Zemax OpticStudio 19.4 现已发布! )hGRq'WA= *yN+Xm8o 在OpticStudio 19.4 中,ZPL编程界面新增了关键词搜索
功能,ZOS-API中现已支持提取颜色
探测器、
材料库以及几何
图像分析等分析数据,进一步扩展了OpticStudio编程的灵活性。在OS序列模式中新增加了CodeVTM文件导入工具,全面支持Binary 2和Zernike Fringe等面型的数据导入。此外在新版本中进一步扩展了格点矢高
优化 (Grid Optimization) 工具的实用性。
<5%x3e"7u sOhQu>gN 全新授权管理器 {*RyT.J OpticStudio 19.4 推出全新授权管理器,极大地改进了授权的激活、转移、管理和故障排除等相关进程。全新授权管理器具有便捷的选项卡,将根据您所需要进行的操作,直接提供给您相关性最高的
信息。您可以点击合适的列标题排列您的授权,例如按授权
序列号、服务期日期或产品类型进行排列。当按照产品类型排列授权时,用户可以简单地选择是否与某一OpticStudio或LensMechanix授权进行交互。与此同时,故障排除选项卡可快速将用户链接至恰当的资源内,极大地加速了授权问题解决的操作。
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?}o t:B~P,r \dO9nwa? ZPL宏编辑器内搜索功能 TcPYDAa 如今,您可以通过ZPL宏编辑器内的文本搜寻按钮,便捷地进行ZPL脚本语句搜索。在加速您对较长的宏
文件编写和编辑的同时,方便了您对拼写错误的查找。
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