介绍
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要
模拟的关键部件是来自参考文献[1]的线性锥形硅波导(160 nm至500 nm宽度变化超过100 um长度,250 nm高度),它埋在二氧化硅波导中(注意:使用的尺寸减小了(1.5 umx1.5 umx105 um),以便达到更快的模拟时间)
Ax@7RJ|| 为了精确模拟线性锥形硅波导,锥形的网格尺寸应该要设置密度大一些,因此在这种情况下使用不均匀的网格。
(C`nBiL< 光源在时域中设置为CW(λ= 1.55 um),在空间域上设置为高斯横向分布,并且位于二氧化硅波导的硅纸尖端。
$'!n4}$} 注意:模拟时间应足够长,以确保稳态结果
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;Bo3^_ *j1Skd.#At wLO"[, [1] Jaime Cardenas, et al., “High Coupling Efficiency Etched Facet Tapers in Silicon Waveguides,” IEEE Phot. Tech. Lett. VOL. 26, NO. 23, 2380-2382 (2014)
=:R${F [2] Vilson R. Almeida, et al., "Nanotaper for compact mode conversion," Opt. Lett. 28, 1302-1304 (2003);
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}7fzEo`g 3D FDTD仿真
r}|)oG,= W S9:*YH 要模拟的关键部件是来自参考文献[1]的线性锥形硅波导(160 nm至500 nm宽度变化超过100 um长度,250 nm高度),它埋在二氧化硅波导中(注意:使用的尺寸减小了(1.5 umx1.5 umx105 um),以便达到更快的模拟时间)
Q>w)b]d~c 为了精确模拟线性锥形硅波导,锥形的网格尺寸应该要设置密度大一些,因此在这种情况下使用不均匀的网格。
p ~+sk1[. 光源在时域中设置为CW(λ= 1.55 um),在空间域上设置为高斯横向分布,并且位于二氧化硅波导的硅纸尖端。
Ft :_6T% 注意:模拟时间应足够长,以确保稳态结果
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[cS Fo
,8"m <0l:B;3 仿真结果
wt_ae|hv \0qFOjVj JiA1yt /<O9^hA| 顶视图展示了锥形硅波导的有效
耦合。
@JP6F[d 5*B'e{C 底部视图显示了不同位置的模式转换(左:25 um,中间:65 um,右:103 um)
x<d ew `q\v~FT &Dp& [a^<2V!vMn (来源:讯技
光电)