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    [讨论]关于电子枪与晶控系统之间的关系问题 [复制链接]

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    离线qqcheng
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2019-07-14
    关键词: 晶控电子枪
    假定我们在晶控系统中常有设置材料输出功率上限和速率一说,但是但实际镀膜过程中我们会看到例如材料蒸发到一定厚度,会有钻坑,这时要稳定原来的速率也不知道是不是晶控系统受到反馈,从而自动提高输出功率,1.晶控系统的速率设置是否直接自动时时控制电子输出功率;2.那么假定电子枪时时输出功率并不稳定,排除电子枪方面问题是不是可以理解为晶控系统方面问题。
     
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    离线morningtech
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    只看该作者 1楼 发表于: 2019-07-15
    晶控仪测量速率,并且只能通过调节功率来调整速率(PID)。(调节功率来调整沉积速率,容易理解和实现。) Z\|u9DO  
    而无视光斑、扫描、材料多少、真空度等工艺参数,因为晶控仪还没有调整这些参数的手段和方法。 uS,p|}Q&  
    光斑位置,扫描频率和幅度,材料蒸发有什么特点、能做多厚膜,材料减少过程中坩埚状态会有哪些变化等等,合理设置最大功率、最大镀膜时间等参数,保护电子枪和坩埚。这些目前都是工艺人员要掌控的参数。 5>ADw3z'  
    Ns.3s7&  
    自动情况下,一般是晶控仪的功率输出(模拟量,如0~10V,在界面上显示百分比功率)直接接到控制电子枪、阻蒸等的功率控制部分。也有间接连接,最后相当于直接控制。 i5 L:L  
    _oJ2]f6KX  
    膜林晶控-专业晶控仪生产研制商
    离线qqcheng
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    只看该作者 2楼 发表于: 2019-07-16
    回 morningtech 的帖子
    morningtech:晶控仪测量速率,并且只能通过调节功率来调整速率(PID)。(调节功率来调整沉积速率,容易理解和实现。) g-."sniP$g  
    而无视光斑、扫描、材料多少、真空度等工艺参数,因为晶控仪还没有调整这些参数的手段和方法。 A)8rk_92Q  
    光斑位置,扫描频率和幅度,材料蒸发有什么特点、能做多厚膜,材料减少过程 .. (2019-07-15 19:59)  /^w"' '  
    o;3j:# 3 |  
    谢谢您的回复,想了想假设参数条件正常,现观测到速率曲线不稳定,同时输出功率也在波动,那么想必蒸发此材料电子枪输出功率势必也是在不断调整中,那么问题来了,也就是您所说的有上述原因,因为不可控因素,故只能合理变向改善工艺已及根据材料特性作出对结果有利的参数
    离线morningtech
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    只看该作者 3楼 发表于: 2019-07-16
    有些因素不是不可控,只是对晶控仪来说不可控。 sNL+F  
    沉积速率不稳定的原因,有很多方面。 StEQ -k  
    既有前述一些晶控以外的原因,晶控系统自身也存在原因: <z,+Eg  
    晶振片选择、探头清洁、安装、冷却、使用情况(如新旧)。PID参数,甚至晶控仪自身老化。都是原因。 9*' &5F=  
    另一方面,速率稳定是相对的,10%以内变化一般可以接受。 +|6`E3j%  
    膜林晶控-专业晶控仪生产研制商
    离线ouyuu
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    只看该作者 4楼 发表于: 2019-07-17
    能调的也就晶控的PID参数了。 )`^ /(YG  
    你的情况,如果没法用大一点的坩埚,那只能分两个坩埚镀膜了。 :WVSJ,. !  
    离线qqcheng
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    只看该作者 5楼 发表于: 2019-07-19
    确实因素多,忽然想起您说的离子源问题对晶控有影响,这也是光控的好处。以实际情况排查是最可靠的,遇到过因冷却情况的,还有晶控线针头式接触的,贪图低价货晶振片划痕,针孔的,频率降的极快。对了,您能给个联系方式我吗?
    本帖提到的人: @morningtech
    离线qqcheng
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    只看该作者 6楼 发表于: 2019-07-19
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    ouyuu:能调的也就晶控的PID参数了。 |<c WllN  
    你的情况,如果没法用大一点的坩埚,那只能分两个坩埚镀膜了。 B(,:haAr  
     (2019-07-17 23:09)  +TSSi em  
    pW|u P8#  
    嗯,您说的也对
    离线morningtech
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    只看该作者 7楼 发表于: 2019-07-19
    回 qqcheng 的帖子
    qqcheng:确实因素多,忽然想起您说的离子源问题对晶控有影响,这也是光控的好处。以实际情况排查是最可靠的,遇到过因冷却情况的,还有晶控线针头式接触的,贪图低价货晶振片划痕,针孔的,频率降的极快。对了,您能给个联系方式我吗?[表情]  (2019-07-19 04:54)  (K<9h L+X  
    8dO?K*J,H'  
    晶控首先是观察者,然后才是控制者。观察过程受干扰的因素很多。现场分析排查。 {hdPhL  
    B\CN<<N>dD  
    联系方式可以去我公司网站找到,百度膜林科技即可,此处不方便留。 ',=g;  
    \".^K5Pm  
    膜林科技-专业晶控仪研制商。
    离线morningtech
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    只看该作者 8楼 发表于: 2019-07-19
    回 qqcheng 的帖子
    qqcheng:嗯,您说的也对 (2019-07-19 04:59)   iThSt72  
    gzn^#3b  
    版主可不是浪得虚名。呵。
    离线wflney
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    只看该作者 9楼 发表于: 2020-05-11
    厚度厚的层分锅镀制