切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 2059阅读
    • 0回复

    [原创]扩展DOE面型设计（曲面基底） [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线asdoptics
    工程师
     
    发帖
    311
    光币
    2493
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-04-04
    E  *{_=pX  
    SYNOPSYS提供了多种DOE设计面型：如简单DOE，扩展DOE面型，三层DOE设计，两层DOE面型设计等等，这里显示的曲面基底的DOE设计。 D~7L~Q]xI  
    详细可以参见软件的用户手册USS面型25：Extended Simple DOE |J^$3RX  
    案例如下： > PONu]^  
    RLE Y@Ti2bI`v  
    IDUSS 25 TEST C,nU.0  
    OBB0 1 10 n+:}p D  
    UNIMM Wtqv  
    WAVL.5 w~}.c:B  
    }WEF *4B!  
    1TH 1 GTB S S)vNWBO  
    BK7 IHvrx:7  
    2YMT 0 ^ 9FRI9?  
    tW} At  
    1USS 25 6;#Rd|  
    CWAV.5 B dKD%CJ[  
    1XDD 1 5 m! _*Q  
    x0$#8  
    3 R>dd#`r"  
    END
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表