【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布：zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读：8221
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   5tg  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程，现已正式启动报名，欢迎广大新老客户报名参加！ ^o]ZDc  
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主办：Zemax China     FW:x XK  
时间：成像设计：2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析：2018年09月17~19日     BhkJ >4#  
地点：上海 &AmTXW  
讲师：Heng Li —— Zemax 亚太区工程经理；Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   ^c}Z$V  
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课程安排： 1Tf"<D p  
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成像设计 yc2c{<Ya5  
本课程为3 天中高阶成像设计课程，课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等，及相应的实例镜头、棱镜建模等。 eOjoxnD-$  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍； imAsE;:  
材料库、镜头库介绍； U7.3`qd"  
如何定义新材料； bort2k  
如何使用镜头库；		MTF； l [?o du4  
双高斯镜头设计及优化； OWFLw  
像质评价与图像模拟；		分析工具应用； ywpk\  
寻找最佳非球面； Mf%0Cx `  
曲率套样板； &IM;Yl  
镜头匹配工具；
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍； rIg1]q  
Zemax 像差分析图谱；		坐标变换； _rXTHo7P  
坐标断点面的使用技巧； '<~l% q  
序列模式棱镜建模； _6&x$ *O  
扫描反射镜设计实例；		Zemax公差分析功能； ziR}  
加工误差、装配误差； ~`c?&YixU  
灵敏度分析； Y"~I(,nx!  
反灵敏度分析； tT87TmNsA  
蒙特卡罗分析；
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化； 7.$0LN/a!Z  
局部优化； 3'6%P_S  
全局优化； cj@Ygc)n  
锤形优化； .`& ($W  
优化函数架构技巧； EA9`-xs|  
单透镜优化实例； QWv+J a  
双胶合优化实例；		科勒照明综合设计实例； Zf}]sW$H  
投影系统设计； ulV)X/]1  
集光系统设计；		公差评价标准； twU^ewO&  
公差操作数； r k;k:<c  
补偿变量的使用； yTwv2l;U  
单透镜公差分析； b[Sd$ACd  
库克镜头公差分析； $-m@cObw!.  
分析报告查看说明；
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用；   PI(;t9]b  
实例设计及分析； ~YKe:K+&z  
小结及答疑；		暗盒系统介绍； 1GKd*z  
小结及答疑；		公差脚本的使用； e5_a.c  
镜头出图、CAD出图； cS/\&%7u  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 %Kx:'m%U  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程，将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 z=B*s!G  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹； x?Doe`/6?  
光源与探测器；		案例：背光模组； nIJ2*QJ  
复杂几何模型的建立；		转化序列模式为非序列； 4%1sOnl  
杂散光分析入门；
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础；CAD导入与导出； 1X2MhV  
光偏振与膜层；		表面散射； ?Z= %I$i  
案例：Maksutov望远镜杂散光分析；
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型； >&3M #s(w  
光谱模型； "hi?/B#d  
真彩色数据探测；		物体表面属性； Ql^I$5&  
光线分裂；		非序列模式鬼像分析； 4Tgy2[D?q  
散射指向性与重点采样；
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化：反射抛物面；   wUj[c7Y%  
优化：位图文件优化；		非序列系统设置； =#dW^ ?p  
非序列系统错误排查；		体散射； Ecp]fUQK  
荧光模型
/"?yB$s  
 +<7~yZ[Z8  
特色：     3maiBAOKz  
Ÿ  互动式案例教学，理论实例相结合，指导实际软件操作练习；     G=Hvh=K(  
Ÿ  原厂正版全新教材，提供使用最新版软件最高版本；     \,)('tUE  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书；     .Nz2K[  
 P_6oMR  
培训费用（RMB）：成像设计：5980元/人     |     照明设计与杂散光分析：5980元/人     U;u@\E@2  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票；     |l)SX\Qf`@  
Ÿ  开具6%的增值税发票，开票名称：Zemax技术服务费。     /MYl:>e>  
~``oKiPg@  
报名方式：     z ^t6VFM  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至：china@zemax.com；我们收到邮件后会立即联系您。     RhR{EO  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线：021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   tIfA]pE  
t=o2:p6&  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   QG {KEj2V  
       Zemax销售支持热线：+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线：+86 21 6271-3255
中文支持邮箱：china@zemax.com
地址：上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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