【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7782
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   dxlaoyv:  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! TCJH^gDt  
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主办:Zemax China     0IoS|P}6a  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     q: . URl  
地点:上海 Hk%m`|Z  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   WZaOw w  
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课程安排: 8Z%C7 "4O  
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成像设计 C,:3z  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 ;3NA,JA#Y  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; &G?b|Tb2  
材料库、镜头库介绍; d V#h~  
如何定义新材料; %\-u&  
如何使用镜头库;
MTF; S5]rIcM  
双高斯镜头设计及优化; . Rxz;-VA  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; jJ86Ch  
寻找最佳非球面; (u@p[ncN}  
曲率套样板; <\@JbL*  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; S!o!NSn@1  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; - 8&M^-  
坐标断点面的使用技巧; ='<0z?Af  
序列模式棱镜建模; [aX'eM q  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; $d.UF!s  
加工误差、装配误差; knZee!FA7  
灵敏度分析; jLc4D'  
反灵敏度分析; gTZ1LJ  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; 3=V79&  
局部优化; 4' bup h1(  
全局优化; bY7d  
锤形优化; x7 jE Ns )  
优化函数架构技巧; j.X3SQb4G  
透镜优化实例; 75}BI&t3k  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; [_ESR/&N  
投影系统设计; 4)ez0[i$X  
集光系统设计;
公差评价标准; %{s<h6{R  
公差操作数; k_.%(ZE  
补偿变量的使用; n\&[^Q#b|  
单透镜公差分析; .0;Z:x_3  
库克镜头公差分析; '"Q;54S**  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   S !cc%  
实例设计及分析; ;_)&#X,?(  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; ]Ow A>fb  
小结及答疑;
公差脚本的使用; n%? bMDS  
镜头出图、CAD出图; %g}ri8  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 J< BBM.^]  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 uqPagt<  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; 4M'y9(  
光源与探测器;
案例:背光模组; OF*m 9  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; ?n9gqwO  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; %{g<{\@4(;  
光偏振与膜层;
表面散射; ,Hn{nVU1R=  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; Oe=7z'o  
光谱模型; (gZKR2hO  
真彩色数据探测;
物体表面属性; 57^ X@ra$  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; F ?xbVN  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   J@w Q3#5a  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; s,O:l0  
非序列系统错误排查;
体散射; \&|)?'8rS  
荧光模型
.~qu,q7k~  
X*6bsYbK-  
特色:     [f,; +Ze  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     +gh6eY8  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     FP=%e]vJ  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     {H{u[XR[z  
IY2ca Xu  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     -R@mnG 5  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     :786Z,')  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     Kf#9-.}?  
fF37P8Ir  
报名方式:     HTuv_kE  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     X-O/&WRYQ  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   :r* skV|  
Lgl%fO/<t  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   `''\FPhh  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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