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    [求助]MgF2预融速率过大会不会产生膜料点子的情况?产生膜料点子和脏点子情况有哪些呢? [复制链接]

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    离线misery_
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2019-09-16
    MgF2预融速率过大会不会产生膜料点子的情况?产生膜料点子和脏点子情况有哪些呢?玻璃膜料点子多,这种情况如何解决的?
     
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    离线1111111111
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    只看该作者 1楼 发表于: 2019-09-17
    降低挡板的高度,MGF2不预融,用电子枪蒸镀,点子也还可以啊。
    离线ouyuu
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    只看该作者 2楼 发表于: 2019-09-18
    点子原因非常多,可以说真空室内任何一个机构都有可能形成点子。
    离线士官长
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    只看该作者 3楼 发表于: 2019-09-28
    预熔时候如果不开挡板应该不会导致点子,开挡板时的速率是最好和设定速率差不多。
    离线ouyuu
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    只看该作者 4楼 发表于: 2019-09-30
    刚才回复他人帖子时候想到一个可能性。 v3XM-+Z4  
    予熔设定的电流过低或者过高,导致开挡板瞬间电子枪调整剧烈的话,也会有喷溅产生。
    在线wflney
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    只看该作者 5楼 发表于: 2019-12-29
    赞同四楼的说法
    离线xiezhizhi
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    只看该作者 6楼 发表于: 02-01
    设备用了多久了 Iapz,nuE  
    离线morningtech
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    只看该作者 7楼 发表于: 02-01
    版主说的有道理。束流急剧变化,确实易产生点子。 ZcyGLg0I  
    预熔;大光斑,低束流,功率慢变(调小P值),调小最大功率。 }58MDpOF1  
    膜林晶控仪的最大功率延迟,出发点就是防止开挡板后的束流剧变,对防喷溅有点点帮助。
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