Zemax OpticStudio 19.4 现已发布！ raB', Vp T<K/bzB3z 在OpticStudio 19.4 中，ZPL编程界面新增了关键词搜索
功能，ZOS-API中现已支持提取颜色
探测器、
材料库以及几何
图像分析等分析数据，进一步扩展了OpticStudio编程的灵活性。在OS序列模式中新增加了CodeVTM文件导入工具，全面支持Binary 2和Zernike Fringe等面型的数据导入。此外在新版本中进一步扩展了格点矢高
优化 (Grid Optimization) 工具的实用性。
]r(s0 2 @Avve8S 全新授权管理器 +$
0wBU OpticStudio 19.4 推出全新授权管理器，极大地改进了授权的激活、转移、管理和故障排除等相关进程。全新授权管理器具有便捷的选项卡，将根据您所需要进行的操作，直接提供给您相关性最高的
信息。您可以点击合适的列标题排列您的授权，例如按授权
序列号、服务期日期或产品类型进行排列。当按照产品类型排列授权时，用户可以简单地选择是否与某一OpticStudio或LensMechanix授权进行交互。与此同时，故障排除选项卡可快速将用户链接至恰当的资源内，极大地加速了授权问题解决的操作。
]T1\gv1 ~ o ^Ro 54i ECr}7R% LV`tnt's ZPL宏编辑器内搜索功能 9UE)4*5 如今，您可以通过ZPL宏编辑器内的文本搜寻按钮，便捷地进行ZPL脚本语句搜索。在加速您对较长的宏
文件编写和编辑的同时，方便了您对拼写错误的查找。
J @^Ypq ((mR' A|` 1Y(NxC0P=g *8I &|)x 通过ZOS-API查看非序列光线追迹中的能量损耗 2d JP|T9H 如今，可利用ZOS-API获取非序列光线追迹中由于追迹错误和阈值造成的总能量损耗信息。这些信息如同下图界面中所显示的一致：
(u-eL# @ agp7zw=N .1A/hAdU V&Q_i E 更多OS 19.4版本的信息，请访问
OpticStudio 19.4 版本说明。
