【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7777
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   NR4+&d  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! PL/g| ;  
*1|7%*!8  
主办:Zemax China     djd/QAfSC  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     \DB-2*a"  
地点:上海 a<cwrDZ  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   (b&g4$!x&5  
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课程安排: M0V<Ay\%O  
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成像设计 0At0`Q#  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 (3Db}Hnn  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; <,i4Ua  
材料库、镜头库介绍; K~W(ZmB  
如何定义新材料; Ge^`f<f  
如何使用镜头库;
MTF; 1I Xtu   
双高斯镜头设计及优化; %OQdUH4x  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; JEUU~L;  
寻找最佳非球面; |iM,bs  
曲率套样板; #{i*9'  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; 9&+]YY CS-  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; U4D7@KY +m  
坐标断点面的使用技巧; "Q?+T:D8|  
序列模式棱镜建模; .. `I <2  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; DiJLWXs  
加工误差、装配误差; -|>~I#vY  
灵敏度分析; zsL@0]e&  
反灵敏度分析; *+M#D^qo  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; uibmQ|AQ  
局部优化; U^m#!hp  
全局优化; m2]N%Y  
锤形优化; 09kR2(nsW/  
优化函数架构技巧; @G5T8qwN  
透镜优化实例; f%G\'q]#F  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; EX,>V,.UV  
投影系统设计; q*I*B1p[m  
集光系统设计;
公差评价标准; ^<I(  
公差操作数; k^5Lv#Z  
补偿变量的使用; qO6M5g:   
单透镜公差分析; +nYFLe  
库克镜头公差分析; `TBXJ(Y  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   WzIUHNn'I  
实例设计及分析; DDE-$)lf>  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; +kSu{Tc  
小结及答疑;
公差脚本的使用; p2vN=[g9)  
镜头出图、CAD出图; :So<N}&  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 t.P@Ba^  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 C- .;m  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; O8]e(i  
光源与探测器;
案例:背光模组; `/O`%6,f1!  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; Z?)g'n  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; abo=v<mR  
光偏振与膜层;
表面散射; qb>ULP0  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; (< +A  w7  
光谱模型; 4@9Pd &I  
真彩色数据探测;
物体表面属性; IeYYG^V<A  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; e]4$H.dP  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   'D\X$^J^  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; oE ' P  
非序列系统错误排查;
体散射; nI:M!j5s`  
荧光模型
*.W3V;K  
gAAC>{Wh  
特色:     )Q2IYCj{  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     5B=uvp|Y  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     Xf u0d1b  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     m8sd2&4  
#Oka7.yz  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     __=53]jGE  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     /U;j-m&   
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     U,g8:M xHK  
nPyn~3  
报名方式:     VbX P7bZ  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     VLXA6+  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   / VYT](  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
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       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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