【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:8252
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   xUF5  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! cz41<SFL  
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主办:Zemax China     &a'mh  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     0i>>CvAl}  
地点:上海 a_ \t(U  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   LlcH#L$  
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课程安排: `PtfPt<{  
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成像设计 (&1 56 5  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 \gGTkH  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; fD*jzj7o ,  
材料库、镜头库介绍; wz{&0-md*'  
如何定义新材料; {#,?K  
如何使用镜头库;
MTF; Hy b_> n  
双高斯镜头设计及优化; f&I5bPS7}  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; 3~\,VO''  
寻找最佳非球面; 5i-VnG  
曲率套样板; (H;,E-  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; bl-D{)X  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; 6f^IAa|  
坐标断点面的使用技巧; t+#vcg,G  
序列模式棱镜建模; 98*C/=^TH{  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; {n{-5Y  
加工误差、装配误差; w7~cY=  
灵敏度分析; YRyaOrl$<  
反灵敏度分析; g*;z V i  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; `Krk<G  
局部优化; zym6b@+jN  
全局优化; MDoV84Fh  
锤形优化; :pLaxWus!  
优化函数架构技巧; 7.tIf <^$P  
单透镜优化实例; oml^f~pm  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; >J_(~{-sNG  
投影系统设计; K}vYE7n:  
集光系统设计;
公差评价标准; m$VCCDv  
公差操作数; ujr"_ofI  
补偿变量的使用; Uka(Vr:  
单透镜公差分析; \.]C`ocD  
库克镜头公差分析; N_E)f  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   &hJQHlyJM0  
实例设计及分析; y$9XHubu  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; U^kk0OT^  
小结及答疑;
公差脚本的使用; ),lE8A{ H  
镜头出图、CAD出图; k54b@U52 h  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 sZ0)f!aH:_  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 9?uU%9r5P  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; Zfd `Fu  
光源与探测器;
案例:背光模组; _QneaPm%  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; H#3Ma1z  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; PY#_$ C  
光偏振与膜层;
表面散射; I:M15  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; I7+yu>  
光谱模型; k{ulu  
真彩色数据探测;
物体表面属性; }" STc&1  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; jEm =A8q  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   ^nLk{<D35  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; )BZ6QO`5n  
非序列系统错误排查;
体散射; >$7{H]  
荧光模型
kR <\iT0j  
@[#)zO  
特色:     Qp-P[Tc  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     2BO"mc<#$  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     0GQKM~|H  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     or(P?Ro  
p3qKtMs0!  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     YoSBS   
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     QwLSL<.  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     xu@+b~C\  
6 )lWuY]e  
报名方式:     q:m qA$n  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     l4y>uZ>a  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   !.7m4mKzo  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   Ue=1NnRDkA  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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