【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7902
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   8(A k  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加!  s-&i!d  
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主办:Zemax China     &@2`_%QtA  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     lD _iIe~c  
地点:上海 xs "\c7pC  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   3z#fFP@E  
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课程安排: ~aL?{kb+  
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成像设计 8jLO-^X<<  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 :N xksL^  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; RzLeR%O  
材料库、镜头库介绍; N a.e1A&?j  
如何定义新材料; xFp9H'j{  
如何使用镜头库;
MTF;  M[R'  
双高斯镜头设计及优化; REk^pZ3B  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; XFww|SG$  
寻找最佳非球面; Fy_~~nI0  
曲率套样板; =_2(S6~  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; y] $- :^  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; n.P $E  
坐标断点面的使用技巧; wG22ffaki  
序列模式棱镜建模; B|;?#okx  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; lgHzI(  
加工误差、装配误差; 0J= $ A  
灵敏度分析; kh>i#9Ie  
反灵敏度分析; f_QZ ql  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; {UhpN"'"n  
局部优化; sNC~S%[  
全局优化; S8]YS@@D   
锤形优化; uv7tbI"r  
优化函数架构技巧; ZQ#AEVI,  
透镜优化实例; lstnxi%x  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; g8Zf("  
投影系统设计; GsE =5A8  
集光系统设计;
公差评价标准; (*!4O>]  
公差操作数; j2%#xZ{33  
补偿变量的使用; ?T[K{t;~jo  
单透镜公差分析; @=l.J+lh  
库克镜头公差分析; P?iQ{x}w~  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   _#o75*42tT  
实例设计及分析; (G{2ec:?  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; NX<Q}3cC  
小结及答疑;
公差脚本的使用; T\T>\&nY+|  
镜头出图、CAD出图; qNbgN{4  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 bLz('mUY  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 V%J_iY/BUb  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; X,+N/ nku  
光源与探测器;
案例:背光模组; 62/tg*)  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; BOW`{=  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; 8';huq@C{  
光偏振与膜层;
表面散射; ]i'gU(+;`  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; y@]:7  
光谱模型; 6J\A%i  
真彩色数据探测;
物体表面属性; \YF'qWB  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; ]B-3Lh  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   x*F_XE1#M  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; YoRD9M~iG~  
非序列系统错误排查;
体散射; D?? \H\  
荧光模型
d7L|yeb"  
+}!FP3KgT  
特色:     [Z+E_Lbz  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     ,6^V)F  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     s!K9-qZl<  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     1`EkN0iZ  
vtf`+q  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     [ST7CrwC  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     >U[YSsFt6  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     NiH.Pv)Oa'  
17;qJ_T)  
报名方式:     2lBfc  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     TInp6w+u  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   fhQ}Z%$  
G!m;J8#m(  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   w,zgYX&  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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