
#F!Kxks l x e`u}[ 高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
09d9S`cS\ T6uMFD4 | 'd/*BjNp) 0oSQY[ht/ 2. 建模任务
v5T`K=qC xIL#h@dz H-,TS^W P$ucL~r 3. 概述
J=iRul^S q>-R3HB 示例
系统包含了高
数值孔径物镜 1[-vD= 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
qfYG.~`5 3+>OGwfQ fQU{SjG Uyk,.*8" 4. 光线追迹仿真
Qdu$Os u1^\MVO8 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
Blk}I 点击“Go!”。
6{=_718l` 随即获得3D光线追迹结果
Pu;yEh c<4F4k7 l^W uS|G[ E(4w5=8TI 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。
6+3 $:? 点击“Go!”。
ubbnFE&PD 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
:Fe_,[FR {x{H$ f TQc@lR! E^wyD-ii/ 5. 场追迹仿真
gn)R^ pOA!#Aj) 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
".P){Dep$4 点击“Go!”。
|4mVT&63( q]FBl}nwl% uel{`T[S P:k+ y$ 6. 场追迹结果(相机探测器)
SK
R1E];4 LZ<[ll#C {@.Vh] 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
"0Q1qZ 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
U~H?4Izl= (3;@^S4&w "=A>}q@;H 7. 场追迹结果(电磁场探测器)
"9XfQ"P 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
5=L} \ankn h@1!T |=K_F3aJ hXB|g[zT 8.
文件信息
fS=hpL6]@ (Rd$VYuf >jTp6tu, E[g*O5 更多信息
FTf<c0 0*F}o)n/m 42+#<U7T (来源:讯技光电)