【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7598
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   .6SdSB ^M  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! 'p-jMD}O  
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主办:Zemax China     `x$d8(1J`#  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     _z\oDd`'  
地点:上海 r&)/3^S '  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   )v;>6(  
g 'c4&Do  
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课程安排: ZT4._|2  
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成像设计 +oBf\!{cW  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 TYWajcch  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; \+fP&  
材料库、镜头库介绍; LW?] ~|  
如何定义新材料; p.TR1BHw  
如何使用镜头库;
MTF; 4Ub_;EI>  
双高斯镜头设计及优化; |;'V":yDs  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; xb0hJ~e  
寻找最佳非球面; LdI)  
曲率套样板; >`n0{:.1za  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; W*;~(hDz  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; [Av87!kJ!X  
坐标断点面的使用技巧; "6^tG[G%  
序列模式棱镜建模; 5fv eQI~!  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; ,$Qa]UN5Q  
加工误差、装配误差; R!W!8rr3  
灵敏度分析; +N"A5U  
反灵敏度分析; X3(:)zUL  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; gC;y>YGP  
局部优化; [0yKd?e  
全局优化; \ lP c,8)  
锤形优化; I8gGP'  
优化函数架构技巧; ldrKk'S,B  
透镜优化实例; T=:O(R1*0  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; jU)r~QhN  
投影系统设计; mC n,I  
集光系统设计;
公差评价标准; 2al%J%  
公差操作数; 'Z+w\0}@  
补偿变量的使用; 9bl&\Ykt.  
单透镜公差分析; %CfJ.;BDNE  
库克镜头公差分析; C 6Bh[:V&  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   v#a`*^ ^  
实例设计及分析; gZ%B9i:  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; W tnZF]1:u  
小结及答疑;
公差脚本的使用; Q mOG2  
镜头出图、CAD出图; ,]i ^/fT  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 -6;0 x  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 gTY\B.  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; Jn +[:s.  
光源与探测器;
案例:背光模组; nj!)\U  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; >"f,'S5*  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; &}nU#)IX  
光偏振与膜层;
表面散射; j.uN`cU!  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; -?!|W-}@G=  
光谱模型; `mQY%p|  
真彩色数据探测;
物体表面属性; u ?7(A %  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; RU,f|hB 4  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   3q R@$pm  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; {W3%n*q  
非序列系统错误排查;
体散射; : &mYz(1q  
荧光模型
v!E0/ gD  
@b=tjQO_  
特色:     5z~Ji77!  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     D'YF [l  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     9U>ID{  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     ?cG+rC%  
;DL|%-%;$r  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     5@tpJ8E8$  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     J#L-Slav%  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     fGcAkEstT!  
p>Ju)o  
报名方式:     j1N1c~2  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     3I^KJ/)A  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   V5i_\A  
i/Q*AG>b  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
    @es}bKP  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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