切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 京东双十一活动红包购物券领取 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) ZEMAX光学系统设计实战
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 光学设计与光学元件 CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 1665阅读
    • 0回复

    [原创]扩展DOE面型设计（曲面基底） [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线asdoptics
    工程师
     
    发帖
    311
    光币
    2464
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-04-04
    {1>V~e8t  
    SYNOPSYS提供了多种DOE设计面型：如简单DOE，扩展DOE面型，三层DOE设计，两层DOE面型设计等等，这里显示的曲面基底的DOE设计。 j#9p 0[  
    详细可以参见软件的用户手册USS面型25：Extended Simple DOE c*9RzD#Zj  
    案例如下： FG38)/  
    RLE TfDx> F$  
    IDUSS 25 TEST <hkg~4EKc  
    OBB0 1 10 a RC >pK.  
    UNIMM tb/bEy^  
    WAVL.5 J}hi)k  
    Nf%jLK~  
    1TH 1 GTB S KaZ*HPe(  
    BK7 `)*   
    2YMT 0 c&e?_@} |  
    ^EN_C<V;"d  
    1USS 25 gk"S`1>  
    CWAV.5 kZBIXW,G  
    1XDD 1 5 , pq<.?&E  
    nG1 mx/w  
    3 l&dHH_m3  
    END
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表