Simulator是Essential Macleod的新增功能, 可以帮助我们回答这个问题。
wX$|( Y } 光学薄膜中的
公差评定是个实际问题。没有一个好的、通用的分析技术。Essential Macleod里的一个简单工具－Errors, 假定所有膜层中的厚度误差都是随机的，能够显示在许多薄膜中独立控制命令不可能精确，而用其它的方法确实能够构造这些薄膜。实事上，公差和误差的影响很大程度上依赖于控制技术。通过将误差的Monte Carlo近似扩展到控制过程的实际
模型中去，Simulator解决了公差问题。
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c7 使用由Runsheet创建的控制设计, Simulator模拟沉积的控制，同时引入随机和
系统效应，如信号中的噪声，加工因素的不同，
材料密度误差等等，并且显示这些
参数对最后
模拟的薄膜产品的影响。
YUHiD * w51l;2$des Simulator比简单的监控问题回答得更多。所有与薄膜系统有关的其它的参数都可以转换成检查模拟和它们影响的参数。Simulator的结果显示，在没有改变系统中噪声或
精度时，某一膜层的监控过程中的一个小小改变，对DWDM应用的多腔分束器的设计中，能否引起实质性的改进。
wqi0%Cu* BeN]D }LeS3\+UHl 注：要Simulator操作正确，Runsheet提高必须也存在。
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