OM分析失效分析

主要用途 e9F+R@8  
rB =c
  
样品外观、形貌检测。 bM,%+9oz;  
>b*}Td~J  
L3S29-T  
性能参数 ;%/}(&E2  
Q-e(>=Gv_  
a)总放大倍数为50x-1000x；
9KU3)%U  
SG)|4$"  
b)目标Z空间：0-25mm； hC!8-uBK5<  
;3=RM\  
c)具有明场、高级暗场（ADF）、偏光（其中检偏器可旋转360°）、微分干涉观察功能和预留功能位置，功能转换方便，增减功能操作简捷； #%/0a  
S2V+%Z _J  
d)具备记录光口，可安装数码采集、视频输出等多种记录及输出方式 Gbb*p+(  
1:Raa5  
kc[<5^b5  
[TmZ\t!5$  
应用范围 {UuSNZ[^  
T\TKgO=)  
主要应用于制备样片的金相显微分析及各种缺陷的查找。