【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7648
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   D#>+]}5@x  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! +MG(YP/ l  
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主办:Zemax China     3zJbb3e  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     tAD{{GW9  
地点:上海 zh5{t0E}C  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   'jp nQcwxx  
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课程安排: 27b7~!  
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成像设计 VFN\ Ryd  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 6x\+j  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; sa\v9  
材料库、镜头库介绍; g`KVF"8  
如何定义新材料; C3fSSa%b  
如何使用镜头库;
MTF; s&S8P;K|  
双高斯镜头设计及优化; 9wLV\>i  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; bK `'zi  
寻找最佳非球面; .+XGbs]kCi  
曲率套样板; "rz|sbj  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; \LB =_W$  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; H27J kZ&  
坐标断点面的使用技巧; x1)G!i  
序列模式棱镜建模; ZOl =zn  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; ^n5[pF}Gw  
加工误差、装配误差; 3=9yR* *  
灵敏度分析; )I<p<HQD  
反灵敏度分析; SJ1 1LF3)  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; /#J)EH4p  
局部优化; C)> ])'S  
全局优化; <Vp7G%"'W  
锤形优化; 3=xb%Upw  
优化函数架构技巧; TRG(W^<F  
透镜优化实例; !pI)i*V|  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; gkUG*Zw  
投影系统设计;  $3](6  
集光系统设计;
公差评价标准; ShanwaCDqv  
公差操作数; G.K3'^_  
补偿变量的使用; \ief [  
单透镜公差分析; ^=Rqa \;  
库克镜头公差分析; ,)A^3Q*  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   $NP5Z0v7  
实例设计及分析; b7>^w<ki  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; R}4o{l6  
小结及答疑;
公差脚本的使用; h d1H  
镜头出图、CAD出图; j(G}4dib  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 6~\z]LZ  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 XJnDx 09h  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; S1^u/$*6  
光源与探测器;
案例:背光模组; ZjLzS]\a  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; D"fE )@Q@Y  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; }NPF]P;  
光偏振与膜层;
表面散射; W#|]m=2W  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; N1WP  
光谱模型; ?iG}Qj@5  
真彩色数据探测;
物体表面属性; ?}%Gr,tj2  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; pRmnS;*z&  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   Y4`MgP8t  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; "Iu[)O%  
非序列系统错误排查;
体散射; /zn|?Y[  
荧光模型
&NV[)6!  
sChMIbq!Av  
特色:     $enh>!mU  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     jJl6H~ "q  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     VtF^; f  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     xI'<4lo7Z  
>%+ "-bY  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     ^[XxE Lx  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     cs`/^2Vf"#  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     W<TW6_*e  
%*P59%  
报名方式:     o7VNw8Bp  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     CFqoD l  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   *w4jET>  
S{j|("W"[  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   0Mt2Rg}  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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