【官方培训】2018年 Zemax成像与高级成像培训_11月上海站

发布:zemax官方 2018-09-11 16:24 阅读:6260
Zemax成像设计培训课程 & 高级成像设计培训课程     %PQldPL8  
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Zemax中国将于 2018 年 11 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加!   ur/Oc24i1n  
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主办:Zemax China       0M#N=%31  
时间:成像设计:2018年11月26~28日     |     高级成像设计:2018年11月29~30日       tSEA999  
地点:上海   ; @ 7  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   #joF{ M{  
V.K70)]  
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课程安排: ojN`#%X  
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成像设计 yD"]{  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 u{g]gA8s  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍;   -;+m%"k5  
材料库、镜头库介绍;   5"1!p3`\D{  
如何定义新材料;   DgDSVFk ~  
如何使用镜头库;
MTF;   /\TQc-k?2  
双高斯镜头设计及优化;   'is,^q:@  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用;   nnfY$&3A  
寻找最佳非球面;   #C"7 l6'a  
曲率套样板;   g/OI|1a  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍;   Z -pyFK\  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换;   +DicP"~*  
坐标断点面的使用技巧;   f|X[gL,B  
序列模式棱镜建模;   D",A$(lG  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能;   i Bi7|  
加工误差、装配误差;   pt=7~+r  
灵敏度分析;   y!S^xS  
反灵敏度分析;   |*%/ovg+  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化;   D4AEZgC F,  
局部优化;   zTkFX67)  
全局优化;   D35m5+=I  
锤形优化;   z8g=;><  
优化函数架构技巧;   hbV E; 9  
透镜优化实例;   IKvd!,0xf  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例;   <Cu'!h_nL  
投影系统设计;   K1;z Mh  
集光系统设计;
公差评价标准;   La\Q'0  
公差操作数;   Mx^y>\X)v  
补偿变量的使用;   2y^U k,g  
单透镜公差分析;   Er`TryN|}  
库克镜头公差分析;   W7%p^;ZQ$  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   n49;Z,[~  
实例设计及分析;   fG<Dhz@  
小结及答疑;
暗盒系统介绍;   xy2\'kS`G  
小结及答疑;
公差脚本的使用;   Dz,uS nnm  
镜头出图、CAD出图;    W|lH   
小结及答疑
高级成像设计 /^d. &@*  
在初阶成像课的基础上,用2天时间深入介绍OpticStudio成像系统分析优化逻辑,通过实例介绍非球面、自由曲面的设计,并介绍高级公差分析技巧。该课程需要学员熟悉成像光学原理、熟悉OpticStudio序列模式操作,包括模型建立、优化、坐标间断、公差等。 \.5F](:  
上课时间第1天第2天
9:00-10:30光学设计流程总览;  NI^{$QMj  
案例:扩束镜设计;
衍射算法与像质评价; Z#CxQ D%\  
光偏振与膜层;
10:30-10:45茶歇 w"q-#,37j  
茶歇 S<V-ZV&_:U  
10:45-12:00评价函数与优化向导; L?C\Q^0"`G  
全局优化; OO-_?8I}  
选取解并精细优化;
可制造性与公差分析; pV8[l)J  
案例:双胶合透镜公差及去敏感化; 5$anqGw  
非球面制造与公差;
12:00-13:30午餐午餐
13:30-15:00衍射光学设计:热补偿镜头; hl`u"?rg  
坐标间断:离轴抛物面反射镜设计;
案例:离轴抛物面反射镜公差分析; g&Z"_7L~  
群组公差方法;
15:00-15:15茶歇茶歇
15:15-17:00Q型非球面; b~1iPaIh  
非球面定义转化; yGRR8F5>(  
案例:Chebyshev面离轴三反设计;  "";=DH  
【自学】案例:自由曲面成像棱镜;
案例:Maksutov望远镜公差分析;
^Fn%K].X  
^#2xQ5h  
特色:     '[%jjUU  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;       D2{L=  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;       g- XKP  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;       i)=m7i  
K6-6{vt  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     高级成像设计:3980元/人       cbfD B^_  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;       L"4]Tm>zq  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。       5~QhX22  
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报名方式:       TM)u?t+[  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。       ]}.0el{  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。     WX LK89ev\  
00"CC  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
     ^1R"7h  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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