【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7712
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   J5{;+ysUMl  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! Z|t=t"6"  
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主办:Zemax China     @f-:C+(Nsg  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     CXq[VYM&X  
地点:上海 bv4umL /  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   x?L[*N_ml  
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课程安排: T8+[R2_  
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成像设计 D /QLp3+o  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 P<vl+&*  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; @} Ig*@  
材料库、镜头库介绍; !+SL=xy!{  
如何定义新材料; e\6H.9=  
如何使用镜头库;
MTF; M/ 64`lcb  
双高斯镜头设计及优化; JK2{9#*  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; SW9 C 8Q  
寻找最佳非球面; CzBYH   
曲率套样板; PMAz[w,R~  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; d]0:r]e  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; e0(/(E:  
坐标断点面的使用技巧; nI3p`N8j*  
序列模式棱镜建模; GlJ[rD  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; %RD\Sb4YV  
加工误差、装配误差; AMyg>n!  
灵敏度分析; *q6XK_  
反灵敏度分析; -m^- p  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; <1*kXTN(  
局部优化; xUn"XkhP  
全局优化; boojq{cvYA  
锤形优化; 4v_Ac;2m&  
优化函数架构技巧; lrE"phYk  
透镜优化实例; vaeQ}F  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; OJm ]gb7  
投影系统设计; !Q>xVlPVu  
集光系统设计;
公差评价标准; K+~?yOQj  
公差操作数; KPToyCyR1  
补偿变量的使用; JRB6T_U  
单透镜公差分析; Y#@D% a8  
库克镜头公差分析; FGn"j@m0  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   AGFA;X  
实例设计及分析; oL]uY5eZoe  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; :of([e|u6  
小结及答疑;
公差脚本的使用; =K:[26  
镜头出图、CAD出图; q|ce7HnK  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 Sn[xI9}O  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 ;n't:yQW  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; {<{VJGY7T  
光源与探测器;
案例:背光模组; h3 H Udu  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; o<5`uV!f  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; J'2 Yrn  
光偏振与膜层;
表面散射; &>AwG4HW#j  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; Gor 9 &aJ1  
光谱模型; 8oE`>Y  
真彩色数据探测;
物体表面属性; {H/%2  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; {|oWU8.l  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   Bv7FZK3  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; _|\X8o_  
非序列系统错误排查;
体散射; gs1yWnSv5  
荧光模型
G/JGb2I/7|  
^$'{:i  
特色:     5ih>x3S1/  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     Gbhw7 (&  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     (wL$ h5SG  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     \~8W0q.4M  
x:-NTW -g  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     /rpr_Xw}  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     N~]qQ oj,  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     J299 mgB  
Vja 4WK*  
报名方式:     (EcP'F*;;y  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     z*T41;b  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   [C EV&B  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   M IIa8 ;  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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