【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程 Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! 主办:Zemax China 时间:成像设计:2018年09月12~14日 | 照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日 地点:上海 讲师:Heng Li —— Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师 课程安排: 成像设计 本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。
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