【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7563
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   pM?~AYWb  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! Hw o _;fV  
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主办:Zemax China     5c` ;~  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     Jh3  
地点:上海 mol,iM*l  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   C< c6Ub  
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课程安排: `eM ZhY o  
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成像设计 1'qXT{f/~  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 bzFac5n)Q  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; < D/K[mz-  
材料库、镜头库介绍; eUcb e33  
如何定义新材料; "V' r}>  
如何使用镜头库;
MTF; KL'1)G"OH  
双高斯镜头设计及优化; M0w Uis:`  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; i1cd9  
寻找最佳非球面; nQ\`]_C  
曲率套样板; H?=W]<!W{y  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; `;j1H<L  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; k24I1DlR8  
坐标断点面的使用技巧; !T,<p    
序列模式棱镜建模; },8|9z#pyB  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; MJ JC6:  
加工误差、装配误差; Cw,a)XB  
灵敏度分析; 4 neZw'm  
反灵敏度分析; ^3dc#5]Xf  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; )/jDt dI  
局部优化; <  o?ua}  
全局优化; 8g0 #WV  
锤形优化; "du(BZw  
优化函数架构技巧; z\m$>C|  
透镜优化实例; JKZVd`fF  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; G<?RH"RZr  
投影系统设计; ,/?J!W@m  
集光系统设计;
公差评价标准; sE?%;uBb  
公差操作数; +j 9+~  
补偿变量的使用; f SkC>mWv  
单透镜公差分析; y~+LzDV  
库克镜头公差分析; M7/5e3  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   ,7B7X)m{3  
实例设计及分析; nX!%9x$3  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; Xex7Lr&  
小结及答疑;
公差脚本的使用; !0l|[c4 e>  
镜头出图、CAD出图; PA^*|^;Xh  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 ! v![K  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 PB^rniYh  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; ~!({U nt+'  
光源与探测器;
案例:背光模组; >V^8<^?G  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; >GIQT ?O6  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; k{f1q>gd  
光偏振与膜层;
表面散射; >&.N_,*  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; f/sz/KC]~  
光谱模型; 0aY|:  
真彩色数据探测;
物体表面属性; <sC(a7i1  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; +O8[4zn&k  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   xQZOGq  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; =#2%[kGq  
非序列系统错误排查;
体散射; tV=Qt[|@  
荧光模型
wf  ]Wm  
|KJGM1]G  
特色:     U9]&KNx  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     cUug}/!I  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     t XzuP_0  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     }!K #  
;ab[YMkH  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     ^h_rE |c  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     y0 vo-Q  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     MTwzL<@$  
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报名方式:     P=}l.R*1G  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     _&HFKpHQ  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   #IppjaPl8  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   6U).vg<  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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