[求助]高反膜机差问题 [复制链接]

ouyuu:怀疑是排气能力差异。 T&/n.-@nk  
开镀真空一样吗？都开充氧了吗？充氧压力多少？ (2018-02-02 09:16)  ^bPpcm=  

xPm{'J+b~  
开镀真空一样，都是2E-3Pa，都开充氧了，目前最主要问题是稳定性不好，有些Run次镀出来是OK的，有些就不好，不知道是哪里造成的稳定性差

dcfcwdx:[表情]单层的PEAK对比过，确实是有差异的，关键是怎样调节折射率和吸收呢？ (2018-03-03 22:41)  njJTEUd">  

7~1Fy{tc  
是什么差异呢？整体向上偏移？还是波峰更高，波谷更低？ wO!>kc<  
如果是吸收，那就改善充氧。 ncUhCp?'  
如果是折射率差异，那就改变蒸发速率。 `%Kj+^|DS  

ouyuu:是什么差异呢？整体向上偏移？还是波峰更高，波谷更低？ )`|`PB  
如果是吸收，那就改善充氧。 j{tr''
yN  
如果是折射率差异，那就改变蒸发速率。 vgNrHq&2q  
 (2018-03-06 13:05)  :c}PW"0v  

!qH)ttW  
镀TiO2单层来比较是，较差的机台的波峰低，波谷高，也就是峰谷差小，还有，改善充氧就是改变APC压力吗？

dcfcwdx:镀TiO2单层来比较是，较差的机台的波峰低，波谷高，也就是峰谷差小，还有，改善充氧就是改变APC压力吗？ (2018-03-13 20:40)  =k!F`H`/%'  

Bq
,Pk5b  
看起来像是折射率问题。 TPZ^hL>ao  
你这边用离子源辅助吗？ gp{Z]{io  
如果有，就改变一下离子源参数 yzGBGC  
如果没有，就改一下电子枪速率看看。

ouyuu:看起来像是折射率问题。 @p7*JLO  
你这边用离子源辅助吗？ !*B1Eo--cN  
如果有，就改变一下离子源参数 ,09d"7`X  
如果没有，就改一下电子枪速率看看。 (2018-03-15 23:35)  t. kOR<  

d?OsVT;U  
既然是折射率差异，那就直接按照两台机各自的折射率重新设计一下膜系不就好了么；如果要变更速率，那折射率不也一样跟着变了，变量不就多了么。

H5p&dNO  
机台不一样，折射率是有差异的，这个差异在镀膜厚是就明显

奔跑的小骏马:既然是折射率差异，那就直接按照两台机各自的折射率重新设计一下膜系不就好了么；如果要变更速率，那折射率不也一样跟着变了，变量不就多了么。 (2018-03-23 11:51)  wW+@3bPl  

r:Rk!z*  
一般不建议改膜系，膜系不一致会带来更多问题。 DDwm
;,eZ  
而且随着设备使用，说不定折射率还会变的，你就不停改膜系？ j
$Z:S~*  
折射率则简单很多，找到影响折射率的因素这才是关键。 ]:r6
 
]KE"|}B  
其实也不叫变更速率，水晶设置有一项叫TOOLING，这个TOOLING值改变一下就相当于改了速率。

现在膜系成熟了没有？？