[求助]塑胶镜片RF离子源辅助镀膜参数问题 [复制链接]

设备  OTFG1300    17cm RF源  电子枪，镀膜材料及IAD参数：OS-50(BV 400v,BI 550mA    / 硅铝混合物(BV:300V,BI 450mA) 0G2g4DSKD  
目前环测无问题，但85℃水煮15-20分钟就会膜层脱落明显低于霍尔源所做产品，且强光照射1000小时膜层脱落，环测条件如下： yRYWch  
1、高温高湿存储：70℃；90+/-5% RH ；72H. 1lnU77;  
2、高低温冲击：50次；-40℃~100℃； f0LP?]  
T1=T2=0.5H（恒温时间）T3=5min（温度切换时间） *X38{rj  
3、高温烘烤：100℃，24H =)OC|?9C\  
环测后不可出现膜裂，脱膜和其他膜层异常现象； h !(>7/Gi  
环测前后需符合镀膜附着力测试要求：同一位置分别用3M胶带贴紧 m2Uc>S  
并迅速撕开重复三次无膜脱落 Y3ZK%OyPR  
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求助有没有朋友使用过此机台做过塑胶镜片，交流下离子源参数

硅铝不开离子源试试

这种条件就该用霍尔源做。 <2P7utdZ   
镀膜前先用离子源轰击一下， rvwy~hO"  
然后氧化铝打底， (3EUy"z-  
离子源电压稍微高一点，电流开最大。 ".2A9]
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以片子不变形为限

我这里最近也在做这个实验，H4 SIO2   6层膜  H4打底，且H4层都比较薄。  会出现膜裂情况，而且膜裂几率挺高的。   6d{j0?mM  
镀膜温度80℃。  是不是得换下试料，或者降低温度？  温度越高 结合力越好？

听人说树脂镜片，  镀膜设备要配CP。  我的机器配的DP，我这正抽空做实验了。

sosjinyan:我这里最近也在做这个实验，H4 SIO2   6层膜  H4打底，且H4层都比较薄。  会出现膜裂情况，而且膜裂几率挺高的。   \cFAxL(  
镀膜温度80℃。  是不是得换下试料，或者降低温度？  温度越高 结合力越好？ (2019-04-30 17:03)  hxP6C6S  

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如果不掉膜只是裂应该是应力问题，考虑换材料和调整蒸发参数，树脂片一定要IAD的

ouyuu:这种条件就该用霍尔源做。 D'U\]'.  
镀膜前先用离子源轰击一下， Fj[ dO&  
然后氧化铝打底， Yj|c+&Ng  
离子源电压稍微高一点，电流开最大。 2b{@
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以片子不变形为限 (2019-04-27 22:01)  +_vm\]4  

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谢谢！我先试下，但根据以往测试发现霍尔源做的产品耐高温性能差一些

zm8339:硅铝不开离子源试试 (2019-04-24 17:06)  'e
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不开试过了，没有发现明显差异，倒是加大低折射材料的离子束能量有改善，怀疑还是应力匹配的问题

hl594566271:如果不掉膜只是裂应该是应力问题，考虑换材料和调整蒸发参数，树脂片一定要IAD的 (2019-05-08 17:05)  "k@/Z7=  

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多谢， 准备换ZRO2。我了解的一个公司，树脂镜片工艺，用的CP泵，没用离子源。 想问问不用离子源，影响大吗？   我的机器倒是配了，霍尔离子源，但是非常不好用，镀10锅（AR膜），枪丝就断了。 我感觉枪丝使用时间太短了。 %R5MAs&-5  

sosjinyan:多谢， 准备换ZRO2。我了解的一个公司，树脂镜片工艺，用的CP泵，没用离子源。 想问问不用离子源，影响大吗？   我的机器倒是配了，霍尔离子源，但是非常不好用，镀10锅（AR膜），枪丝就断了。 我感觉枪丝使用时间太短了。 {F[
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 (2019-05-15 11:15)  N<WFe5  

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不开影响挺大的，折射率、附着力都会差一点。霍尔源的阴极灯丝只能用那么久，定期更换就行了