Zemax OpticStudio 19.8 现已发布！ :-Pj )Y{I 新增功能介绍 D.!4i.)8} 1 序列模式工具与分析 }FXRp=s 1.1 高良率优化（仅订阅版中的专业版和旗舰版） Ua]zTMI 使用这项突破性技术使您的设计更易生产！ E kX6> mo OpticStudio 19.8中新的优化功能使您能在正常设计中降低设计敏感度，新功能针对订阅授权的专业版和旗舰版。由Ken Moore1 提出的新的优化方法主要尝试降低加工误差和装调误差。高良率优化作为新的部分被加入到优化向导中。如下图1.1.a所示在评价函数编辑器中使用操作数HYLD构建并计算评价函数。 K"1J 1>CHQ 
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图1.1a 优化向导中使用高良率优化
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提升生产良率优化是优化一个需要生产的系统时新的推荐使用的优化方法。通过使用高良率优化，您可以显著减少公差分析时间，一次就能创建可生产的设计！ <'-me09C*
在序列优化向导中可以找到新的高良率优化功能。如下图1.1b所示，优化向导可以从优化选项卡开启或者在优化函数编辑器中展开优化向导与操作数。 7d)aDc*TjW
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图1.1b 优化向导中高生产良率选项的位置
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图 1.2.a 场曲/畸变图中的SMIA-TV畸变选项
f/y K|[g~ 1.3 视场数据编辑器增强功能（所有版本） (
~>Q2DS 现在可以在视场数据编辑器中使用变量和其他求解类型 F'I6a E% 为了简化变量和视场求解设置的流程，同时也为了与其他编辑器的设置方式保持一致，视场数据编辑器现在也支持设置变量和求解类型。这个功能与镜头数据编辑器和多重结构编辑器中设变量与求解的功能一样，如图1.3.a所示。 hd~rC*I 
O^#u%/ 图 1.3.a 视场数据编辑器中的变量和求解类型
@jHio\/_ p B./L&h 2 编程 yKJ^hv"# 2.1 新的ZPL关键字： $NEWLINE() （所有版本）
wk#QQDV3|0 轻松将从ZPL 的文字输出分段 u W T[6R 现在您可以使用关键字NEWLINE输出文字到新的一行。这个功能对于在系统选项的标题/注释选项卡中添加文字到注释部分十分有用。
TE~@Bl;{?c GN0'-z6Uy 2.2 新的ZOS-API案例：旋转和偏心元件（仅限专业版和旗舰版）
v knFtpx 新的ZOS-API案例来展示如何旋转和偏心元件 UZra'+Wb 有了全新的内建于ZOS-API语法帮助
手册里的案例，使用API来倾斜和偏心元件的操作比以往任何时候都更简便了。该新案例为“Example 07: Tilt and Decenter Elements”。
*$VurqLn M6 iKl 3 可用性
6qlr +f 3.1 存档
文件（所有版本）
GHY>DrXO1u 现在保存和打开存档文件更简便 ;^]A@WN6_ 现在可以通过文件选项卡中的另存为对话框和打开对话框保存或者打开存档文件。
_=5ZB_I 1tdCzbEn+ 3.2 局部到全局作标系工具（所有版本）
3iw9jhK!W 从局部坐标转换到全局坐标时移除求解 $nn5;11@gY 使用局部到全局坐标系转换工具时，现在加入了移除求解的选项。该工具位于镜头数据编辑器的工具条中。
Z.pw!mu" z7C1&bGe 更多OS 19.8版本的信息，请访问 OpticStudio 19.8 版本说明 。 x(=x;X$[^
